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德國蔡司3View®成像系統(tǒng)用于蔡司FE-SEM對生物樣品實現切面成像
德國蔡司3View®成像系統(tǒng)用于蔡司FE-SEM對生物樣品實現切面成像。是*種快速便捷,以納米分辨率實現三維重構的成像方式。憑借3View®,您可以使用*個在掃描電鏡(SEM)的樣品倉里的超薄切片機對樹脂包埋的細胞和組織樣品進行切削,然后成像,并不斷重復。如果您有蔡司的Sigma或GeminSEM場發(fā)射掃描電鏡(FE-SEM),再配上3View®,那么您*天*可以采集數以千計序列圖像。切面成像能以便捷的方式,在短時間里實現圖像在三維尺度的校準。
3View® 用于您的蔡司FE-SEM對您的生物樣品實現切面成像
來自Gatan的3View®通過蔡司場發(fā)射掃描電鏡,對生物樣品實現快速便捷的三維成像
切面成像,是*種快速便捷,以納米分辨率實現三維重構的成像方式。憑借3View®,您可以使用*個在掃描電鏡(SEM)的樣品倉里的超薄切片機對樹脂包埋的細胞和組織樣品進行切削,然后成像,并不斷重復。如果您有蔡司的Sigma或GeminSEM場發(fā)射掃描電鏡(FE-SEM),再配上3View®,那么您*天*可以采集數以千計序列圖像。切面成像能以便捷的方式,在短時間里實現圖像在三維尺度的校準。
如果想要獲得類似透射電子顯微鏡圖像質量的高分辨率三維數據,蔡司配有3View®的場發(fā)射掃描電子顯微鏡是你的選擇。蔡司Gemini鏡筒技術會帶給你優(yōu)異的圖像,它可以在進行大視野成像的同時又保持納米級別的分辨率。對于數百微米尺度樣品的三維重構,切面成像*氣呵成,大幅減少因圖像區(qū)域重疊和拼接花費的時間。
產品特點
配有3View® 的Sigma和GeminiSEM 場發(fā)射掃描電子顯微鏡可以實現大樣品的切面成像,同時又有出色的圖像質量。
在Sigma 3View® 中通過可變壓力實現電荷中和,減少成像失真。
GeminiSEM 3View®可以帶給你優(yōu)異的低電壓成像效果,以及靈活的探測手段。
現在你可以給你的GeminiSEM升級局部電荷補償器,消除荷電效應的影響。
超高的系統(tǒng)穩(wěn)定性,即使長時間運行也不需要人工干預。
帶有Gemini技術的蔡司場發(fā)射掃描電鏡讓你隨心掌控,出色的分辨率,高效的檢測速度,兩者兼顧。
蔡司Gemini 技術提供了納米級別分辨率下高達32k × 24k 像素點的單張圖片。
相比8k × 8k的單幅成像,相同成像區(qū)域下掃描時間只需前者的1/15。
我們把樣品表面的磁場最小化,這樣即使大視野成像,圖像邊緣同樣清晰。
對于絕大部分應用,大視野成像意味著你不再需要圖像拼接。
不僅節(jié)約時間而且避免樣品在拼接重疊部分被重復掃描。
節(jié)約時間:使用3View®獲取 32k × 24k像素像素尺寸的單張圖像
使用3View® ,你可以在短時間內得到3D結果。
Sigma高束流模式,大幅提升你的成像速度。
還有更快的: 新型的 OnPoint BSE 檢測器和GeminiSEM 在不影響圖像質量的前提下帶來快速掃描。
根據不同的應用,最多可以節(jié)省90%的時間,*天*能完成以前需要*周的實驗!
紅色的外周神經呈現出復雜的富含節(jié)點和彎曲的神經網絡。
圖片由P. Munro, School of Ophthalmology, University College London, UK 提供
3View® 是放置在掃描電鏡樣品倉里的超薄切片機. 塊狀樣品則放置在正對電鏡鏡筒下方的樣品臺上。在上表面被掃描成像之后,樣品會上升很小的*段距離(最小可達15 nm)。此時超薄切片機進刀,削掉樣品頂端的薄薄*層,之后退刀,新的表面再次被成像。以這種方式,樣品反復不斷地被切削,成像,而得到數以千計的切面圖片,從而進行完整的三維重構
樹脂包埋的樣品,比如單層細胞或者高度血管化的組織,在成像時你經常會遭樣品受荷電效應的困擾,從而導致圖像失真扭曲,質量下降。雖然使用可變壓力的掃描電鏡可以改善這些現象,但同時也會損失圖像信噪比和分辨率。
現在,你可以在配有3View®的GeminiSEM 上搭載由顯微鏡和成像研究**中心(NCMIR)研制的局部電荷補償器,在保持圖像質量的前提下減少樣品荷電效應。
電荷補償器的工作原理:在樣品上方放置*根*細的進氣針頭,在樣品倉處于高真空狀態(tài)時直接將氮氣導到樣品表面上方。而在樣品被切削時針頭自動回縮,不干擾圖像獲取,從而快速得到切面成像的數據。
獲取高分辨的三維成像數據*是如此的方便快捷,遠超想象。
高穩(wěn)定性熱場發(fā)射電子槍:長時間保證穩(wěn)定如*的成像條件
Beam booster減速模式: 低電壓下也有出色的圖像分辨率
無漏磁設計: 大視野成像且圖像邊緣同樣清晰
蔡司Gemini 鏡筒在低電壓成像領域有著出色的表現。
你可以得到樣品表面*表層的BSE信號(在每次切削過程之后)。
樣品深層的信號不會被激發(fā)出來而影響你的圖像質量。
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