目錄:上海乾拓貿(mào)易有限公司>>日本SMC|SMC電磁閥>>SMC氣動(dòng)元件>> SY7420-5DZ-02-F2日本SMC位置傳感器ISA3-GCP-3LB-L2驅(qū)動(dòng)方式
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更新時(shí)間：2024-12-03 21:05:26瀏覽次數(shù)：1613評(píng)價(jià)
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| 加工定制 | 否 | 輸出信號(hào) | 其他 |
|---|---|---|---|
| 制作工藝 | 其他 |
日本SMC位置傳感器ISA3-GCP-3LB-L2驅(qū)動(dòng)方式
制造工藝：
二次光刻光敏區(qū)工藝。采用此技術(shù)，在次光刻
后去掉膠層，進(jìn)行氧化層的生長(zhǎng)，約為500 a左右
件下（0.32μm） 有大的分辯率。此時(shí)光電流大
，分辯率高。注入條件為：磷注入， 能量為
；然后進(jìn)行次光刻，透過(guò)二氧化硅層進(jìn)行光敏
區(qū)bf2 的離子注入。這有兩個(gè)方面處，一是可有
光敏區(qū)內(nèi)外電阻率比控工藝。影響高分辯率的因素
有結(jié)深、邊界條件及有效光敏區(qū)內(nèi)外電阻率之比等
效地保護(hù)光敏區(qū)的表面，保護(hù)二氧化硅和硅的界面
；二是利用其屏蔽作用制得滿足器件要求的結(jié)深。
。對(duì)于同一種器件結(jié)構(gòu)，光敏區(qū)在一個(gè)結(jié)深條
60kev , 劑量為4e15;硼注入， 能量60kev , 劑量為
1e13;光敏注入，能量為40kev ,劑量為4e13。
類型介紹：
它是利用檢測(cè)平衡狀態(tài)下浮子浮力的變化來(lái)進(jìn)行位
置測(cè)量的。此外，它還可以配備微機(jī)，使其具有自
的衰減愈小，但是反射效率也小，所以需要根據(jù)距
離、物體表面狀況等因素來(lái)選擇聲波傳感器類型
檢、自診斷和遠(yuǎn)傳的功能，它的是測(cè)量位置的
通過(guò)向被測(cè)物體表面發(fā)射聲波，被其反射后，傳
感器接受，通過(guò)時(shí)間和聲速來(lái)計(jì)算其到物體表面的
范圍寬、精度高。它是一種非接觸式位置的產(chǎn)品，
對(duì)于一些不宜接觸測(cè)量的場(chǎng)合是的選擇。它是
距離。聲波有一個(gè)特性它的頻率愈低，隨著距離
。高性能產(chǎn)品能分別出哪些是信號(hào)波，哪些是噪聲
，而且還可以在高溫和大風(fēng)的情況下檢測(cè)液位。
日本SMC位置傳感器ISA3-GCP-3LB-L2驅(qū)動(dòng)方式
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