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Zeta納米粒度儀

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更新時(shí)間：2022-12-21 15:15:35瀏覽次數(shù)：292次

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  細(xì)胞生物學(xué)

流式細(xì)胞分析儀

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廣州市東和儀器科技有限公司

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產(chǎn)品簡(jiǎn)介

型號(hào):Nicomp380Z3000Basic儀器型號(hào)：Z3000Basic工作原理：粒度分布：動(dòng)態(tài)光散射儀（DynamicLightScattering,DLS）ZETA電位：多普勒電泳光散射原理（DopplerElectrophoreticLightScattering,DELS）檢測(cè)范圍：粒徑范圍0

詳細(xì)介紹

型號(hào):

Nicomp 380 Z3000 Basic

儀器型號(hào)：Z3000 Basic

工作原理： 粒度分布：動(dòng)態(tài)光散射儀（Dynamic Light Scattering, DLS）

ZETA電位：多普勒電泳光散射原理（Doppler Electrophoretic Light Scattering, DELS）

檢測(cè)范圍： 粒徑范圍 0.3nm-10.0μm

ZETA電位 +/- 500mV

產(chǎn)品介紹：Nicomp 380 Z3000系列納米激光粒度儀是在原有的經(jīng)典型號(hào)380ZLS&S基礎(chǔ)上升級(jí)配套而來(lái)，采用動(dòng)態(tài)光散射（Dynamic Light Scattering, DLS）原理檢測(cè)分析顆粒的粒度分布，同機(jī)采用多普勒電泳光散射原理（Doppler Electrophoretic Light Scattering, DELS）檢測(cè)ZETA電位。粒徑檢測(cè)范圍 0.3nm – 10μm，ZETA電位檢測(cè)范圍為+/- 500mV。其配套粒度分析軟件復(fù) 合采用了高斯（ Gaussian）單峰算法和擁有技術(shù)的 Nicomp 多峰算法，對(duì)于多組分、粒徑分布不均勻分散體系的分析具有優(yōu)勢(shì)。ZETA電位模塊使用雙列直插式方形樣品池和鈀電極，一個(gè)電極可以使用成千上萬(wàn)次。另外，采用可變電場(chǎng)適應(yīng)不同的樣品檢測(cè)需求。既保證檢測(cè)精度，亦幫用戶大大節(jié)省檢測(cè)成本。

未找到相應(yīng)參數(shù)組，請(qǐng)于后臺(tái)屬性模板中添加

技術(shù)優(yōu)勢(shì)：

1、PMT高靈敏度檢測(cè)器；

2、可搭配不同功率光源；

3、雙列直插式電極和樣品池，可反復(fù)使用成千上萬(wàn)次；

4、鈀電極；

5、精確度高，樣品真實(shí)值；

6、復(fù)合型算法：高斯（Gaussion）單峰算法與的Nicomp多峰算法自由切換相位分析法（PALS)和頻譜分析法（FALS）自由切換

7、快速檢測(cè)，可以追溯歷史數(shù)據(jù)；

8、結(jié)果數(shù)據(jù)以多種形式和格式呈現(xiàn)；

9、符合USP,CP等個(gè)多藥典要求；

10、無(wú)需校準(zhǔn)；

11、復(fù)合型算法：（1）高斯（Gaussion）單峰算法與的Nicomp多峰算法自由切換

12、模塊化設(shè)計(jì)便于維護(hù)和升級(jí)；

（1）可自動(dòng)稀釋模塊（選配）；

（2）搭配多角度檢測(cè)器（選配）；

（3）自動(dòng)進(jìn)樣系統(tǒng)（選配）；

應(yīng)用領(lǐng)域

1、納米載藥：納米藥物研究近些年主要著重在藥物的傳遞方向并發(fā)展迅猛，納米粒的大小可以有效減少毒性和副作用。所以，控制這些納米粒的粒徑大小是非常必要的。

2、磨料：磨料既有天然的也有合成的，用于研磨、切削、鉆孔、成形以及拋光。磨料是在力的作用下實(shí)現(xiàn)對(duì)硬度較低材料的磨削。磨料的質(zhì)量取決于磨料的粗糙度和顆粒的均勻性。

3、化學(xué)機(jī)械拋光液(CMP SLURRY)：化學(xué)機(jī)械拋光是半導(dǎo)體制造加工過(guò)程中的重要步驟?；瘜W(xué)機(jī)械拋光液是由腐蝕性的化學(xué)組分和磨料(通常是氧化鋁、二氧化硅或氧化鈰)兩部分組成。拋光過(guò)程很大程度上取決于晶片表面構(gòu) 型。晶片的加工誤差通常以埃計(jì)，對(duì)晶片質(zhì)量至關(guān)重要。拋光液粒度越均勻、不聚集成膠則越有利于化學(xué)機(jī)械拋光加工過(guò)程的順利進(jìn)行。

