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德國Sentech RIE SI 591 等離子刻蝕機

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產(chǎn)品型號RIE SI 591

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更新時間：2023-06-16 18:54:01瀏覽次數(shù)：160次

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產(chǎn)品簡介

德國SentechRIESI591等離子刻蝕機占地面積小且模塊化程度高SI591可配置為單個反應(yīng)腔或作為片盒到片盒裝載的多腔設(shè)備

詳細介紹

德國Sentech RIE SI 591 等離子刻蝕機

占地面積小且模塊化程度高

SI 591 可配置為單個反應(yīng)腔或作為片盒到片盒裝載的多腔設(shè)備。

SENTECH控制軟件

我們的等離子蝕刻設(shè)備包括用功能強大的用戶友好軟件與模擬圖形用戶界面，參數(shù)窗口，工藝窗口，數(shù)據(jù)記錄和用戶管理。

預(yù)真空室和計算機控制的等離子體刻蝕工藝條件，使得SI 591 具有優(yōu)異的工藝再現(xiàn)性和等離子體蝕刻工藝靈活性。靈活性、模塊性和占地面積小是SI 591的設(shè)計特點。樣品直徑大可達200mm，通過載片器加載。SI 591可以配置為穿墻式操作或具有更多選項的小占地面積操作。

位于頂部電極和反應(yīng)腔體的更大診斷窗口可以輕易地容納SENTECH激光干涉儀或OES和RGA系統(tǒng)。橢偏儀端口可用于SENTECH橢偏儀進行原位監(jiān)測。

SI 591結(jié)合了計算機控制的RIE平行板電極設(shè)計的優(yōu)點和預(yù)真空室系統(tǒng)。SI 591可配置用于各種材料的刻蝕。在SENTECH，我們提供不同級別的自動化程度，從真空片盒載片到一個工藝腔室或多六個工藝模塊端口，可用于不同的蝕刻和沉積工藝模塊組成多腔系統(tǒng)，目標是高靈活性或高產(chǎn)量。SI 591也可用作多腔系統(tǒng)中的一個工藝模塊。

工藝靈活性

RIE蝕刻機SI 591 特別適用于氯基和氟基等離子蝕刻工藝

關(guān)鍵詞：刻蝕機激光干涉儀橢偏儀