Nicomp 380 Z3000 Basic zeta電位及納米粒度儀
Z3000 Basic 面議污水處理設(shè)備 污泥處理設(shè)備 水處理過濾器 軟化水設(shè)備/除鹽設(shè)備 純凈水設(shè)備 消毒設(shè)備|加藥設(shè)備 供水/儲(chǔ)水/集水/排水/輔助 水處理膜 過濾器濾芯 水處理濾料 水處理劑 水處理填料 其它水處理設(shè)備
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產(chǎn)品型號(hào)Z3000 Basic
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更新時(shí)間:2022-11-25 15:01:44瀏覽次數(shù):226次
聯(lián)系我時(shí),請(qǐng)告知來自 環(huán)保在線zeta電位及納米粒度儀內(nèi)容解析參考如下:儀器型號(hào):Z3000Basic工作原理:粒度分布:動(dòng)態(tài)光散射儀(DynamicLightScattering,DLS)ZETA電位:多普勒電泳光散射原理(DopplerElectrophoreticLightScattering,DELS)檢測(cè)范圍:粒徑范圍0
zeta電位及納米粒度儀內(nèi)容解析參考如下:
儀器型號(hào):Z3000 Basic
工作原理:
粒度分布:動(dòng)態(tài)光散射儀(Dynamic Light Scattering, DLS)
ZETA電位:多普勒電泳光散射原理(Doppler Electrophoretic Light Scattering, DELS)
檢測(cè)范圍:
粒徑范圍 0.3nm-10.0μm
ZETA電位 +/- 500mV
Nicomp 380 Z3000系列納米激光粒度儀是在原有的經(jīng)典型號(hào)380ZLS&S基礎(chǔ)上升級(jí)配套而來,采用動(dòng)態(tài)光散射(Dynamic Light Scattering, DLS)原理檢測(cè)分析顆粒的粒度分布,同機(jī)采用多普勒電泳光散射原理(Doppler Electrophoretic Light Scattering, DELS)檢測(cè)ZETA電位。粒徑檢測(cè)范圍 0.3nm – 10μm,ZETA電位檢測(cè)范圍為+/- 500mV。其配套粒度分析軟件復(fù)合采用了高斯( Gaussian)單峰算法和擁有技術(shù)的 Nicomp 多峰算法,對(duì)于多組分、粒徑分布不均勻分散體系的分析具有優(yōu)勢(shì)。ZETA電位模塊使用雙列直插式方形樣品池和鈀電極,一個(gè)電極可以使用成千上萬次。另外,采用可變電場(chǎng)適應(yīng)不同的樣品檢測(cè)需求。既保證檢測(cè)精度,亦幫用戶大大節(jié)省檢測(cè)成本。
技術(shù)優(yōu)勢(shì)
1、PMT高靈敏度檢測(cè)器;
2、可搭配不同功率光源;
3、雙列直插式電極和樣品池,可反復(fù)使用成千上萬次;
4、鈀電極;
5、精確度高,樣品真實(shí)值;
6、復(fù)合型算法:
高斯(Gaussion)單峰算法與的Nicomp多峰算法自由切換
相位分析法(PALS)和頻譜分析法(FALS)自由切換
7、快速檢測(cè),可以追溯歷史數(shù)據(jù);
8、結(jié)果數(shù)據(jù)以多種形式和格式呈現(xiàn);
9、符合USP,CP等個(gè)多藥典要求;
10、無需校準(zhǔn);
11、復(fù)合型算法:
(1)高斯(Gaussion)單峰算法與的Nicomp多峰算法自由切換
12、模塊化設(shè)計(jì)便于維護(hù)和升級(jí);
(1)可自動(dòng)稀釋模塊(選配);
(2)搭配多角度檢測(cè)器(選配);
(3)自動(dòng)進(jìn)樣系統(tǒng)(選配);
Nicomp多峰分布概念
