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芬蘭Picosun 高級型原子層沉積機 P-300 Advanced ALD

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更新時間：2023-06-16 19:04:22瀏覽次數(shù)：164次

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產(chǎn)品簡介

芬蘭Picosun高級型原子層沉積機P-300AdvancedALD產(chǎn)品詳情芬蘭Picosun高級型原子層沉積機P-300AdvancedALD芬蘭Picosun高級型原子層沉積機P-300AdvancedALD(圖1)襯底尺寸和類型：

詳細介紹

芬蘭Picosun 高級型原子層沉積機 P-300 Advanced ALD

產(chǎn)品詳情
芬蘭Picosun 高級型原子層沉積機 P-300 Advanced ALD

芬蘭Picosun 高級型原子層沉積機 P-300 Advanced ALD (圖1)

襯底尺寸和類型：

。156 mm x 156 mm硅片50～100片/批次（雙面/背對背）
。高達300 mm x 300 mm玻璃基板10～20片/批次（雙面/背對背）
。大批量的3D產(chǎn)品（例如：鐘表部件，珠寶，硬幣，醫(yī)療植入部件，機械部件等）
。粉末與顆粒
。Roll-to-roll, 襯底寬 300 mm
。多孔，通孔，與高深寬比（HAR）樣品

基片傳送選件：

。氣動升降（手動裝載）
。半自動裝載，用線性裝載器實現(xiàn)
。全自動轉(zhuǎn)載，用工業(yè)機器人實現(xiàn)

工藝溫度： 50 - 500 °C

前驅(qū)體：

。液態(tài)、固態(tài)、氣態(tài)、臭氧源
。前驅(qū)源余量傳感器，并提供清洗和裝源服務(wù)
。4根獨立源管線，最多加載6個前驅(qū)體源