無塵烘箱，晶圓無塵烤箱用途:

   無塵烘箱，晶圓無塵烤箱用于半導(dǎo)體制造中硅片、砷化鎵、鈮酸鋰、玻璃等材料涂膠前的預(yù)處理烘烤、涂膠后堅(jiān)膜烘烤和顯影后的高溫烘烤；也適用于電子液晶顯示、LCD、CMOS、IS、醫(yī)藥、實(shí)驗(yàn)室等生產(chǎn)及科研部門；也可用于非揮發(fā)性及非易燃易爆物品的干燥、熱處理、老化等其他高溫試驗(yàn)。

技術(shù)參數(shù)：

  無塵等級：Class 100、10;     

 溫度范圍：RT+10～300℃；
 溫度均勻度：±2℃;    

 溫度波動度：±0.5℃（空載）        
 溫控精度：±0.1℃;        

 工作室尺寸：W1600×D1600×H1000（mm）  （可定做）   
 電源：380v , 50Hz，16KW    

 網(wǎng)板：2塊（高度可調(diào)節(jié))

特點(diǎn)：
1.在普通環(huán)境下使用，能夠確保烘箱內(nèi)部等級達(dá)到Class 100；
2.全周氬焊，耐高溫硅膠破緊，SUS304#不銹鋼電熱生產(chǎn)器，防機(jī)臺本身所產(chǎn)生微塵；
3.采平面水平由后向前送風(fēng)熱風(fēng)循環(huán)系統(tǒng)，風(fēng)源由循環(huán)馬達(dá)運(yùn)轉(zhuǎn)帶動風(fēng)輪經(jīng)電熱器，將熱風(fēng)由風(fēng)道送至烤箱內(nèi)部，且將使用后空氣吸入風(fēng)道成為風(fēng)源再度循環(huán)加熱，省電節(jié)能溫度均勻性好，過濾效率99.99%，Class 100；
4.強(qiáng)制送風(fēng)循環(huán)方式。雙風(fēng)道循環(huán)結(jié)構(gòu)，溫度場分布均勻，智能P.I.D溫控系統(tǒng)，優(yōu)良的溫度控制精度。

智能型HMDS烘箱，全自動HMDS預(yù)處理系統(tǒng)

智能型HMDS烘箱，全自動HMDS預(yù)處理系統(tǒng)的重要性：
  光刻涂膠工藝中絕大多數(shù)光刻膠是疏水的，而硅片表面的羥基和殘留的水分子是親水的，這造成光刻膠和硅片的黏合性較差，尤其是正膠，顯影時顯影液會侵入光刻膠和硅片的連接處，容易造成漂條、浮膠等，導(dǎo)致光刻圖形轉(zhuǎn)移的失敗，同時濕法腐蝕容易發(fā)生側(cè)向腐蝕。  在半導(dǎo)體生產(chǎn)工藝中，光刻是集成電路圖形轉(zhuǎn)移重要的一個工藝環(huán)節(jié)，涂膠質(zhì)量直接影響到光刻的質(zhì)量，涂膠工藝也顯得尤為重要。增黏劑HMDS(六甲基二硅氮烷)可以很好地改善這種狀況。將HMDS涂到硅片表面后，經(jīng)烘箱加溫可反應(yīng)生成以硅氧烷為主體的化合物。它成功地將硅片表面由親水變?yōu)槭杷涫杷珊芎玫嘏c光刻膠結(jié)合，起著偶聯(lián)劑的作用。

智能型HMDS烘箱，全自動HMDS預(yù)處理系統(tǒng)主要技術(shù)性能：

電源電壓：AC 220V±10%/50Hz±2%

輸入功率：2500W

控溫范圍：RT+10℃-250℃

溫度分辨率：0.1℃

溫度波動度：±0.5℃

達(dá)到真空度：133Pa（1torr）

工作室尺寸（mm）：450*450*450、350*350*350（可自定義）

智能型HMDS烘箱，全自動HMDS預(yù)處理系統(tǒng)的*性：

預(yù)處理性能更好，更加均勻；效率高,一次可以處理多達(dá)4盒的晶片；更加節(jié)省藥液；低液報警、防藥液泄漏等具有很強(qiáng)的安全保護(hù)功能；，有可自動吸取添加HMDS功能，智能型的程式設(shè)定，一鍵完成作業(yè)。

上海雋思儀 器制造熱風(fēng)循環(huán)烘箱，潔凈烘箱，無塵烘箱，厭氧烘箱，高溫?zé)o塵固化烤箱，PI膠固化烤箱，BCB膠固化烤箱，無塵無氧烤箱，HMDS烘箱、HMDS預(yù)處理烘箱，真空涂膠烤箱，百級烘箱等設(shè)備。