基線調(diào)整自動(dòng)補(bǔ)償功能和高分辨率多峰算法是Nicomp 380系列儀器所的兩個(gè)主要特點(diǎn),Nicomp創(chuàng)始人Dave Nicole很早就認(rèn)識(shí)到傳統(tǒng)的動(dòng)態(tài)光散射理論僅給出高斯模式的粒度分布,這和實(shí)踐生產(chǎn)生活中不相符,因?yàn)楝F(xiàn)實(shí)中很多樣本是多分散體系,非單分散體系,而且高斯分布靈敏性不足,分辨率不高,這些特點(diǎn)都制約了納米粒度儀在實(shí)際生產(chǎn)生活中的使用。其開創(chuàng)性的開創(chuàng)了Nicomp多峰分布理論,大大提高了動(dòng)態(tài)光散射理論的分辨率和靈敏性。
圖一:Nicomp多分分布數(shù)據(jù)呈現(xiàn)
如圖一:此數(shù)據(jù)為Nicomp創(chuàng)始人Dave Nicole親測(cè)其血液所得的真實(shí)案例。其檢測(cè)項(xiàng)目為:高密度脂蛋白,低密度脂蛋白和超低密度脂蛋白,由圖中可以看出,其血液中三個(gè)組分的平均粒徑分別顯示在7.0nm;29.3nm和217.5nm。由此可見,Nicomp分布模式可以有效反應(yīng)多組分體系的粒徑分布。
Nicomp多峰分布優(yōu)勢(shì)
Nicomp系列儀器均可以自由在Gaussian分布模式和Nicomp多峰分布模式中切換。其不僅可以給出傳統(tǒng)的DLS系統(tǒng)的結(jié)果,更可以通過Nicomp多峰分布模式體現(xiàn)樣品的真實(shí)情況。依托于Nicomp系列儀器一系列優(yōu)異的算法和高靈敏性的硬件設(shè)計(jì),Nicomp納米激光粒度儀可以有效區(qū)分1:2的多分散體系。
圖二:高斯分布及Nicomp多峰分布對(duì)比圖
如圖二:此數(shù)據(jù)為檢測(cè)93nm和150nm的標(biāo)粒按照1:2的比例混合后所測(cè)得的數(shù)據(jù)。左邊為高斯分布(Gaussian)結(jié)果,右圖為Nicomp多峰分布算法結(jié)果,兩者都為光強(qiáng)徑數(shù)據(jù)。從高斯分布可以得到此混合標(biāo)粒的平均粒徑為110nm-120nm之間,卻無法得到實(shí)際的多組分體系結(jié)構(gòu)。從右側(cè)的Nicomp多峰分布可以得到結(jié)果為雙峰,即如數(shù)據(jù)呈現(xiàn),體系中的粒子主要分布于98.2nm以及190nm附近,這和實(shí)際情況相符。
為滿足不同客戶的實(shí)際檢測(cè)需求,我司的Nicomp 380 N3000會(huì)配備相應(yīng)的配置,旨在為客戶們?cè)诳刂瞥杀镜幕A(chǔ)上,得到需求的解決方案,達(dá)到收益。
產(chǎn)品優(yōu)勢(shì)
模塊化設(shè)計(jì)
Nicomp 380納米激光粒度儀是在應(yīng)用動(dòng)態(tài)光散射技術(shù)上的基礎(chǔ)上加入多模塊方法的*粒度儀。隨著模塊的升級(jí)和增加,Nicomp 380的功能體系越來越強(qiáng)大,可以用于各種復(fù)雜體系的檢測(cè)分析。
自動(dòng)稀釋模塊(選配)
帶有的自動(dòng)稀釋模塊消除了人工稀釋高濃度樣品帶來的誤差,且不需要人工不斷試錯(cuò)來獲得合適的測(cè)試濃度,這大大縮短了測(cè)試者寶貴時(shí)間,且無需培訓(xùn),測(cè)試結(jié)果重現(xiàn)性好,誤差率<1%。
380/HPLD大功率激光器
美國PSS粒度儀公司在開發(fā)儀器的過程中,考慮到在各種實(shí)驗(yàn)測(cè)試條件中不同的需求,對(duì)不同使用條件和環(huán)境配置了不同功率的激光發(fā)生器。大功率的激光器可以對(duì)極小的粒子也能搜集到足夠的散射信號(hào),使得儀器能夠得到極小粒子的粒徑分布。同樣,大功率激光器在測(cè)試大粒子的時(shí)候同樣也很有幫助,比如在檢測(cè)右旋糖酐大分子時(shí),折射率的特性會(huì)引起光散射強(qiáng)度不足。
