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詳細(xì)摘要： 臺式直讀光普儀預(yù)先安裝的牌號金屬數(shù)據(jù)庫，可協(xié)助您快速而輕松地識別牌號。該數(shù)據(jù)庫能提供來自69個國家和標(biāo)準(zhǔn)中超過339000種材料的1200多萬條記錄 – 無需耗...

詳細(xì)摘要： 正置偏光顯微鏡配置為 LED 照明使用透射光或入射光，或者也可以一次性將其配置為使用兩種光源。

詳細(xì)摘要： 研究級立體顯微鏡可選配研究級的透射觀察載物臺, 10倍23mm寬視野目鏡，另有16x,25x,40x目鏡可選

詳細(xì)摘要： Leica S8 APO立體顯微鏡配備格林諾夫復(fù)消色差立體光學(xué)顯微鏡，具有8:1 的連續(xù)變倍能力以及長達(dá)75毫米的工作距離，可以輕易地完成放大倍數(shù)高達(dá)80倍的工...

詳細(xì)摘要： 體視顯微鏡是進(jìn)行模擬顯微鏡檢查*的寶貴設(shè)備。它以經(jīng)濟(jì)有效的解決方案實(shí)現(xiàn)快速投資回報。與所有其他 S9 顯微鏡一樣

詳細(xì)摘要： Leica DM 4M正置金相顯微鏡適合金屬、陶瓷、高分子材料、電子元件, 粉塵顆粒等樣品的觀察分析·模塊化設(shè)計(jì)，可實(shí)現(xiàn)反射觀察、透反射觀察配置

詳細(xì)摘要： 倒置金相顯微鏡光強(qiáng)、光闌、觀察方式和聚光鏡調(diào)節(jié)可由按鍵和計(jì)算機(jī)操作控制操作，并自動在不同倍數(shù)物鏡下拍的照片中加相應(yīng)倍數(shù)標(biāo)尺具有色溫恒定系統(tǒng)，提供工作效率

詳細(xì)摘要： Leica DM 6M正置金相顯微鏡能自動記憶在不同物鏡下和不同觀察方式下光強(qiáng)、光闌大小及聚光鏡的組合，自動恢復(fù)到位，操作簡單快速

詳細(xì)摘要： 正置金相顯微鏡的人體工學(xué)設(shè)計(jì)符合用戶的體形，有助于長時間保持放松姿勢。Leica DM 2700M可調(diào)節(jié)高度的聚焦旋鈕為個人提供了定制化的選項(xiàng)，短時間內(nèi)便可適應(yīng)...

詳細(xì)摘要： 超景深視頻顯微鏡 可加快您的日常工作，尤其是重復(fù)性任務(wù)。系統(tǒng)會在后臺自動存儲設(shè)置。數(shù)字顯微鏡的編碼功能可令數(shù)據(jù)更加準(zhǔn)確可靠，并有助于避免出錯。

詳細(xì)摘要： 白光共聚焦干涉顯微鏡采用了非接觸式三維光學(xué)表面測量技術(shù)。設(shè)計(jì)用于提高您的工作效率，它是一款融合了高清晰度共聚焦顯微鏡和干涉測量技術(shù)優(yōu)點(diǎn)的多功能雙核系統(tǒng)。

詳細(xì)摘要： Leica DMS1000立體顯微鏡設(shè)置可通過紅外無線遙控器來進(jìn)行設(shè)置。只需簡單按一下按鈕，就可選擇拍攝/查看圖像或者影片功能。內(nèi)置CMOS相機(jī)可直接拍攝5百萬...

詳細(xì)摘要： 立體顯微鏡是一款完整的數(shù)字顯微鏡系統(tǒng)，其采用HDM的顯示器，而不是目鏡。徠卡的高品質(zhì)8:1變焦光學(xué)器件與一個2.5MP攝像頭相結(jié)合，提供達(dá)30fps的全高清實(shí)時...

詳細(xì)摘要： X射線顯微鏡超高分辨率可到達(dá)亞微米級，強(qiáng)大的功能性可以提供原位/4D 解決方案。與傳統(tǒng)的層析成像相比，CT-COMPACT nano納米分辨率不受樣本大小的限制...

詳細(xì)摘要： 落地式直讀光譜儀是一種金屬分析儀，專為個生產(chǎn)階段提供優(yōu)異的分析，同時*不會影響您的生產(chǎn)率。

詳細(xì)摘要： 便攜式直讀光譜儀采用噴射電極技術(shù)有效減少氣隙，采用單個通用適配器，可測量直徑為1 毫米的線材

詳細(xì)摘要： 移動式直讀光譜儀自動化系統(tǒng)可集成到鋼鐵廠的生產(chǎn)線中，或者集成到金屬加工流程中，用于提供生產(chǎn)控制，監(jiān)控化學(xué)成分，以及降低不同牌號材料混雜的風(fēng)險。

詳細(xì)摘要： 手持式X射線熒光光譜儀提供*的輕元素 （鎂、鋁、硅、磷、硫、氯）分析，檢測限度低，且可每天提供準(zhǔn)確可靠結(jié)果。

詳細(xì)摘要： 固定式直讀光譜儀不僅可以分析絕大多數(shù)金屬及其合金中的主量和次量元素，還可以分析痕量的雜質(zhì)元素

詳細(xì)摘要： 直讀光譜儀：由于行業(yè)法規(guī)日益嚴(yán)格，供應(yīng)鏈變得復(fù)雜以及更多地使用廢料作為基礎(chǔ)材料，因此鑄造廠和金屬制造商必須將雜質(zhì)和痕量元素控制在低ppm范圍內(nèi)。在過去，這一級別...