ZEISS 高分辨電子掃描顯微鏡-EVO 10,具備自動(dòng)化工作流程的高清晰掃描電鏡
提高樣品的成像分辨率，提供更多表面細(xì)節(jié)信息
EVO 電鏡廣泛應(yīng)用于材料和生命科學(xué)領(lǐng)域。
在低電壓下，借助電子束減速和高分辨背散射電子成像技術(shù)獲取出色的樣品形貌細(xì)節(jié)。您還可以在可變環(huán)境條件下實(shí)時(shí)觀察材料的相互作用，控制樣品
室環(huán)境并實(shí)現(xiàn)含水生物樣品的詳細(xì)分析。
借助自動(dòng)化工作流程實(shí)現(xiàn)高效應(yīng)用。EVO 無(wú)二的 X 射線幾何學(xué)設(shè)計(jì)能確保在分析工作條件下達(dá)到分辨率。
技術(shù)規(guī)格
設(shè)備主要部件及技術(shù)要求：
該項(xiàng)目的設(shè)備必須是全新設(shè)備且整體進(jìn)口（包括所有零部件，元器件和附件等），滿足各自的技術(shù)指標(biāo)和性能，其性能應(yīng)達(dá)到水平，可靠性好，性能穩(wěn)定，控制精度高，使用、操作和維修方便，售后服務(wù)優(yōu)良，必須在河南地區(qū)常駐有售后工程師以方便后期維護(hù)。
1、基本要求
1.1 電子光學(xué)系統(tǒng)
1.1.1 發(fā)射源：鎢燈絲；
1.1.2 分辨率：高真空二次電子像 ≤3.0nm @30kV≤8.0nm @3kV低真空背散射電子像 ≤4.0nm（30kV）；
1.1.3 加速電壓范圍：200V－30kV，10V 步進(jìn)連續(xù)可調(diào)；
1.1.4 放大倍數(shù)范圍不小于：7X－1,000,000X，連續(xù)可調(diào)；
*1.1.5 探針電流范圍：0.5 pA~5μA，連續(xù)可調(diào)；
*1.1.6 電子束控制模式不少于以下幾種控制模式：分辨率模式、分析模式、大視野模式、大景深模式和魚眼模式；
*1.1.7 分析工作距離不大于 8.5mm 且分析工作距離下的視野范圍不小于 6mm，普通模式下視野范圍不小于 20mm；
1.2 真空系統(tǒng)
1.2.1 抽真空系統(tǒng)：渦輪分子泵 + 機(jī)械泵，不需要冷卻水
1.2.2 樣品室真空度：優(yōu)于優(yōu)于 3 x 10-4 Pa
1.2.3 抽真空時(shí)間：≤3 分鐘
1.3 樣品室及樣品臺(tái)
1.3.1 樣品室內(nèi)部尺寸不小于 310mm（直徑）×220mm（高）；3
*1.3.2 可放置的樣品尺寸和承重：樣品直徑不小于 230mm，高度不小于 100mm，樣品臺(tái)承重不小于5kg；
1.3.3 配備探測(cè)器：高真空二次電子探測(cè)器，背散射電子探測(cè)器，樣品室紅外 CCD 攝像裝置
*1.3.4 配置五軸馬達(dá)驅(qū)動(dòng)樣品臺(tái)：樣品臺(tái)馬達(dá)移動(dòng)范圍：不小于 80mm（X 方向），100mm（Y 方向），35mm（Z 方向），-10°~ 90°（傾斜），360°（旋轉(zhuǎn)）
1.3.5 樣品臺(tái)類型：全電動(dòng) 5 軸馬達(dá)驅(qū)動(dòng)樣品臺(tái)，雙軸搖桿操作系統(tǒng)；
1.3.6 樣品臺(tái)具有接觸報(bào)警與自停功能;
*1.3.7 馬達(dá)臺(tái)重復(fù)精度不低于 2um；
1.4 圖像處理系統(tǒng)
1.4.1 配套計(jì)算機(jī)系統(tǒng)：不低于 CPU P4 3.0GHz，RAM 512Mb，硬盤 120Gb，軟盤驅(qū)動(dòng)器 1.44Mb，光盤刻錄機(jī)，24″液晶顯示屏，鍵盤，鼠標(biāo)，USB 接口
1.4.2 顯示圖像分辨率：不小于 1024×768 像素
*1.4.3 單幅圖像存儲(chǔ)圖像分辨率：不小于 32k×24k 像素
1.4.4 存儲(chǔ)圖像格式：TIFF、BMP 與 JPEG
1.5 控制系統(tǒng)
1.5.1 配置 Windows 操作系統(tǒng)
1.5.2 配置專業(yè)的電子顯微鏡控制軟件
1.5.3 自動(dòng)功能：自動(dòng)電子槍啟動(dòng)，電子槍自動(dòng)對(duì)中，自動(dòng)偏壓調(diào)整，自動(dòng)和手動(dòng)聚焦，聚焦補(bǔ)償，動(dòng)態(tài)聚焦，旋轉(zhuǎn)補(bǔ)償，自動(dòng)消像散，圖像降噪處理。
1.5.4 圖像采集：像素平均、幀平均、幀積分、行平均、行積分；
1.5.5 顯示器：24″高對(duì)比度彩色平板顯示器；
1.5.6 顯示方式：全屏顯示、分屏顯示、灰度直方圖、輪廓方式、偽彩色；