因?yàn)榇蠊β始す馄鞯奶匦?,?huì)彌補(bǔ)散射光強(qiáng)的不足和衰減,測(cè)試極其微小的微乳、表面活性劑膠束、蛋白質(zhì)以及其他大分子不再是一個(gè)苛刻的難題。即使沒有色譜分離,Nicomp 380納米粒徑分析儀甚至也可以輕易估算出生物高分子的聚集程度。
雪崩二極管 (APD)高靈敏度檢測(cè)器(選配)
Nicomp 380納米粒徑分析儀可以裝配各種大功率的激光發(fā)生器和雪崩二極管檢測(cè)器(相比較傳統(tǒng)的光電倍增管有3-5倍放大增益效果)。
APD通常被用于散射發(fā)生不明顯的體系里來增加信噪比和敏感度,如蛋白質(zhì)、不溶性膠束、濃度極低的體系以及大分子基團(tuán),他們的顆粒的一般濃度為1mg/mL甚至更低,這些顆粒是由對(duì)光的散射不敏感的原子組成。APD外置了一個(gè)大功率激光發(fā)生器模塊,在非常短的時(shí)間內(nèi)就能檢測(cè)分析納米級(jí)顆粒的分布情況。
380/MA多角度檢測(cè)器(選配)
粒徑大于100 nm的顆粒在激光的照射下不會(huì)朝著各個(gè)方向散射。多角度檢測(cè)角器通過調(diào)節(jié)檢測(cè)角度來增加粒子對(duì)光的敏感性來測(cè)試某些特殊級(jí)別粒子。Nicomp 380可以配備范圍在10°-175,步長(zhǎng)0.7°的多角度測(cè)角器,從而使得單一90°檢測(cè)角測(cè)試不了的樣品,通過調(diào)節(jié)角度進(jìn)行檢測(cè),改善對(duì)大粒子多分散系粒徑分析的精確度。
目錄結(jié)構(gòu):
1.前言
2.動(dòng)態(tài)光散射原理
3.動(dòng)態(tài)光散射理論:光的干涉
小知識(shí):光電倍增管(PMT)
小知識(shí):光電二極管(APD)
5.粒子的擴(kuò)散效應(yīng)
6.Stoke-Einstein方程式
7.ZETA電勢(shì)電位原理
前言
近十幾年來,動(dòng)態(tài)光散射技術(shù)(Dynamic Light scattering, DLS),也被稱為準(zhǔn)彈性光散射(quasi-elastic light scattering, QELS)或光子相關(guān)光譜法(photon correlation spectroscopy, PCS),已經(jīng)被證明是表征液體中分散體系的粒徑分布(PSD)的極有用的分析工具。DLS技術(shù)的有效檢測(cè)粒徑范圍——從5am(0.005微米)到10幾個(gè)微米。DLS技術(shù)的優(yōu)勢(shì)相當(dāng)明顯,尤其是當(dāng)檢測(cè)到300nm以下亞微米的粒徑范圍時(shí),在此區(qū)間,其他的技術(shù)手段大部分都已經(jīng)失效或者無法得到準(zhǔn)確的結(jié)果。因此,基于DLS理論的設(shè)備儀器被廣泛采用用以表征特定體系的粒度分布,包括合成的高分子聚合物(如乳膠,PVCs等),水包油和油包水的乳劑,囊泡,膠團(tuán),微粒,生物大分子,顏料,燃料,硅土,金屬晶體,陶瓷和其他的膠體類混懸劑和分散體系。
動(dòng)態(tài)光散射原理
下圖所示為DLS系統(tǒng)的簡(jiǎn)單的示意圖。激光照射到盛有稀釋的顆?;鞈乙旱牟Aг嚬苤?。此玻璃試管溫度恒定,每一個(gè)粒子被入射光擊發(fā)后向各個(gè)方向散射。散射光的光強(qiáng)值和粒徑的分子量或體積(在特定濃度下)成比例關(guān)系,再帶入其他影響參數(shù)比如折射率,這就是經(jīng)典光散射(Classic light scattering)的理論基礎(chǔ)。
圖1:DLS系統(tǒng)示意圖
