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SYDC-200H控溫型浸漬提拉鍍膜機(jī)

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更新時(shí)間：2022-11-07 16:04:51瀏覽次數(shù)：246次

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上海三研科技有限公司

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產(chǎn)品簡(jiǎn)介

SYDC-200H控溫型浸漬提拉鍍膜機(jī) 垂直提拉機(jī) 提拉涂膜機(jī) Dip Coater“是專門為液相（特別是sol-gel法）制備薄膜材料而設(shè)計(jì)，對(duì)不同液體在恒溫箱體中通過(guò)浸漬提拉生長(zhǎng)薄膜。恒溫溫度、提拉速度、提拉高度、浸漬時(shí)間、鍍膜次數(shù)（多次多層鍍膜）、鍍膜間隔時(shí)間均連續(xù)可調(diào)、精密控制。對(duì)鍍膜基質(zhì)無(wú)特殊要求，片狀、塊狀、圓柱狀等均可鍍膜。運(yùn)行穩(wěn)定、液面無(wú)振動(dòng)，可極大提高實(shí)驗(yàn)精度與實(shí)驗(yàn)效率。

詳細(xì)介紹

SYDC-200控溫型浸漬提拉鍍膜機(jī)

一. 產(chǎn)品簡(jiǎn)介

控溫型浸漬提拉鍍膜機(jī)，主要用于在一定溫度下進(jìn)行提拉鍍膜的情況。把潔凈干燥的基片浸入溶液（溶膠）中，通過(guò)預(yù)先設(shè)置的參數(shù)，將浸漬后的基片以一定速度垂直提拉起來(lái)。在基片上附著一層膜，稱為 “濕凝膠膜"，隨著“濕凝膠膜"膜層中溶劑的揮發(fā)，膜層在基片上固化成為“干凝膠膜"。“干凝膠膜"經(jīng)過(guò)進(jìn)一步的干燥及高溫?zé)崽幚肀愕玫剿璧募{米薄膜材料。

恒溫溫度、提拉速度、提拉高度、浸漬時(shí)間、鍍膜次數(shù)（多次多層鍍膜）、鍍膜間隔時(shí)間均連續(xù)可調(diào)、精密控制。對(duì)鍍膜基質(zhì)無(wú)特殊要求，片狀、塊狀、圓柱狀等均可鍍膜。運(yùn)行穩(wěn)定、工作時(shí)液面無(wú)振動(dòng)，可極大提高實(shí)驗(yàn)精度與實(shí)驗(yàn)效率。

適用于硅片、玻璃、陶瓷、金屬等固體材料表面涂覆工藝。應(yīng)用于科學(xué)研究、產(chǎn)品生產(chǎn)。

三. 產(chǎn)品特點(diǎn)

1. 精密的垂直提拉裝置。*新升級(jí)為德國(guó)的垂直提拉裝置部件，采用特種功能材料制作，具有精密度高、傳動(dòng)無(wú)間隙、運(yùn)行平滑、耐腐蝕、終身免維護(hù)、使用壽命長(zhǎng)等特點(diǎn)。

2. 采用伺服電機(jī)驅(qū)動(dòng)。配合德國(guó)的垂直提拉裝置和程序控制系統(tǒng)，確保運(yùn)行精度及穩(wěn)定性；伺服電機(jī)運(yùn)轉(zhuǎn)時(shí)的高精度、平滑性、無(wú)抖動(dòng)等特點(diǎn)是步進(jìn)電機(jī)不可比擬的。

3. 多參數(shù)全自動(dòng)程序控制。共有六個(gè)參數(shù)設(shè)置：下降速度、浸漬時(shí)間、提拉速度、鍍膜尺寸、鍍膜次數(shù)、鍍膜間隔時(shí)間，各參數(shù)均連續(xù)可調(diào)，精密控制。鍍膜程序設(shè)定后，從下降到浸漬，再到提拉鍍膜的整個(gè)鍍膜過(guò)程全自動(dòng)運(yùn)行。

4. 鍍膜系統(tǒng)采用7英寸液晶觸摸屏使控制更方便；運(yùn)行時(shí)，各項(xiàng)參數(shù)實(shí)時(shí)顯示，更直觀了解鍍膜進(jìn)程；

5. 可設(shè)置多段程序控溫。精密控溫，溫度均勻性高。整個(gè)鍍膜過(guò)程在恒溫溫度場(chǎng)內(nèi)進(jìn)行，恒溫場(chǎng)溫度控制系統(tǒng)采用LCD液晶顯示。

6. 上下兩端均安裝有限位傳感器，提拉或下降運(yùn)行時(shí)，到限位處自動(dòng)停止，避免提拉或下降的超限運(yùn)行。

7. 高、低速均運(yùn)行平穩(wěn)，運(yùn)行連續(xù)、平滑。鍍膜時(shí)液面無(wú)振動(dòng)，使成膜更均勻；

8. 特殊設(shè)計(jì)的平口型夾具，兩面均勻夾持樣片，不會(huì)夾壞樣片；

四. 技術(shù)參數(shù)

1. 提拉速度范圍：1～8000 μm/s，*小分辨率1μm/s；

2. 適用基片尺寸：MIN 5×5 mm，MAX 200×200 mm，厚度MAX 10mm；

3. 浸漬時(shí)間：1～3600 s，*小分辨率1s；

4. 鍍膜次數(shù)：1～1000次，*少1次；

5. 每次鍍膜間隔時(shí)間：1～3600 s，*小分辨率1s；

6. 恒溫溫度：RT+10～200℃,溫度分辨率0.1℃；