4、陶瓷：陶瓷在工業(yè)中的應(yīng)用非常廣泛，從磚瓦到生物醫(yī) 用材料及半導(dǎo)體領(lǐng)域。在生產(chǎn)加工過(guò)程中監(jiān)測(cè)陶瓷顆粒的粒度及其粒度分布可以有效地控制最終產(chǎn)品的性能和質(zhì)量。

5、粘土：粘土是一種含水細(xì)小顆粒礦物質(zhì)天然材料。粉砂與粘土類(lèi)似，但粉沙的顆粒比粘土大。粘土中易于混雜粉砂從而降低粘土的等級(jí)和使用性能。ISO14688定義粘土的顆粒小于63μm。

6、涂料：涂料種類(lèi)繁多，用途廣泛。涂料的顆粒大小及粒度分布直接影響涂料的質(zhì)量和性能。

7、污染物監(jiān)測(cè)：粒度檢測(cè)分析在產(chǎn)品的污染監(jiān)測(cè)方面起著重要作用，產(chǎn)品的污染對(duì)產(chǎn)品的質(zhì)量影響巨大。絕大多數(shù)行業(yè)都有相應(yīng)的標(biāo)準(zhǔn)、規(guī)程或規(guī)范，必須嚴(yán)格遵守和執(zhí)行，以保證產(chǎn)品滿足質(zhì)量要求。

8、化妝品：無(wú)論是普通化妝品還是保濕劑、止汗劑，它們的性能都直接與粒度的大小和分布有關(guān)?；瘖y品的顆粒大小會(huì)影響其在皮膚表面的涂抹性能、分布均勻性能以及反光性能。保濕乳液(一種乳劑)的粒度小于200納米時(shí)才能被皮膚良好吸收，而止汗劑的粒度只有足夠大時(shí)才能阻塞毛孔起到止汗的作用。

9、乳劑：乳劑是兩種互不相溶的液體經(jīng)乳化制成的非均勻分散體系，通常是水和油的混合物。乳劑有兩種類(lèi)型，一種是水分散在油中，另一種是油分散在水中。常見(jiàn)的乳劑制品有牛奶（水包油型）和黃油（油包水型），加工過(guò)程中它們均需均質(zhì)化處理到所需的粒徑大小以期延長(zhǎng)保質(zhì)期。

10、食品：食品的原料（粉末及液體）通常來(lái)源于不同的加工廠，不同來(lái)源的原料必須滿足某些特定的標(biāo)準(zhǔn)以使最終制品的質(zhì)量均一穩(wěn)定。原料性質(zhì)的任何波動(dòng)都會(huì)對(duì)食品的口味和口感產(chǎn)生影響。用原料的粒度分布作為食品質(zhì)量保證和質(zhì)量控制（QA/QC）的一個(gè)指標(biāo)可確保生產(chǎn)出質(zhì)量均以穩(wěn)定的食品制品。

11、液體工作介質(zhì)/油：液體工作介質(zhì)（如：油）越來(lái)越昂貴，延長(zhǎng)液體介質(zhì)的壽命是目前普遍關(guān)心的問(wèn)題。機(jī)械設(shè)備運(yùn)轉(zhuǎn)過(guò)程中會(huì)產(chǎn)生金屬屑或顆粒落入工作介質(zhì)中（如：油浴潤(rùn)滑介質(zhì)或液力傳遞介質(zhì)），因此需要一種方法來(lái)確定介質(zhì)（油）的更換周期。通過(guò)監(jiān)測(cè)工作介質(zhì)（油）中顆粒的分布和變化可以確定更換工作介質(zhì)的周期以及延長(zhǎng)其使用壽命。

12、墨水：隨著打印機(jī)技術(shù)的不斷發(fā)展，打印機(jī)用的墨水變得越來(lái)越重要。噴墨打印機(jī)墨水的粒度應(yīng)當(dāng)控制在一定的尺度以下，且分布均勻，大的顆粒易于堵塞打印頭并影響打印質(zhì)量。墨水是通過(guò)研磨方法制得的，可用粒度檢測(cè)分析儀器設(shè)備監(jiān)測(cè)其研磨加工過(guò)程，以保證墨水的顆粒粒度分布均勻，避免產(chǎn)生聚集的大顆粒。

13、膠束：膠束是表面活性劑在溶液中的濃度超過(guò)某一臨界值后，其分子或離子自動(dòng)締合而成的膠體尺度大小的聚集體質(zhì)點(diǎn)微粒，這種膠體質(zhì)點(diǎn)與離子之間處于平衡狀態(tài)。乳液、色漆、制藥粉體、顏料、聚合物、蛋白質(zhì)大分、二氧化硅以及自組裝TiO2 納米管(TNAs)等

關(guān)鍵詞：激光粒度儀

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