的動(dòng)態(tài)光散射方法(DLS)從傳統(tǒng)的光散射理論中分離,不再關(guān)注于光散射的光強(qiáng)值,而關(guān)注于光強(qiáng)隨著時(shí)間的波動(dòng)行為。簡(jiǎn)單來說,我們?cè)谝欢ń嵌龋ㄒ话闶褂?0°角)檢測(cè)分散溶劑中的混懸顆粒的總體散射光信息。由于粒度的擴(kuò)散,光強(qiáng)值不斷波動(dòng),理論上存在有非常理想化的波動(dòng)時(shí)間周期,此波動(dòng)時(shí)間和粒子的擴(kuò)散速度呈反比例關(guān)系。我們通過光強(qiáng)值的波動(dòng)自相關(guān)函數(shù)的計(jì)算來獲得隨時(shí)間變化的衰減指數(shù)曲線。從衰減時(shí)間常量τ,我們可以獲得粒子的擴(kuò)散速度D。使用Stokes-Einstein 方程式,我們最終可以計(jì)算得出顆粒的半徑(假定其是一個(gè)圓球形狀)。
動(dòng)態(tài)光散射理論:光的干涉
為了容易理解什么叫做強(qiáng)度隨時(shí)間波動(dòng),我們必須先理解相干疊加(coherent addition)或線性疊加(superposition)的概念,進(jìn)一步要知道檢測(cè)區(qū)域內(nèi)的不同的粒子產(chǎn)生了很多獨(dú)立散射光,這些獨(dú)立的散射光相干疊加或互相疊加的最終結(jié)果就是光強(qiáng)。這種物理現(xiàn)場(chǎng)被稱為“干涉"。下圖是光干涉圖樣。
每一束獨(dú)立的散射光波到達(dá)檢測(cè)器和入射激光波長(zhǎng)有相位關(guān)系,這主要取決于懸浮液中顆粒的精確定位。所有的光波在PMT檢測(cè)器的表面的狹縫中混合在一起,或者叫干涉在一起,最終在特定的角度可以檢測(cè)得到“凈"散射光強(qiáng)值,在DLS系統(tǒng)中,絕大部分都使用90度角。
小知識(shí)——光電倍增管(PMT)
MT)
光電倍增管(Photomultiplier,簡(jiǎn)稱PMT),是一種對(duì)紫外光、可見光和近紅外光極其敏感的特殊真空管。它能使進(jìn)入的微弱光信號(hào)增強(qiáng)至原本的108倍,使光信號(hào)能被測(cè)量。
光電倍增管示意圖
小知識(shí)——光電二極管(APD)
光電二極管是由玻璃封裝的真空裝置,其內(nèi)包含光電陰極 (photocathode),幾個(gè)二次發(fā)射極 (dynode)和一個(gè)陽極。入射光子撞擊光電陰極,產(chǎn)生光電效應(yīng),產(chǎn)生的光電子被聚焦到二次發(fā)射極。其后的工作原理如同電子倍增管,電子被加速到二次發(fā)射極產(chǎn)生多個(gè)二次電子,通常每個(gè)二次發(fā)射極的電位差在 100 到 200 伏特。二次電子流像瀑布一般,經(jīng)過一連串的二次發(fā)射極使得電子倍增,最后到達(dá)陽極。一般光電倍增管的二次發(fā)射極是分離式的,而電子倍增管的二次發(fā)射極是連續(xù)式的。
應(yīng)用
光電倍增管集高增益,低干擾,對(duì)高頻信號(hào)有高靈敏度的優(yōu)點(diǎn),因此被廣泛應(yīng)用于高能物理、天文等領(lǐng)域的研究工作,與及流體流速計(jì)算、醫(yī)學(xué)影像和連續(xù)鏡頭的剪輯。雪崩光電二極管(Avalanche photodiodes,簡(jiǎn)稱APDs)為光電倍增管的替代品。然而,后者仍在大部份的應(yīng)用情況下被采用。
動(dòng)態(tài)光散射理論: 粒子的擴(kuò)散效應(yīng)
懸浮的粒子并不是靜止不動(dòng)的,相反,他們以布朗運(yùn)動(dòng)(Brownian motion)的方式無規(guī)則的運(yùn)動(dòng),布朗運(yùn)動(dòng)主要是由于臨近的溶劑分子沖撞而引起的。因此,到達(dá)PMT檢測(cè)區(qū)的每一束散射光隨時(shí)間也呈無規(guī)則波動(dòng),這是由于產(chǎn)生散射光的粒子的位置不同而導(dǎo)致的無規(guī)則波動(dòng)。因?yàn)檫@些光互相干涉在一起,在檢測(cè)器中檢測(cè)到的光強(qiáng)值就會(huì)隨時(shí)間而不斷波動(dòng)。粒子很小的位移需要在相位上產(chǎn)生很大的變化,進(jìn)而產(chǎn)生有實(shí)際意義的波動(dòng),最終這些波動(dòng)在凈光強(qiáng)值上反應(yīng)出來。
