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SFEW-3型超臨界納米粒子制備設(shè)備

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更新時間：2022-09-07 15:53:23瀏覽次數(shù)：193次

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產(chǎn)品簡介

超細(xì)微粒，特別是納米級粒子的研制，在當(dāng)前的*中已形成為一個熱門領(lǐng)域，在材料、化工、輕工、冶金、電子、生物醫(yī)學(xué)領(lǐng)域得到廣泛應(yīng)用。一、概述 SFEW-3型超臨界納米粒子...

詳細(xì)介紹

超細(xì)微粒，特別是納米級粒子的研制，在當(dāng)前的*中已形成為一個熱門領(lǐng)域，在材料、化工、輕工、冶金、電子、生物醫(yī)學(xué)領(lǐng)域得到廣泛應(yīng)用。
一、概述
SFEW-3型超臨界納米粒子制備裝置利用超臨界流體制備細(xì)微粒子這一技術(shù)，可以進(jìn)行顆粒、微球、微膠囊、多孔材料、脂質(zhì)體及其它微細(xì)材料的加工和制備。超細(xì)粒子的制備有多種方法，超臨界流體沉積技術(shù)作為一種*，能夠更準(zhǔn)確的控制結(jié)晶過程，能夠生產(chǎn)出平均粒徑很小的細(xì)微粒子，而且還可控制其粒度尺寸的分布。

二、制備工藝

RESS（超臨界溶液快速膨脹）法和GAS（氣體抗溶劑結(jié)晶）法，由GAS法派生而來的過程有SAS、ASES（PCA）、SEDS等。RESS法制備超細(xì)微粒利用了溶質(zhì)的溶解度隨SCF(超臨界流體)密度變化的關(guān)系，當(dāng)從超臨界流體狀態(tài)迅速膨脹到低壓、低溫的氣體狀態(tài)，溶質(zhì)的溶解度急劇下降，這個轉(zhuǎn)變使溶質(zhì)迅速成核和生長成為微粒而沉積。
GAS法主要原理：當(dāng)高壓氣體溶入含有溶質(zhì)的溶液相內(nèi)，使其中的溶劑發(fā)生膨脹，于是降低了溶質(zhì)在其中的溶解度，導(dǎo)致該溶質(zhì)的結(jié)晶析出。
ASES過程與GAS過程不同之處：在ASES過程中顆粒形成與干燥同時進(jìn)行，形成的顆粒中殘余的有機(jī)溶劑含量少。而GAS過程的結(jié)晶沉淀過程都是在液相中發(fā)生的，需要經(jīng)過長時間的洗滌操作才能得到干燥的固體顆粒。SEDS過程（超臨界流體強(qiáng)化溶液分散的沉淀過程）是將超臨界CO2、含有溶質(zhì)的水溶液和有機(jī)溶劑一起噴入結(jié)晶器，并經(jīng)短暫的接觸和混合過程。
超臨界流體沉積技術(shù)應(yīng)用有以下兩種：RESS（超臨界溶液快速膨脹）法和GAS（氣體抗溶劑結(jié)晶）法。本裝置主要采用RESS（超臨界溶液快速膨脹）法，但可兼顧GAS（氣體抗溶劑結(jié)晶）法。

二、主要技術(shù)參數(shù)：

1、超臨界形成釜及可視結(jié)晶器工作壓力：30MPa。

2、工作溫度：室溫-85℃

3、結(jié)晶器容積1000mL

4、超臨界形成釜容積：1000mL

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