1.5.7 圖像注釋與數(shù)據(jù)區(qū)：提供標(biāo)準(zhǔn)數(shù)據(jù)區(qū)和定制數(shù)據(jù)區(qū)，可在圖片上顯示各種電鏡參數(shù)和字符。
1.5.8 狀態(tài)菜單：顯示各種工作參數(shù)。
1.5.9 測(cè)量功能：可對(duì)圖像中的形貌進(jìn)行點(diǎn)間距、角度、直徑等測(cè)量。
1.6 能譜儀系統(tǒng)
1.6.1 功能：用于材料的微區(qū)成分定性、定量分析。
1.6.2 配置電制冷能譜儀，能譜儀窗口面積不小于 30mm2，能量分辨率(600000CPS) Mn-Ka 優(yōu)于129eV；
1.6.3 元素分析范圍：Be4～CF98；
1.6.4 能譜儀處理單元與計(jì)算機(jī)采用分立式設(shè)計(jì)，單探測(cè)器輸出計(jì)數(shù)率優(yōu)于 600,000CPS，可處理計(jì)數(shù)率1,500,000CPS；4
1.6.5 可將電鏡圖像傳輸?shù)侥茏V儀的顯示器上，并以該圖為中心做微區(qū)分析，實(shí)現(xiàn)點(diǎn)、區(qū)域定性定量分析，以及線掃描和面分布功能；
1.6.6 系統(tǒng)配置專業(yè)能譜儀數(shù)據(jù)處理工作站；
1.7 離子濺射儀
1.7.1 玻璃處理室：直徑不小于 100 毫米，高度不小于 130 毫米；
1.7.2 試樣臺(tái)尺寸：直徑不小于 40 毫米可同時(shí)放 6 個(gè)樣品杯；
1.7.3 靶尺寸：直徑不小于 58 毫米；
1.7.4 真空系統(tǒng)：直聯(lián)旋片真空泵 1 升/秒；
1.7.5 真空檢測(cè)：皮氏計(jì)；
1.7.6 真空保護(hù)：20Pa 配有微量充氣閥調(diào)節(jié)工作真空；
1.7.7 工作室工作媒介氣體：空氣或氬氣，配有氬氣專用進(jìn)氣口和微量充氣調(diào)節(jié)；
1.7.8 配置：內(nèi)置一塊金鈀。
2 產(chǎn)品配置要求
為達(dá)到上述技術(shù)指標(biāo)，投標(biāo)產(chǎn)品應(yīng)配置必要的硬、軟件。投標(biāo)產(chǎn)品不低于以下配置：
2.1 掃描電子顯微鏡 1 套；
2.2 RS232 能譜儀智能通訊接口 1 套；
2.3 電制冷能譜儀 1 套；
2.4 空氣壓縮機(jī) 1 套；
2.5 樣品室內(nèi)全自動(dòng)控制紅外 CCD 相機(jī) 1 套；
2.6 二次電子探測(cè)器 1 套，背散射電子探測(cè)器 1 套；
2.7 樣品束流檢測(cè)器或者束流檢測(cè)皮安表 1 套；
2.8 不間斷穩(wěn)壓電源 1 套；
2.9 碳導(dǎo)電雙面膠帶 2 卷和燈絲 1 盒（10 支）；
更簡(jiǎn)單、更智能、整合性更高
的表面成像能力
您可以在低電壓下利用高分辨背散射電子探測(cè)器（HD BSD）實(shí)現(xiàn)具有清晰襯度的表面細(xì)節(jié)成像。針對(duì)電子束敏感樣品或表面形貌分析，電子束減速技術(shù)能夠提高分辨率及增強(qiáng)表面細(xì)節(jié)信息。成像過程中的漂移校正有助于進(jìn)一步提高邊緣分辨率。EVO 系列可提供包含高性能 HD 束源在內(nèi)的三類電子束源技術(shù)，通過組合應(yīng)用開創(chuàng)圖像質(zhì)量全新標(biāo)準(zhǔn)。
智能化成像 – 性能高效
EVO 能夠提高制造和質(zhì)量控制領(lǐng)域的工作效率。試想一下，將典型的工作流程從 400 多步操作簡(jiǎn)化為 15 步，以三種不同的放大倍率在 9 個(gè)樣本上對(duì)感興趣的 4 個(gè)點(diǎn)進(jìn)行成像。智能化系統(tǒng)能夠自動(dòng)完成光路對(duì)中、調(diào)節(jié)放大倍率、聚焦和移動(dòng)載物臺(tái) – 一切都為最終的圖像采集，系統(tǒng)會(huì)根據(jù)所選的樣品設(shè)置成像條件。通過易于操作的click-stop 按鈕控制鏡筒中間的光闌孔，從而獲得可靠且重復(fù)性高的檢測(cè)結(jié)果。
環(huán)境電子顯微鏡技術(shù)
EVO LS 可在不同溫度、壓力和濕度條件下觀察生命科學(xué)樣品及材料樣品的納米級(jí)信息。使用EVO LS 能獲得細(xì)胞、植物和生物在自然水合狀態(tài)下的細(xì)節(jié)信息。分析材料性能，如耐蝕性、耐熱性及涂鍍性能。EVO LS 型環(huán)境掃描電鏡能在高達(dá) 3000 Pa 的壓力下獲取高品質(zhì)圖像，輕松完成含水樣品的成像，同時(shí)利用計(jì)算機(jī)控制環(huán)境條件，以避免出現(xiàn)脫水假象。
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