DLS測(cè)量粒徑技術(shù)的關(guān)鍵物理概念是基于粒子的波動(dòng)時(shí)間周期是隨著粒子的粒徑大小而變化的。為了簡(jiǎn)化這個(gè)概念,我們現(xiàn)在假定粒子是均一大小的,具有相同的擴(kuò)散系數(shù)(diffusion coefficient)。分散體系中的小粒子運(yùn)動(dòng)的快,將會(huì)導(dǎo)致光強(qiáng)波動(dòng)信號(hào)變化很快;而相反地,大粒子擴(kuò)散地畢竟慢,導(dǎo)致了光強(qiáng)值的變化比較慢。
圖示4使用相同的時(shí)間周期來觀測(cè)不同大?。ㄐ?,中,大)的粒子產(chǎn)生的散射光強(qiáng)變化,請(qǐng)注意,橫坐標(biāo)是時(shí)間t。
我們需要再次強(qiáng)調(diào),光強(qiáng)的波動(dòng)并不是因?yàn)闄z測(cè)區(qū)域內(nèi)粒子的增減引起的
而是大量的粒子的位置變動(dòng)(位移)而引起的。
Stokes Einstein Equation
DLS技術(shù)的目標(biāo)是從原始數(shù)據(jù)(raw data)中確定粒子的擴(kuò)散系數(shù)“D"。原始數(shù)據(jù)主要是指光強(qiáng)信號(hào)的波動(dòng),比如上述圖4中所示。通過擴(kuò)散系數(shù)D我們可以很容易的計(jì)算出粒子的半徑,這時(shí)候就是廣為人知的Stokes-Einstein方程式:
D=kT/6πηR (2)
這里k 指的是玻爾茲曼常數(shù)1.38 x 10-16 erg K-1;
T是溫度;
η是分散溶劑的額剪切粘度,比如20℃的水的η=1.002×10-2 泊;
從上述公式2中我們可以看到,通常情況下,粒子的擴(kuò)散系數(shù)D會(huì)隨著溫度T的上升而增加。溫度進(jìn)而也會(huì)影響溶劑粘度η。例如,純水的粘度在25℃下會(huì)落到0.890×10-2泊,和20℃下相比會(huì)有10%的改變。毫無疑問,溶劑的粘度越小,粒子的無規(guī)則擴(kuò)散速度會(huì)越大,從而導(dǎo)致光強(qiáng)的波動(dòng)也越快。因此,溫度T的變化和粒徑的變化是分不開的,因?yàn)樗麄兌加绊懙搅藬U(kuò)散系數(shù)D。正因?yàn)檫@個(gè)原因,樣本的溫度必須保持恒定,而且必須非常精確,這樣才能獲得有實(shí)際意義的擴(kuò)散系數(shù)D。
從圖4的“噪聲"信號(hào)中無法直接提取出擴(kuò)散系數(shù)。但是可以清楚地看到,信號(hào)b比信號(hào)c波動(dòng)地快,但是比信號(hào)a波動(dòng)地慢,因?yàn)?,信?hào)b地粒徑一定在a和c之間,這只是很直觀地得到一個(gè)結(jié)論而已。然而,量化此種散射信號(hào)是一個(gè)很專業(yè)地課題。幸而,我們有數(shù)學(xué)方法來解決這個(gè)問題,這就是自相關(guān)函數(shù)(auto-correlation)。
自相關(guān)函數(shù)原理
現(xiàn)在讓我們?cè)O(shè)定散射光強(qiáng)的自相關(guān)函數(shù)為IS(t),在上述圖4中可以看到其隨時(shí)間而波動(dòng)。我們用C(t’)來標(biāo)識(shí)自相關(guān)函數(shù)。C(t’)可以通過如下方程式3來表達(dá):
C(t’)=< Is(t)*Is(t-t’) > (3)
括號(hào)< >表示有很多個(gè)t和對(duì)應(yīng)的Is值。也就是說,一次計(jì)算就是運(yùn)行很多Is(t)*Is(t-t’) 的加和,所有都具有相同的間隔時(shí)間段t’。
圖5是典型的Is(t)的波形圖,通過這張圖,我們可以認(rèn)為C(t’)和Is(t)之間有簡(jiǎn)單的比例關(guān)系,這張圖的意義在于通過C(t’)函數(shù)可以通過散射光強(qiáng)Is(t)的波動(dòng)變化“萃取"出非常有用的信息。
