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膜技術(shù)在電子工業(yè)純水制造中的應(yīng)用

2010年01月16日 10:14:34人氣:3686來源:四川卓源環(huán)??萍加邢薰?/span>

        摘要:純水在電子工業(yè)主要是電子元器件生產(chǎn)中的重要作用日益突出,純水水質(zhì)已成為影響電子元器件產(chǎn)品質(zhì)量、生產(chǎn)成品率及生產(chǎn)成本的重要因素之一,水質(zhì)要求也越來越高。在電子元器件生產(chǎn)中,高純水主要用作清洗用水及用來配制各種溶液、漿料,不同的電子元器件生產(chǎn)中純水的用途及對(duì)水質(zhì)的要求也不同。  

  一、純水在電子元器件生產(chǎn)中的作用
 
 
  純水在電子工業(yè)主要是電子元器件生產(chǎn)中的重要作用日益突出,純水水質(zhì)已成為影響電子元器件產(chǎn)品質(zhì)量、生產(chǎn)成品率及生產(chǎn)成本的重要因素之一,水質(zhì)要求也越來越高。在電子元器件生產(chǎn)中,高純水主要用作清洗用水及用來配制各種溶液、漿料,不同的電子元器件生產(chǎn)中純水的用途及對(duì)水質(zhì)的要求也不同。
 
  在電解電容器生產(chǎn)中,鋁箔及工作件的清洗需用純水,如水中含有氯離子,電容器就會(huì)漏電。在電子管生產(chǎn)中,電子管陰極涂敷碳酸鹽,如其中混入雜質(zhì),就會(huì)影響電子的發(fā)射,進(jìn)而影響電子管的放大性能及壽命,因此其配液要使用純水。在顯像管和陰極射線管生產(chǎn)中,其熒光屏內(nèi)壁用噴涂法或沉淀法附著一層熒光物質(zhì),是鋅或其他金屬的硫化物組成的熒光粉顆粒并用硅酸鉀粘合而成,其配制需用純水,如純水中含銅在8ppb以上,就會(huì)引起發(fā)光變色;含鐵在50ppb以上就會(huì)使發(fā)光變色、變暗、閃光跳躍;含有機(jī)物膠體、微粒、細(xì)菌等,就會(huì)降低熒光層強(qiáng)度及其與玻殼的粘附力,并會(huì)造成氣泡、條跡、漏光點(diǎn)等廢次品。在黑白顯像管熒光屏生產(chǎn)的12個(gè)工序中,玻殼清洗、沉淀、濕潤、洗膜、管頸清洗等5個(gè)工序需使用純水,每生產(chǎn)一個(gè)顯像管需用純水80kg[1]。液晶顯示器的屏面需用純水清洗和用純水配液,如純水中存在著金屬離子、微生物、微粒等雜質(zhì),就會(huì)使液晶顯示電路發(fā)生故障,影響液晶屏質(zhì)量,導(dǎo)致廢、次品。顯像管、液晶顯示器生產(chǎn)對(duì)純水水質(zhì)的要求見表1。
 
表1   顯像管、液晶顯示器用純水水質(zhì) 

 
項(xiàng)目單位
電阻率
MΩ·cm
(25t)
細(xì)菌
個(gè)/ml
微粒
個(gè)/ml
TOC
mg/L
Na+
μg/L
K+
μg/L
Cu
μg/L
Fe
μg/L
Zn
μg/L
黑白顯像管
彩色顯像管
液晶顯示器
≥5
≥5
≥5 
≤5
≤1
≤1
≤10(Φ>0.5μ)
≤10(Φ>1μ)
≤10(Φ>1μ)
≤0.5
≤0.5
≤1
≤10
≤10
≤10
≤10
≤10
≤10
≤8
≤10
≤10
≤10
≤10
≤10
≤10
≤10
≤10


 

   在晶體管、集成電路生產(chǎn)中,純水主要用于清洗硅片,另有少量用于藥液配制,硅片氧化的水汽源,部分設(shè)備的冷卻水,配制電鍍液等。集成電路生產(chǎn)過程中的80%的工序需要使用高純水清洗硅片,水質(zhì)的好壞與集成電路的產(chǎn)品質(zhì)量及生產(chǎn)成品率關(guān)系很大。水中的堿金屬(K、Na等)會(huì)使絕緣膜耐壓不良,重金屬(Au、Ag、Cu等)會(huì)使PN結(jié)耐壓降低,Ⅲ族元素(B、Al、Ga等)會(huì)使N型半導(dǎo)體特性惡化,Ⅴ族元素(P、As、Sb等)會(huì)使P型半導(dǎo)體特性惡化[2],水中細(xì)菌高溫碳化后的磷(約占灰分的20-50%)會(huì)使P型硅片上的局部區(qū)域變?yōu)镹型硅而導(dǎo)致器件性能變壞[3],水中的顆粒(包括細(xì)菌)如吸附在硅片表面,就會(huì)引起電路短路或特性變差。集成電路生產(chǎn)對(duì)純水水質(zhì)的要求見表2。

表2  集成電路(DRAM)對(duì)純水水質(zhì)的要求[4][5][6]

