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北京鴻瑞正達科技有限公司
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更新時間：2024-03-23 17:50:16瀏覽次數：257次
聯(lián)系我時，請告知來自 環(huán)保在線產品簡介：鈣鈦礦鍍膜機主要由有機/金屬源蒸發(fā)沉積室、真空排氣系統(tǒng)、真空測量系統(tǒng)、蒸發(fā)源、樣品加熱控溫、電控系統(tǒng)、配氣系統(tǒng)等部分組成
產品簡介： 鈣鈦礦鍍膜機主要由有機/金屬源蒸發(fā)沉積室、真空排氣系統(tǒng)、真空測量系統(tǒng)、蒸發(fā)源、樣品加 熱控溫、電控系統(tǒng)、配氣系統(tǒng)等部分組成。 適用于制備金屬單質薄膜、半導體薄膜、氧化物薄膜、有機薄 膜等， 可用于科研單位進行新材料、新工藝薄膜研究工作， 也可用于大批量生產前的試驗工作， 廣泛應用 于有機、無機、鈣鈦礦薄膜太陽能電池、 OLED 等研究領域。鈣鈦礦鍍膜機工作過程中樣品位于真空室上 方，蒸發(fā)源位于真空室下方，向上蒸發(fā)鍍膜，且蒸發(fā)源帶有擋板裝置，防止蒸發(fā)源被污染。
產品名稱 | 鈣鈦礦鍍膜機 |
主要特點 | 1、樣品位于真空室上方，蒸發(fā)源位于真空室下方，向上蒸發(fā)鍍膜，且蒸發(fā)源帶有擋板裝置。 |
2、設有烘烤加熱功能，可在鍍膜過程中加熱樣品， 烘烤加熱溫度可達 180℃。 3、設有斷水、斷電連鎖保護報警裝置及防誤操作保護報警裝置。 | |
技術參數 | 1、鍍膜室：不銹鋼材料，采用方形前后開門結構，內帶有防污板， 腔室尺寸約為 600mm× 450mm×450mm 2、真空排氣系統(tǒng)：采用分子泵+機械泵系統(tǒng) 3、真空度：鍍膜室極限真空≤6×10-4Pa 4、系統(tǒng)漏率：≤ 1×10-7Pa 5、蒸發(fā)源：安裝在真空室的下底上； 有機蒸發(fā)源 4 個、 容積 5ml ，2 臺蒸發(fā)電源，可測溫、 |
控溫， 加熱溫度 400℃， 功率 0.5KW；無機蒸發(fā)源 4 套、 容積 5ml ，2 臺蒸發(fā)電 源， 加熱電流 300A ，功率 3.2KW；蒸發(fā)源擋板采用自動磁力控制方式控制其開 | |
啟 6、樣品架：安裝在真空室的上蓋上， 可放置 ?120mm 的樣品、載玻片， 旋轉速度 0-30rpm 7、加熱溫度： RT-180℃，測溫、控溫 8、膜厚控制儀：石英晶振膜厚控制儀， 膜厚測量范圍 0-999999? |
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