自相關(guān)函數(shù)C(t’)其實(shí)是表征的不同大小的粒子隨時(shí)間而衰變的規(guī)律。
Zeta電勢(shì)電位原理
1.1 什么是ZETA電勢(shì)電位
1.2 STERN雙電子層
1.3 DLS散射系統(tǒng)是如何測(cè)ZETA電位的?
什么是ZETA電勢(shì)電位
Zeta電位(Zeta potential)是指剪切面(Shear Plane)的電位,又叫電動(dòng)電位或電動(dòng)電勢(shì)(ζ-電位或ζ-電勢(shì)),是表征膠體分散系穩(wěn)定性的重要指標(biāo)。
我們知道膠體系統(tǒng)中有兩個(gè)相,分散相和連續(xù)相,分散相在納米和亞微米之間。因?yàn)槲⒘5牧胶苄?,因此它比表面積大從而有一些增強(qiáng)屬性使其穩(wěn)定懸浮。但是如果微粒開始絮凝,微粒的粒徑改變,性能也可能發(fā)生變化,如果不加以控制,絮凝體也可能進(jìn)一步團(tuán)聚形成沉淀,接著就會(huì)相位分離。當(dāng)我們建立穩(wěn)定分散體系時(shí),我們需要維持微粒的穩(wěn)定與分散,其中一個(gè)方法就是增強(qiáng)微粒表面電荷,然后這些微粒將帶偶極矩互相之間產(chǎn)生排斥,隨著微粒電荷的增加,微粒團(tuán)聚而形成絮凝的幾率降低。讓微粒分散,帶正電荷還是帶負(fù)電荷并不重要,重要的是電荷的值。我們研究微粒表面電荷的方法就是Zeta電勢(shì)電位。
STERN雙電子層
圖 1膠團(tuán)模型
膠核表面擁有一層離子,稱為電位離子,電位離子通過靜電作用,把溶液中電荷相反的離子吸引到膠核周圍,被吸引的離子稱為反離子,越靠近膠核表面的地方反離子越密集,相反,越遠(yuǎn)的地方反離子越稀疏,他們的電荷總量與電位離子相等并且符號(hào)相反。因此,整個(gè)膠團(tuán)是處于電中性狀態(tài),而膠核表面電勢(shì)是的,根據(jù)定義Zeta電位即為膠核表面電勢(shì)。
圖 2 STERN雙電子層模型
STERN雙電子層即為膠核表面以及擴(kuò)散層共同形成的電子層模型,值得注意的是擴(kuò)散層中帶電離子是分布在連續(xù)相中,因此其與分散介質(zhì)息息相關(guān)(例如:通過水分散的體系,擴(kuò)散層離子濃度以及擴(kuò)散層寬度與水有很大關(guān)聯(lián)),所以擴(kuò)散層都沒有明確的邊界。
DLS散射系統(tǒng)如何測(cè)ZETA電位
目前測(cè)量ZETA電位的方法主要有電泳法、電滲法、流動(dòng)電位法以及超聲波法。Nicomp Z3000采用的是主流的電泳法測(cè)試ZETA。
圖 3 儀器內(nèi)部光路圖
圖3是Nicomp 380 Z3000設(shè)備內(nèi)部的光路圖,激光通過一個(gè)分光器分成兩組光路,一組通過反射鏡直接進(jìn)入檢測(cè)器,另一組經(jīng)過一個(gè)可調(diào)節(jié)的濾光片后,再經(jīng)由微粒散射進(jìn)入到相關(guān)檢測(cè)器中。觀察兩組相干光的頻率變化或者相位變化,從而計(jì)算得出ZETA電勢(shì)電位。
從微觀角度來理解ZETA電位的計(jì)算,微粒由于帶電量或是帶點(diǎn)符號(hào)不同,其在電場(chǎng)作用下的運(yùn)動(dòng)狀態(tài)也會(huì)不同,這種運(yùn)動(dòng)狀態(tài)我們用電泳淌度μ(帶電離子在單位場(chǎng)強(qiáng)下的平均電泳遷移速率)來表征,我們通過檢測(cè)器觀察到的兩組相干光的頻率或是相位變化,結(jié)合電場(chǎng)強(qiáng)度,相干光波長(zhǎng)等參數(shù)通過簡(jiǎn)單的數(shù)學(xué)建模計(jì)算得出粒子的電泳淌度μ,最終ZETA電位通過公式:
換算得出。η為分散劑的剪切粘度,ε為分散劑的介電常數(shù)。
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儀器參數(shù)
粒徑檢測(cè)范圍 | 0.3nm-10μm |
分析方法 | 動(dòng)態(tài)光散射,Gaussian單峰算法和 Nicomp多峰算法 |
pH值范圍 | 1-14 |
溫度范圍 | 0℃-90 ℃ |
激光光源 | 15mW激光光源 |
檢測(cè)角度 | 90° |
檢測(cè)器 | APD(雪崩二極倍增管,可3-5倍增益放大) PMT(高性能光電檢測(cè)器) |
可用溶劑 | 水相,絕大多數(shù)有機(jī)相 |