 
集成電路(DRAM)集成度
16K
64K
256K
1M
4M
16M
相鄰線距(μm)
4
2.2
1.8
1.2
0.8
0.5
微粒
直徑(μm)
0.4
0.2
0.2
0.1
0.08
0.05
個(gè)數(shù)(PCS/ml)
<100
<100
<20
<20
<10
<10
細(xì)菌(CFU/100ML)
<100
<50
<10
<5
<1
<0.5
電阻率(μs/cm,25℃)
>16
>17
>17.5
>18
>18
>18.2
TOC(ppb)
<1000
<500
<100
<50
<30
<10
DO(ppb)
<500
<200
<100
<80
<50
<10
Na+(ppb)
<1
<1
<0.8
<0.5
<0.1
<0.1


    二、膜技術(shù)在純水制造中的應(yīng)用

  純水制造中應(yīng)用的膜技術(shù)主要有電滲析(ED)、反滲透(RO)、納濾(NF)、超濾(UF)、微濾(MF),其工作原理、作用等見表3。

表3  純水制造中常用的膜技術(shù)
 
膜組件名稱
ED
RO
NF
UF
MF
微孔孔徑
 
5-50埃
15-85埃
50-1000埃(1μm)
0.03-100μm
工作原理
離子選擇透過性
1.優(yōu)先吸附-毛細(xì)管理論
2.氫鏈理論
3.擴(kuò)散理論
同左
濾膜篩濾作用
同左
作用
去除無機(jī)鹽離子
    去除無機(jī)鹽離子,以及有機(jī)物、微生物、膠體、熱源、病毒等
    去除二價(jià)、三價(jià)離子,M>100的有機(jī)物,以及微生物、膠體、熱源、病毒等
    去除懸濁物、膠體以及M>6000的有機(jī)物
去除懸濁物
組件形式
膜堆式
    大多為卷式,少量為中空纖維
同左
    大多為中空纖維,少量為卷式
    摺迭濾筒式
工作壓力(Mpa)
0.03-0.3
1-4
0.5-1.5
0.1-0.5
0.05-0.5
水回收率(%)
50-80
50-75
50-85
90-95
100
使用壽命(年)
3-8
3-5
3-5
3-5
3-6個(gè)月
水站位置
除鹽工序
除鹽工序
1.除鹽工序
2.RO前的軟化
    大多為純水站終端精處理,少數(shù)為RO前的預(yù)處理
1.RO、NF、UF前的保安過濾(3-10μm)
2.離子交換后濾除樹脂碎片(1μm)
3.UV后濾除細(xì)菌死體(0.2或 0.45μm)
4.純水站終端過濾(0.03-0.45μm)


 

  與傳統(tǒng)的水處理技術(shù)相比,膜技術(shù)具有工藝簡(jiǎn)單、操作方便、易于自動(dòng)控制、能耗小、無污染、去除雜質(zhì)效率高、運(yùn)行成本低等優(yōu)點(diǎn),特別是幾種膜技術(shù)的配合使用,再輔之以其他水處理工藝,如石英砂過濾、活性炭吸附、脫氣、離子交換、UV殺菌等,為去除水中的各種雜質(zhì),滿足日益發(fā)展的電子工業(yè)對(duì)高純水的需要,提供了有效而可靠的手段,而且也只有應(yīng)用了多種膜技術(shù),才能生產(chǎn)出合格、穩(wěn)定的高純水,才能生產(chǎn)出大規(guī)模、超大規(guī)模、甚大規(guī)模集成電路(LSI、VLSI、ULSI),從而使計(jì)算機(jī)、雷達(dá)、通訊、自動(dòng)控制等現(xiàn)代電子工業(yè)的發(fā)展和應(yīng)用得以實(shí)現(xiàn)。值得一提的是:當(dāng)原水的含鹽量大于400mg/L時(shí),純水制造的除鹽工序采用RO-離子交換工藝后,比早先單用離子交換可節(jié)約酸、堿90%左右,使離子交換柱的周期產(chǎn)水量提高10倍左右[7],事實(shí)證明,可以降低純水制造的運(yùn)行費(fèi)用和制水成本,可以減少工人的勞動(dòng)強(qiáng)度,可以減少對(duì)環(huán)境的污染,并可使純水水質(zhì)得到提高并長(zhǎng)期穩(wěn)定。據(jù)統(tǒng)計(jì),在我國電子工業(yè)引進(jìn)的純水制造系統(tǒng)中,有RO的約占系統(tǒng)總數(shù)的90%,有UF的約占20%,有MF的幾乎為100%[8],而ED在我國國產(chǎn)的純水系統(tǒng)特別是早期投產(chǎn)的純水系統(tǒng),以及為數(shù)眾多的對(duì)純水水質(zhì)要求不高的一般電子元器件(如電阻、電容、黑白顯像管、電子管等)制造廠的純水系統(tǒng)中占有相當(dāng)?shù)谋壤?/p>

  三、微電子工廠純水站使用膜技術(shù)實(shí)況

  現(xiàn)以某微電子工廠中的某一純水站使用膜技術(shù)的實(shí)況,說明膜技術(shù)在電子工業(yè)純水制造中的應(yīng)用。其純水制造系統(tǒng)工藝流程見圖1。

