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VTC-16-D 小型三靶等離子濺射儀

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更新時間：2022-11-09 16:10:24瀏覽次數(shù)：235次

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產(chǎn)品簡介

VTC-16-D是一款小型直流磁控等離子濺射鍍膜儀，其靶頭尺寸為2英寸，并且樣品臺的高度可以調(diào)節(jié)

詳細介紹

VTC-16-D是一款小型直流磁控等離子濺射鍍膜儀，其靶頭尺寸為2英寸，并且樣品臺的高度可以調(diào)節(jié)。此款鍍膜儀設(shè)計主要是制作一些金屬薄膜。

性能指標和基本配置
特點	● 特別為SEM樣品鍍導電性薄膜設(shè)計 ● 體積小巧，操作簡單，容易上手。 ● 擁有小型磁控靶頭，可以鍍金銀鉑等金屬。
主要參數(shù)	● 輸入電源：220V AC 50/60Hz ● 功率：200W ● 輸出電壓：500 VDC ● 濺射電流：0-50 mA可調(diào) ● 濺射時間：0-120S可調(diào)
濺射腔體	● 采用石英腔體，尺寸：166 mm OD x 150 mm ID x 150 mm H ● 密封：采用不銹鋼平法蘭的O形密封圈
濺射頭&樣品臺	● 濺射頭可安裝靶材直徑為2英寸，厚度0.1 - 2.5mm ● 濺射時間1-120S可調(diào) ● 儀器中安裝有直徑為50mm的不銹鋼樣品臺，其與濺射頭之間距離可調(diào)。 ● 可選購加熱型樣品臺，其加熱溫度為500℃ ● 安裝有一可手動操作的濺射擋板，可進行預(yù)濺射。
真空系統(tǒng)	● 安裝有KF25真空接口 ● 數(shù)字真空壓力表（Pa） ● 此系統(tǒng)可通入氣體運行 ● < 1.0E-2 Torr （采用機械泵）（僅供參考，詳情請點擊） ● < 1.0E-5 Torr（采用渦旋分子泵）（僅供參考，詳情請點擊） ● 可在本公司選購各種真空泵
進氣	● 設(shè)備上配1/4英寸進氣口，方便連接氣瓶 ● 設(shè)備前面板上裝有一氣流調(diào)節(jié)旋鈕，方便調(diào)節(jié)氣流
靶材	● 靶材尺寸要求：Φ50mm×(0.1 - 2.5) mm(厚度) ● 此設(shè)備標配為銅靶 ● 可在本公司選購各種靶材
各種靶材的參數(shù)（僅供參考）	對于濺射各種金屬靶材，需要摸索的濺射參數(shù)，下表是本公司實驗所設(shè)置的參數(shù)，歡迎您帶料來科晶實驗室摸索工藝（僅供參考，詳情請點擊）
	靶材種類	真空度（Pa）	濺射電流（mA）	時間（s）	濺射次數(shù)
	Au	31-33	28-30	100	1
	Ag	31	28	100	1
薄膜測厚儀（可選）	可在本公司選購薄膜測厚儀安裝在濺射儀上
產(chǎn)品尺寸	L460 mm × W 330 mm × H 540 mm
凈重	20 kg（不包括泵）
使用注意事項	● 有時為了達到理想的薄膜厚度，可能需要多次濺射鍍膜 ● 在濺射鍍膜前，確保濺射頭、靶材、基片和樣品臺的潔凈 ● 要達到薄膜與基底良好結(jié)合，請在濺射前清潔基材表面 ● 超聲波清洗（詳細參數(shù)點擊下面圖片）：（1）丙酮超聲，（2）異丙醇超聲-去除油脂，（3）吹氮氣干燥，（4）真空烘箱除去水分。 ● 等離子清洗（詳細參數(shù)點擊下面圖片）：可表面粗糙化，可激活表面化學鍵，可祛除額外的污染物。 ● 制造一個薄的緩沖層（5納米左右）：如Gr，Ti，Mo，Ta，可以應(yīng)用于改善金屬和合金的附著力。 ● 請使用>5N純度氬氣等離子體濺射 ● 濺射鍍膜機可以放入Ar或N2氣體手套箱中濺射 ● 由于能量低，該模型不適用于涂層的輕金屬材料如Al，Mg，Zn，Ni。請考慮我們的磁控濺射鍍膜機或熱蒸發(fā)鍍膜機。點擊下面圖片查看細節(jié) 超聲波清洗機等離子清洗機大功率磁控濺射儀蒸鍍儀
警告	● 注意：產(chǎn)品內(nèi)部安裝有高壓元件，禁止私自拆裝，帶電移動機體。 ● 氣瓶上應(yīng)安裝減壓閥（不包括），保證氣體的輸出壓力限制在0.02兆帕以下，以安全使用。 ● 濺射頭連接到高電壓。為了安全，操作者必須在關(guān)閉設(shè)備前裝樣和更換靶頭。
認證	CE認證
保修期	一年保修，終身技術(shù)支持。特別提示： 1.耗材部分如加熱元件，石英管，樣品坩堝等不包含在內(nèi)。 2.因使用腐蝕性氣體和酸性氣體造成的損害不在保修范圍內(nèi) 點擊查看售后服務(wù)承諾書。