樣品池 | 標(biāo)準(zhǔn)4 mL樣品池(1cm×4cm,高透光,石英玻璃或塑料); 1mL樣品池(玻璃,高透光率微量樣品池) |
分析軟件 | 必配科研級(jí)軟件; 符合 21 CFR Part 11 規(guī)范分析軟件(可選) |
驗(yàn)證文件 | 有 |
電壓 | 220–240VAC,50Hz或100–120VAC,60Hz |
計(jì)算機(jī)配置要求 | Windows 7及以上版本windows操作系統(tǒng),40Gb硬盤,2G內(nèi)存,USB接口 |
外形尺寸 | 56 cm * 41 cm * 24cm |
重量 | 約26kg(與配置有關(guān)) |
配件
大功率激光二極管 | PSS使用一系列大功率激光二極管來滿足更多更苛刻的要求。使用大功率激光照射,以便從小粒子出貨的足夠的入射光。15mW, 35mW, 50mW, 100mW — 波長(zhǎng)為635nm 的紅色二極管。20 mW 50 mW 和 100 mW 波長(zhǎng)為 514.4nm的綠色二極管。 |
雪崩光電二極管檢測(cè)器 (APD Detector)(選配) | 提供比普通光電倍增管(PMT)高3-5倍的靈敏度。 |
自動(dòng)稀釋系統(tǒng)模塊(選配) | 將初始濃度較高的樣本自動(dòng)稀釋至可檢測(cè)的的濃度,可稀釋初始固含量為50%的原始樣品,本模塊收保護(hù),其可免除人工稀釋樣品帶來的外界環(huán)境的干擾和數(shù)據(jù)上的誤差,此技術(shù)被用于批量進(jìn)樣和在線檢測(cè)的過程中。 |
多角度檢測(cè)系統(tǒng)模塊(選配) | 提供多角度的檢測(cè)能力。使用高精度的步進(jìn)電機(jī)和針孔光纖技術(shù)可對(duì)散射光的接收角度進(jìn)行調(diào)整,可為微粒粒徑分布提供可高分辨率的多角度檢測(cè)。對(duì)高濃度樣品(≤40%)以及大粒子多分散系的粒徑提供了提供15至175度之間不同角度上散射光的采集和檢測(cè)。 |
自動(dòng)進(jìn)樣器(選配) | 批量自動(dòng)進(jìn)樣器能實(shí)現(xiàn)最多76個(gè)連續(xù)樣本的分析而無需操作人員的干預(yù)。因此它是一個(gè)非常好的質(zhì)量控制工具,能增大樣品的處理量。大大節(jié)省了寶貴的時(shí)間。 |
樣品池 | 標(biāo)準(zhǔn)4 mL樣品池(1cm×4cm,高透光,石英玻璃或塑料);1mL樣品池(玻璃,高透光率微量樣品池,最小進(jìn)樣量10μL) |
應(yīng)用領(lǐng)域
納米載藥 | 納米藥物研究近些年主要著重在藥物的傳遞方向并發(fā)展迅猛,納米粒的大小可以有效減少毒性和副作用。所以,控制這些納米粒的粒徑大小是非常必要的。 |
磨料 | 磨料既有天然的也有合成的,用于研磨、切削、鉆孔、成形以及拋光。磨料是在力的作用下實(shí)現(xiàn)對(duì)硬度較低材料的磨削。磨料的質(zhì)量取決于磨料的粗糙度和顆粒的均勻性。 |
化學(xué)機(jī)械拋光液(CMP SLURRY) | 化學(xué)機(jī)械拋光是半導(dǎo)體制造加工過程中的重要步驟?;瘜W(xué)機(jī)械拋光液是由腐蝕性的化學(xué)組分和磨料(通常是氧化鋁、二氧化硅或氧化鈰)兩部分組成。拋光過程很大程度上取決于晶片表面構(gòu)型。晶片的加工誤差通常以埃計(jì),對(duì)晶片質(zhì)量至關(guān)重要。拋光液粒度越均勻、不聚集成膠則越有利于化學(xué)機(jī)械拋光加工過程的順利進(jìn)行。 |
陶瓷 | 陶瓷在工業(yè)中的應(yīng)用非常廣泛,從磚瓦到生物科研材料及半導(dǎo)體領(lǐng)域。在生產(chǎn)加工過程中監(jiān)測(cè)陶瓷顆粒的粒度及其粒度分布可以有效地控制最終產(chǎn)品的性能和質(zhì)量。 |
粘土 | 粘土是一種含水細(xì)小顆粒礦物質(zhì)天然材料。粉砂與粘土類似,但粉沙的顆粒比粘土大。粘土中易于混雜粉砂從而降低粘土的等級(jí)和使用性能。ISO14688定義粘土的顆粒小于63μm。 |
涂料 | 涂料種類繁多,用途廣泛。涂料的顆粒大小及粒度分布直接影響涂料的質(zhì)量和性能。 |
污染物監(jiān)測(cè) | 粒度檢測(cè)分析在產(chǎn)品的污染監(jiān)測(cè)方面起著重要作用,產(chǎn)品的污染對(duì)產(chǎn)品的質(zhì)量影響巨大。絕大多數(shù)行業(yè)都有相應(yīng)的標(biāo)準(zhǔn)、規(guī)程或規(guī)范,必須嚴(yán)格遵守和執(zhí)行,以保證產(chǎn)品滿足質(zhì)量要求。 |