  1.前級(jí)UF

  前級(jí)UF是用于去除水中的懸濁物、膠體及有機(jī)物,降低水的SDI值,確保RO的安全運(yùn)行。前級(jí)UF有5組,每組45根組件,共225根組件,進(jìn)水280m3/h,透過水250 m3/h,濃縮水排放,回收率約90%。UF組件為美國Romicon公司生產(chǎn),型號(hào)HF-BZ-20-PM80,組件直徑5in,長(zhǎng)43in,內(nèi)壓式中空纖維膜,纖維直徑20mil(0.51mm),共有2940根纖維,膜面積132ft2,膜材料為PS(聚砜),截留分子量8萬。UF前采用5μm保安過濾器。

  2.一級(jí)RO

  水中加入還原劑Na2SO3(加藥量為水中余氯值的1.8倍)以防止余氯氧化腐蝕RO膜,加入防垢劑(NaPO3)6(加藥量為5ppm)以防止CaCO3、CaSO4等在RO膜上結(jié)垢,再經(jīng)5μm 保安過濾器后由高壓泵打進(jìn)一級(jí)RO。一級(jí)RO有4組,均為二段。其中三組為每組8根膜容器,呈(5+3)排列,第4組為11根膜容器,呈(8+3)排列,膜容器由FRP(玻璃鋼)制成,每根內(nèi)裝6個(gè)RO元件,總共為210個(gè)RO元件,進(jìn)水250m3/h,透過水188m3/h,濃縮水排放,回收率為75%,脫鹽率>90%(初始脫鹽率>99%),操作壓力1.55Mpa。RO元件為美國HYDRANAUTICS(海德能)公司生產(chǎn),型號(hào)CPA3。元件直徑8in,長(zhǎng)40in,卷式膜,膜面積400ft2,膜材料為芳香聚酰胺復(fù)合膜,元件脫鹽率≥99.5%。

  3.二級(jí)RO

  一級(jí)RO水箱出水中一部分進(jìn)入A系統(tǒng),先加NaOH(CP級(jí))調(diào)節(jié)pH為8.2-8.6,使水中CO2生成HCO3-,被二級(jí)RO除去,以減輕混床離子交換的負(fù)擔(dān),采用二級(jí)RO可以使混床再生周期延長(zhǎng)一倍,減少再生酸堿耗量,并可進(jìn)一步去除TOC和膠體物質(zhì)。二級(jí)RO前采用3μm保安過濾器,二級(jí)RO為一組三段,共10根膜容器,按(6+3+1)排列,每根容器內(nèi)裝6只RO元件,共60只RO元件,進(jìn)水70m3/h,出水62m3/h,濃水排至超濾水箱,回收率為90%,脫鹽率>70%(初始脫鹽率>80%),RO元件的生產(chǎn)廠、型號(hào)與一級(jí)RO相同。

  4.后級(jí)UF

  后級(jí)UF是用于去除水中的微粒、微生物、膠體、有機(jī)物等的終端過濾設(shè)備。

  A系統(tǒng)后級(jí)UF為3組,每組18支,共54支組件,進(jìn)水92 m3/h,出水90 m3/h,濃水排至一級(jí)RO水箱,回收率約98%。UF組件為美國Romicon公司生產(chǎn),型號(hào)HF-132-20-PM10,組件直徑5in,長(zhǎng)43in,內(nèi)壓式中空纖維膜,纖維直徑20mil(0.51mm),共有2940根纖維,膜面積132ft2,膜材料為PS(聚砜),截留分子量1萬。

  B系統(tǒng)后級(jí)UF為8組,每組9支,共72支組件,進(jìn)水168 m3/h,出水164 m3/h,回收率約98%,UF組件制造廠及型號(hào)與A系統(tǒng)后級(jí)UF相同。

  C系統(tǒng)后級(jí)UF有3支組件,進(jìn)水4 m3/h,出水3.9 m3/h,回收率約98%,UF元件為美國HYDRANAUTICS公司生產(chǎn),型號(hào)4040-FTV-2120,組件直徑3.94in,長(zhǎng)40in,卷式膜,膜面積55ft2,膜材料為聚烯烴,截留分子量5萬。

  5.微濾

  本系統(tǒng)的微濾可分為三類,*類為前級(jí)UF、RO前的保安過濾器,用于去除水中的懸濁物微粒,降低水的SDI值,濾芯為PP(聚丙烯)膜摺迭式濾芯,孔徑為5μm或3μm。第二類在離子交換后,用于濾除離子交換樹脂碎片,濾芯為PP膜摺迭式濾芯,孔徑為1μm。第三類在UV殺菌器后,用于濾除微生物尸體,濾芯為N-6(尼龍6)膜摺迭式濾芯,孔徑為0.45μm或0.2μm。以上濾芯均為核工業(yè)部第八研究所生產(chǎn)。

  除上述水站外,該廠還有另幾套高純水制造系統(tǒng),RO除使用復(fù)合膜元件外,還有使用CA醋酸纖維素膜元件。

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