當前位置：海德創(chuàng)業(yè)（北京）生物科技有限公司>>樣本制備儀器>>鍍膜儀>>EMS300R T大樣品離子濺射鍍膜儀Large Chamber Sputter Coaters

EMS300R T大樣品離子濺射鍍膜儀Large Chamber Sputter Coaters

返回列表頁

參考價

面議

具體成交價以合同協(xié)議為準

產(chǎn)品型號300R T

品牌

廠商性質(zhì)經(jīng)銷商

所在地北京市

在線詢價收藏產(chǎn)品查看聯(lián)系電話

聯(lián)系方式：楊陽查看聯(lián)系方式

更新時間：2022-07-12 14:53:44瀏覽次數(shù)：539次

聯(lián)系我時，請告知來自環(huán)保在線

產(chǎn)品分類 品牌分類

  樣本制備儀器

其他

干燥儀

鍍膜儀

全部產(chǎn)品列表

暫無信息

海德創(chuàng)業(yè)（北京）生物科技有限公司

經(jīng)營模式：經(jīng)銷商

商鋪產(chǎn)品：156條

所在地區(qū)：北京北京市

聯(lián)系人：楊陽（主管）

詢價 給他留言

產(chǎn)品簡介

適合SEM(掃描電鏡)、FE-SEM(場發(fā)射掃描電鏡)、TEM(透射電鏡)。
EMS300R T 與EMS150R T相似，明顯區(qū)別是EMS300R T腔室足夠大，達到203mm，采用旋轉(zhuǎn)真空泵抽真空；此外，它配備三個獨立的濺射頭，確保靶材粒子在大樣本上的沉積效果。適合濺射不易氧化的貴金屬如金、金/鈀、鉑等。(注意：既能濺射不易氧化金屬，又能濺射易氧化金屬，另見EMS300T T) 。

詳細介紹

適合SEM（掃描電鏡）、FE-SEM（場發(fā)射掃描電鏡）、TEM（透射電鏡）。

EMS300R T 與EMS150R T相似，明顯區(qū)別是EMS300R T腔室足夠大，達到203mm，采用旋轉(zhuǎn)真空泵抽真空；此外，它配備三個獨立的濺射頭，確保靶材粒子在大樣本上的沉積效果。適合濺射不易氧化的貴金屬如金、金/鈀、鉑等。（注意：既能濺射不易氧化金屬，又能濺射易氧化金屬，另見EMS300T T）。

特征參數(shù)

1、可以進行超大樣本（直徑至203mm）的金屬鍍膜

2、三個濺射頭確保濺射沉積質(zhì)量

3、單靶材選擇功能，可以進行小樣本鍍膜

4、多種金屬靶材比如金、金/鈀、鉑等可選

5、選擇裝配膜厚監(jiān)測儀可以精確控制膜厚

6、全自動觸摸屏控制，快速數(shù)字輸入，操作簡便

7、可以儲存不同用戶的程序

8、能夠記錄100個鍍膜細節(jié)

9、真空自動控制，且具有真空保持功能

10、落入式樣品臺拆裝方便（標配是旋轉(zhuǎn)樣品臺）

11、 zui長60分鐘不間斷鍍膜能力

12、符合人體工程學的整體注塑機身

13、電氣符合CE要求

14、三年質(zhì)保

樣品臺

EMS300R T有多種型號的樣品臺可以選擇，用于滿足目前大部分需求。落入式設(shè)計使得不同型號的樣品臺之間更換簡便，樣品臺除了行星臺外其高度均可調(diào)，旋轉(zhuǎn)速度在預設(shè)范圍內(nèi)實現(xiàn)可調(diào)。

扁平樣品臺，用于晶圓的鍍膜（152mm-203mm），標配
旋轉(zhuǎn)樣品臺，50mm，不能傾斜
旋轉(zhuǎn)傾斜樣品臺，50mm，高度可調(diào)（靶材與樣本之間的距離在30-80mm之間可調(diào)），傾斜角度在0-30度之間
用于撥片的旋轉(zhuǎn)臺

加高腔室：需要時可以得到（付費）

儀器參數(shù)：

儀器外形尺寸	585mm W x 470mm D x 410mm H （total height with coating head open: 650mm）
重量	36.4kg
包裝尺寸	725mm W x 660mm D x 680mm H （44.8kg）
工作腔室	高硼硅玻璃283mm ID x 127mm H
安全保護	整體PET套筒
顯示	145mm x 320mm x 240mm TFT彩顯
使用者界面	直觀的圖形界面，觸摸鍵。記憶功能：維護提醒及zui后100個鍍膜方案日志記錄
濺射靶材	標配三個57 mm Ø x 0.1 mm金靶（SC502-314A）

真空

旋轉(zhuǎn)真空泵	50L/m two-stage rotary pump with oil mist filter. Order separay, 91005.
真空監(jiān)測	皮拉尼測量
極限真空度	潔凈系統(tǒng)可達 2x10-2 mbar，充氮氣
樣品臺	標配晶圓樣品臺，152mm-203mm，旋轉(zhuǎn)速度可調(diào)。

濺射	根據(jù)鍍膜厚度或內(nèi)置的計時器，濺射電流范圍在0-80mA ，zui長濺射時間不超過60分鐘

其它重要信息

需要氣體	氬氣 99.999%，氮氣可選（排氣時需要）
電源	90-250V 50/60Hz 1,400VA including RV3 rotary pump power. （注意電壓的選擇）
電氣標準	符合電氣CE認證要求

訂購信息：

貨號	產(chǎn)品	規(guī)格
EMS300R T	EMS300R T 大樣品離子濺射鍍膜儀Large-Chamber-Rotary-Pumped Sputter Coater, fitted with three sputtering heads to ensure even metaldeposition. Include three 57mm Ø x 0.3mm gold （Au） sputter targets. A flat rotation stage for 8”/203 mm/and 6”/152 mm wafers is fitted as standard	EACH
91005	愛德華旋轉(zhuǎn)真空泵（單獨購買）Edwards RV5 90L/s two-stage rotary pump, with vacuum hose, coupling kit and oil mist filter	EACH