化妝品 | 無論是普通化妝品還是保濕劑、止汗劑,它們的性能都直接與粒度的大小和分布有關(guān)。化妝品的顆粒大小會(huì)影響其在皮膚表面的涂抹性能、分布均勻性能以及反光性能。保濕乳液(一種乳劑)的粒度小于200納米時(shí)才能被皮膚良好吸收,而止汗劑的粒度只有足夠大時(shí)才能阻塞毛孔起到止汗的作用。 |
乳劑 | 乳劑是兩種互不相溶的液體經(jīng)乳化制成的非均勻分散體系,通常是水和油的混合物。乳劑有兩種類型,一種是水分散在油中,另一種是油分散在水中。常見的乳劑制品有牛奶(水包油型)和黃油(油包水型),加工過程中它們均需均質(zhì)化處理到所需的粒徑大小以期延長(zhǎng)保質(zhì)期。 |
食品 | 食品的原料(粉末及液體)通常來源于不同的加工廠,不同來源的原料必須滿足某些特定的標(biāo)準(zhǔn)以使最終制品的質(zhì)量均一穩(wěn)定。原料性質(zhì)的任何波動(dòng)都會(huì)對(duì)食品的口味和口感產(chǎn)生影響。用原料的粒度分布作為食品質(zhì)量保證和質(zhì)量控制(QA/QC)的一個(gè)指標(biāo)可確保生產(chǎn)出質(zhì)量均以穩(wěn)定的食品制品。 |
液體工作介質(zhì)/油 | 液體工作介質(zhì)(如:油)越來越昂貴,延長(zhǎng)液體介質(zhì)的壽命是目前普遍關(guān)心的問題。機(jī)械設(shè)備運(yùn)轉(zhuǎn)過程中會(huì)產(chǎn)生金屬屑或顆粒落入工作介質(zhì)中(如:油浴潤滑介質(zhì)或液力傳遞介質(zhì)),因此需要一種方法來確定介質(zhì)(油)的更換周期。通過監(jiān)測(cè)工作介質(zhì)(油)中顆粒的分布和變化可以確定更換工作介質(zhì)的周期以及延長(zhǎng)其使用壽命。 |
墨水 | 隨著打印機(jī)技術(shù)的不斷發(fā)展,打印機(jī)用的墨水變得越來越重要。噴墨打印機(jī)墨水的粒度應(yīng)當(dāng)控制在一定的尺度以下,且分布均勻,大的顆粒易于堵塞打印頭并影響打印質(zhì)量。墨水是通過研磨方法制得的,可用粒度檢測(cè)分析儀器設(shè)備監(jiān)測(cè)其研磨加工過程,以保證墨水的顆粒粒度分布均勻,避免產(chǎn)生聚集的大顆粒。 |
膠束 | 膠束是表面活性劑在溶液中的濃度超過某一臨界值后,其分子或離子自動(dòng)締合而成的膠體尺度大小的聚集體質(zhì)點(diǎn)微粒,這種膠體質(zhì)點(diǎn)與離子之間處于平衡狀態(tài)。乳液、色漆、制藥粉體、顏料、聚合物、蛋白質(zhì)大分、二氧化硅以及自組裝TiO2納米管(TNAs)等 |
尊敬的用戶您好,在對(duì)儀器還不了解的情況下,為了讓您可以選擇一款適合貴單位的設(shè)備,可以先寄送樣品到我們公司,由我們的技術(shù)人員幫您測(cè)試樣品,并將測(cè)試結(jié)果和數(shù)據(jù)報(bào)告發(fā)送到您郵箱或者將紙質(zhì)版寄送到貴單位。
下方鏈接是測(cè)試申請(qǐng)表,請(qǐng)下載填寫完整后隨樣品一起寄送過來。
下載鏈接在這里郵寄地址:中國上海閔行區(qū)漕河涇浦江高科技園 F區(qū) 新駿環(huán)路588號(hào)23幢402室
郵編:201204
:吳先生(請(qǐng)備注樣品)
電話:
Nicomp 380 系列彩頁 | ||
序號(hào) | 文件類型 | 下載鏈接 |
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3 | PSS_Z3000_納米粒度及Zeta電位分析儀_flyer_CN_v4.0 | |
4 | PSS_Nicomp_3000_粒度分析儀系列_Brochures_V4.4 |
AccuSizer 780 系列彩頁 | ||
序號(hào) | 文件類型 | 下載鏈接 |
1 | PSS_780合集_Brochures_CN_v3.0 | |
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5 | PSS_A7000_APS_大乳粒檢測(cè)儀_flyer_CN_v4.0 | |
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