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EMS 575T雙頭高分辨率離子濺射鍍膜儀、EMS 550/EMS 500全自動離子濺射鍍膜儀

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產(chǎn)品型號EMS 575T、EMS 550/EMS 500

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更新時間：2022-07-22 10:49:53瀏覽次數(shù)：394次

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產(chǎn)品簡介

EMS 550/EMS 500全自動離子濺射鍍膜儀、EMS 575T雙頭高分辨率離子濺射鍍膜儀

詳細(xì)介紹

EMS 575T是一款渦輪泵雙頭高分辨率鍍膜儀（噴金儀）。EMS-575T樣本放置在旋轉(zhuǎn)樣品臺上（the rotary stage），蓋好蓋子（the chamber lid），按下啟動按鈕，渦輪分子泵開始加速，5秒鐘后，機(jī)械泵開始啟動，同時十秒氣體排空程序啟動，兩個泵同時運行確保一個高真空。當(dāng)渦輪泵加速，它的速度由柱狀圖來標(biāo)示，到達(dá)速度的一半時，真空計扭至自動狀態(tài)。當(dāng)腔內(nèi)氣體壓降為10-4 mbar，排氣開始，腔內(nèi)氣壓維持在1 x 10-2 and 1 x 10-3 mbar之間，排氣的zui后階段，靶材按照預(yù)訂鍍膜時間開始噴鍍。鍍膜需要兩種不同金屬的，不需要關(guān)泵，繼續(xù)濺射另一種金屬。噴鍍完成后，兩個泵停止，排氣閥排氣。

儀器質(zhì)保期2年。模塊化的單元結(jié)構(gòu)使得儀器維護(hù)方便，摘掉問題模塊，換上無問題的模塊，儀器即可很好的運行，一點不會耽誤實驗進(jìn)程。

性能特征：

全自動一鍵式操作，微處理器數(shù)字控制方式，可預(yù)設(shè)參數(shù)
LCD屏實時顯示狀態(tài)參數(shù)
質(zhì)保期：標(biāo)準(zhǔn)保修期為一年
高分辨率精細(xì)鍍層（不超過0.5nm的鉻顆粒大?。?/div>
薄金屬鍍層，典型5nm厚
渦輪分子泵
Peltier冷卻雙濺射頭，無需冷卻水
雙濺射頭：一次真空條件下，可順序濺射兩種不同的材料，對于需要依次噴鍍兩種金屬的樣品特別適用
磁控濺射靶源設(shè)計
旋轉(zhuǎn)機(jī)械泵為備用泵，機(jī)械泵為外部安裝式

儀器參數(shù)：

儀器尺寸	450mm（W） x 350mm（D） x 175mm（H）
工作腔室	硼硅酸鹽玻璃: 165mm（Dia.） x 125mm（H）
加不銹鋼底座	110mm（Dia.） x 115mm（H）
重量	42Kg
靶材	54mm（Dia.） x 0.2mm（Thick）（標(biāo)準(zhǔn)鉻靶材和金靶材）
樣品臺	60mm（Dia.），以60 r.p.m 旋轉(zhuǎn)，一定的傾斜度
真空泵工作范圍（Penning）	ATM to 1x10^-7 mbar，鍍膜腔體極限真空度10^-7 mbar
操作真空	1x10^-3 mbar to 1x10^-4 mbar
濺射電流	0-175mA
濺射時間	0-4 minutes
功率	1000v at 100 ma, 100 watts
沉積速率	30nm/min at 100ma
渦輪分子泵	60 litres/Second （Ultimate vacuum 1x10^-8 mbar）
電源配置	230 volts 50Hz （6 amp Max incl pump）
Services	Argon Nominal 4 psi
真空泵（*配件）	附帶真空管和油氣過濾器

訂購信息：

貨號	產(chǎn)品名稱	規(guī)格
91110-TH	EMS 575T Twin Head Sputter Coater， complete with Target	臺
91005	Rotary Vacuum Pump	個
92045	EMS 50 Water Chiller	個

EMS 550具有旋轉(zhuǎn)樣品臺，可傾斜，適合各種樣品。參數(shù)可預(yù)設(shè)，全自動控制保證獲得精確的鍍層厚度。低電壓濺射、冷濺射、精細(xì)顆粒等功能的使用，大大提高了工作效率。腔室直徑為165 mm（6英寸），非常方便裝載及移走樣品。儀器裝有60mm直徑、0.1mm厚的金靶（可選）?？蛇x靶材包括金/鈀，鉑/鈀和鉑。各種功能都集中設(shè)計在儀表板上，使用方便，滿足不同學(xué)科的用戶使用要求。濺射參數(shù)可預(yù)設(shè)，包括氣體放氣針閥（此閥為電磁閥），一旦設(shè)置，就不需要再調(diào)節(jié)。濺射頭互鎖，系統(tǒng)可選配EMS250鍍碳附件。

EMS 550本儀器為全自動操作，可控制獨立的真空泵。EMS500是EMS550的手動版本，其樣品臺不帶自動旋轉(zhuǎn)功能，其它參數(shù)與EMS550*相同。下圖為EMS550的外觀圖片：

性能特征：

旋轉(zhuǎn)且可傾斜樣品臺
高質(zhì)量鍍層厚度（2nm 金膜）
精確的可重復(fù)性能
均勻沉積厚度
復(fù)合樣本固定器
全自動控制
低耗冷卻系統(tǒng)，無需冷卻樣本及樣品臺
低壓濺射
20nm（或20埃）
微電子控制
聚碳酸酯安全殼體

儀器參數(shù)：

儀器尺寸	450mm（W） x 350mm（D） x 175mm（H）
工作腔室	硼硅酸鹽玻璃: 165mm（Dia.） x 125mm（H）
安全罩	聚碳酸酯
重量	18Kg
靶材	60 mm 直徑 x 0.1mm 厚（金靶為標(biāo)準(zhǔn)靶材）
樣品臺	60mm（Dia.），靶面距在25mm－45mm之間可調(diào)
真空泵工作范圍	ATM-1x10^-2 mbar
濺射電流	0-50mA
濺射鍍膜時間	0-4 minutes
沉積速率	0-25nm/分
電源配置	230 volts 50Hz （6 amp Max incl pump）

產(chǎn)品信息：

貨號	產(chǎn)品名稱	規(guī)格
91000	EMS 550 Sputter Coater complete with Target	臺
91000-MA	EMS 500 Manual Sputter Coater	臺
91005	Rotary Vacuum Pump Targets 60mm （Dia.） x 0.1mm （Thick） fitted inclusive as standard	個