型號:OTF-1200X-50-DSL
產(chǎn)品概述:OTF-1200X-50-DSL是一款水平滑軌爐,其爐管直徑為Φ50mm,爐體滑動(dòng)速度可以根據(jù)實(shí)驗(yàn)需要而設(shè)置(1mm/sec-100mm/s),并可以設(shè)置左右反復(fù)滑動(dòng),同時(shí)還可以設(shè)置爐體的滑動(dòng)距離。此款管式爐專門設(shè)計(jì)用CVD方法定向生長單壁碳納米管(SWCNTs)。通時(shí)此款滑軌爐也可用來在硅片上生長熔點(diǎn)較低的金屬單晶。此系統(tǒng)包含了可設(shè)30段程序的高溫爐、一根Φ50*1000mm的石英管和一套不銹鋼真空法蘭
爐體結(jié)構(gòu) | · 采用雙層殼體結(jié)構(gòu),并帶有風(fēng)冷系統(tǒng) · 一個(gè)滑軌安裝在爐體下端,可通過一6“的觸摸屏來控制爐體移動(dòng)方向、滑動(dòng)速度和往返次數(shù) · 采用高純氧化鋁纖維作為爐膛材料,并且表面涂有美國進(jìn)口高溫氧化鋁涂層,可提高加熱效率和延長使用壽命。 |
功率 | 1.5KW |
電壓 | AC220V,單相 |
共工作溫度 | 1200℃(≤1小時(shí)) |
連續(xù)工作溫度 | 1100℃ |
加熱區(qū)域 |
· 加熱區(qū):200mm(單溫區(qū)) · 通過管堵位置和爐體移動(dòng)可形成想得到的溫度梯度
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加熱元件 | 摻鉬鐵鉻鋁(表面涂有高溫氧化鋯涂層,可延長其使用壽命) |
爐管 | · 高純石英管 · 尺寸:50 mm OD x 46mm ID x 1000 mm L · 儀器加熱前,必須放入管堵,以防止熱量輻射影響法蘭的密封性 |
溫控系統(tǒng) | · 采用PID方式調(diào)節(jié)溫度,可設(shè)置30段升溫、降溫和保溫程序 · 設(shè)置有溫度過高和斷偶保護(hù)系統(tǒng) · 控溫精度:±1℃ · 可選測PC控制軟件,將升溫程序和溫度曲線導(dǎo)入到電腦中 · 控溫儀表操作視頻
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爐體滑動(dòng)控制系統(tǒng) | · 觸摸屏控制 · 爐體移動(dòng)有手動(dòng)和自動(dòng)控制兩種控制狀態(tài),在手動(dòng)狀態(tài)和自動(dòng)狀態(tài)下均可設(shè)定左右移動(dòng)的速度,但只有在自動(dòng)狀態(tài)下才能設(shè)定左右移動(dòng)的次數(shù)。 · 含蜂鳴報(bào)警器,當(dāng)爐體觸碰到限位開關(guān)就會(huì)產(chǎn)生報(bào)警,并切斷控制電路,使?fàn)t體停止移動(dòng)。 · 可顯示高溫爐內(nèi)的爐溫,與之通訊 |
密封法蘭 | · 儀器中配有一套不銹鋼密封法蘭(上面已安裝不銹鋼針閥和機(jī)械壓力表) · 法蘭上有一Φ6.35的鎧裝孔,可將熱電偶插入到爐管中,更準(zhǔn)確地測量樣品的實(shí)際溫度 |
石英氣體噴嘴 | 可選配石英氣體噴嘴,將反應(yīng)氣體與緩沖清洗氣體分開通入,可有效減少副反應(yīng)發(fā)生,實(shí)現(xiàn)CVD工藝,如局部控制前體濃度化學(xué)氣相沉積工藝(ALC CVD)或單晶二維材料薄膜的生長工藝等。
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真空度 | · 10E-5 torr (用分子泵) · 10E-2?torr?(用直聯(lián)式機(jī)械泵) |
滑軌長度 | 1200mm |
操作視頻 | 操作視頻 |
產(chǎn)品尺寸 | · 315 x 300 x 380 mm (爐體) · 1200 x 400 x 530 mm ( 整個(gè)外形) · 360 x 180 x 300 mm(電器控制柜) |
重量 | 100KG |
質(zhì)保期 | 一年質(zhì)保期,終生維護(hù)(不包括爐管、硅膠密封圈和加熱元件損耗件) |
質(zhì)量認(rèn)證 | CE certified |