超高速離子細(xì)胞乳化機(jī)，醫(yī)藥乳化機(jī)，超高速乳化機(jī)，均質(zhì)乳化機(jī)，納米乳化機(jī)，生物乳化機(jī)
離子
離子是指原子由于自身或外界的作用而失去或得到一個(gè)或幾個(gè)電子使其達(dá)到外層電子數(shù)為8個(gè)或2個(gè)的穩(wěn)定結(jié)構(gòu)。這一過(guò)程稱為電離。電離過(guò)程所需或放出的能量稱為電離能。與分子、原子一樣，離子也是構(gòu)成物質(zhì)的基本粒子。
超高速離子細(xì)胞乳化機(jī)，上海shsina高剪切乳化機(jī)采用分體式結(jié)構(gòu)，轉(zhuǎn)速高達(dá)14000rpm，線速度44m/s，剪切研磨能力強(qiáng)，透過(guò)乳化機(jī)定、轉(zhuǎn)齒之間的間隙（間隙可調(diào)）時(shí)受到強(qiáng)大的剪切力、摩擦力、高頻振動(dòng)等物理作用，使物料被有效地乳化、分散和粉碎，達(dá)到物料超細(xì)粉碎及乳化的效果。
乳化機(jī)NKD2000系列特別適合于膠體溶液、超細(xì)懸浮液和乳液的生產(chǎn)。除了高轉(zhuǎn)速和靈活可調(diào)的定轉(zhuǎn)子間隙外，NKD在摩擦狀態(tài)下工作，也就被稱做濕磨。在錐形轉(zhuǎn)子和定子之間有一個(gè)寬的入口間隙和窄的出口間隙，在工作中，分散頭偏心運(yùn)轉(zhuǎn)使溶液出現(xiàn)渦流，因此可以達(dá)到更好的研磨分散的效果。NKD2000整機(jī)采用幾何機(jī)構(gòu)的研磨定轉(zhuǎn)子，的表面處理和優(yōu)質(zhì)材料，可以滿足不同行業(yè)的多種需求。
結(jié)構(gòu)：三道磨碎區(qū)：一級(jí)為粗磨碎區(qū)，二級(jí)為細(xì)磨碎區(qū)，三級(jí)為超微磨碎區(qū)。我們的磨頭的結(jié)構(gòu)：溝槽的結(jié)構(gòu)式斜齒，每個(gè)磨頭的溝槽深度不一樣，并且斜齒的流道的體積從上往下是從大到下，而他們的斜齒的每個(gè)磨頭的溝槽深度一樣，流道體積是一樣大，這樣形成了本質(zhì)的區(qū)別。我們可以保證物料從上往下一直在進(jìn)行研磨，而他們只能在一級(jí)磨頭到另外一級(jí)磨頭形成研磨效果。
CRS2000系列的特點(diǎn)：
1、定轉(zhuǎn)子被制成圓椎形，具有精細(xì)度遞升的三級(jí)鋸齒突起和凹槽。定子可以無(wú)限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。
2、齒列的深度：從開(kāi)始的2.7mm 到末端的0.7mm，范圍比較大，范圍越大，處理的物料顆粒大小越廣。
3、溝槽的結(jié)構(gòu)式斜齒，每個(gè)磨頭的溝槽深度不一樣，并且斜齒的流道的體積從上往下是從大到下。
NKD2000系列設(shè)備選型表
型號(hào) | 流量 L/H | 輸出轉(zhuǎn)速 rpm | 線速度 m/s | 馬達(dá)功率 KW | 出/入口連接 |
NKD2000/4 | 700 | 9，000 | 23 | 2.2 | DN25/DN15 |
NKD2000/5 | 3，000 | 6，000 | 23 | 7.5 | DN40/DN32 |
NKD2000/10 | 8，000 | 4，200 | 23 | 15 | DN50/DN50 |
NKD2000/20 | 20，000 | 2，850 | 23 | 37 | DN80/DN65 |
NKD2000/30 | 40，000 | 1，420 | 23 | 55 | DN150/DN125 |
NKD2000/50 | 80，000 | 1，100 | 23 | 110 | DN200/DN150 |
注：流量取決于設(shè)置的間隙和被處理物料的特性，同事流量可以被調(diào)節(jié)到大允許量的10%
環(huán)保在線