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離子研磨儀

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產(chǎn)品簡(jiǎn)介

日立離子研磨儀標(biāo)準(zhǔn)機(jī)型IM4000Ⅱ能夠進(jìn)行截面研磨和平面研磨。還可通過(guò)低溫控制及真空轉(zhuǎn)移等各種選配功能，針對(duì)不同樣品進(jìn)行截面研磨。

詳細(xì)介紹

產(chǎn)品詳情

品牌：Hitachi
產(chǎn) 地：日本

低溫控制功能：將液氮裝入杜瓦罐中，以此作為冷卻源間接冷卻樣品。IM4000Ⅱ配有溫度調(diào)節(jié)控制功能，以防止樹(shù)脂和橡膠樣品過(guò)冷。

真空轉(zhuǎn)移功能：離子研磨加工后的樣品可以在不接觸空氣的狀態(tài)下直接轉(zhuǎn)移到SEM*1、AFM*2上。真空轉(zhuǎn)移功能與低溫控制功能可同時(shí)使用。（平面研磨真空轉(zhuǎn)移功能不適用低溫控制功能）。

日立離子研磨儀能夠進(jìn)行截面研磨和平面研磨。還可通過(guò)低溫控制及真空轉(zhuǎn)移等各種選配功能，針對(duì)不同樣品進(jìn)行截面研磨。

離子束加工是在真空條件下，離子槍中低壓惰性氣體離子化，出射的陽(yáng)離子又經(jīng)加速，獲得具有一定速度的離子束投射到樣品表面，由于離子帶正電荷，其質(zhì)量比電子大數(shù)千、數(shù)萬(wàn)倍，所以離子束比電子束具有更大的撞擊動(dòng)能，靠微觀的機(jī)械撞擊能量加工樣品。

高效率的截面研磨
配備截面研磨能力達(dá)到500 µm/h*1以上的高效率離子槍。因此，即使是硬質(zhì)材料，也可以高效地制備出截面樣品。

復(fù)合型研磨儀
截面研磨
即使是由不同硬度以及研磨速度材質(zhì)所構(gòu)成的復(fù)合材料，也可以通過(guò)IM4000Ⅱ制備出平滑的研磨面優(yōu)化加工條件，降低因離子束所致樣品的損傷。
可裝載20 mm(W) × 12 mm(D) × 7 mm(H)的樣品

截面研磨的主要用途
金屬以及復(fù)合材料、高分子材料等樣品的截面制備
含有裂縫和空隙等特定位置的樣品截面制備
多層樣品的截面制備以及對(duì)樣品EBSD分析的前處理。

平面研磨
直徑約為5mm范圍內(nèi)的均勻加工
應(yīng)用領(lǐng)域廣泛
可裝載直徑50 mm × 高度25 mm的樣品
可選擇旋轉(zhuǎn)和擺動(dòng)（±60度，±90度的擺動(dòng)）2種加工方法

平面研磨的主要用途
去除機(jī)械研磨中難以消除的細(xì)小劃痕和形變
去除樣品表層部分
消除因FIB加工所致的損傷層

關(guān)鍵詞：離子研磨儀研磨儀

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