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測(cè)量工業(yè)顯微鏡

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測(cè)量工業(yè)顯微鏡LEXT OLS 4500是一種納米搜索顯微鏡，它將激光顯微鏡和掃描探針顯微鏡（SPM）結(jié)合在同一個(gè)儀器中，可以在廣泛的放大范圍內(nèi)進(jìn)行觀察和測(cè)量（從大約50倍到1 000 000倍）。

詳細(xì)介紹

OLS 4500使無(wú)縫觀測(cè)和測(cè)量成為可能立即找到感興趣的區(qū)域
測(cè)量工業(yè)顯微鏡OLS 4500可以快速定位感興趣的區(qū)域，使用各種類型的無(wú)縫放大觀測(cè)，將物體保持在視場(chǎng)內(nèi)。

采用白色LED作為光源，保證彩色圖像清晰，具有良好的色彩再現(xiàn)性。這四個(gè)目標(biāo)使人們能夠在從低到高的各種放大范圍內(nèi)進(jìn)行觀察。OLS 4500充分利用光學(xué)顯微鏡的特點(diǎn)，能夠進(jìn)行BF(Brightfield)觀察-zui常用的差分干涉對(duì)比度(DIC)觀測(cè)，通過(guò)增強(qiáng)對(duì)比度，實(shí)現(xiàn)精細(xì)表面紋理的立體可視化，并簡(jiǎn)化了偏振光觀測(cè)，反映了不同顏色樣品的偏振特性。其他功能包括高動(dòng)態(tài)范圍(HDR)，它通過(guò)改變曝光時(shí)間來(lái)合成幾幅圖像，以獲得亮度平衡和紋理增強(qiáng)的圖像。OLS 4500可以使用各種觀測(cè)方法快速找到感興趣的區(qū)域。

BF Brightfield
BF亮場(chǎng)
zui廣泛使用的觀測(cè)方法。
色彩逼真的自然形象
復(fù)制。適用于高對(duì)比度樣品的觀察。

DIC
迪奇

差分干擾對(duì)比度
增強(qiáng)對(duì)比度，使立體
無(wú)法用BF觀察到的樣品的可視化。適用于金屬結(jié)構(gòu)、硬盤和拋光晶圓表面等鏡面樣品的缺陷和雜質(zhì)的檢測(cè)。

Simplified Polarized Light
簡(jiǎn)化偏振光
用反射偏振光(具有特定振動(dòng)方向的光)顯示樣品的偏振特性(例如折射率)。適用于觀察金屬表面、礦物和半導(dǎo)體材料。

HDR

高動(dòng)態(tài)范圍
通過(guò)合成幾幅圖像來(lái)平衡觀察明亮和黑暗區(qū)域
不同的曝光時(shí)間。精細(xì)的觀察也是
可能通過(guò)增強(qiáng)紋理(表面條件)。

LSM可以用光學(xué)顯微鏡可視化無(wú)法觀察到的東西。

由于波長(zhǎng)較短的405 nm激光，高孔徑(高口徑)物鏡和共焦光學(xué)，具有很高的X-Y分辨率，使光學(xué)顯微鏡下不可見的物體在清晰的圖像中被觀察到。激光DIC觀測(cè)使對(duì)納米微表面的實(shí)時(shí)觀察成為可能。

測(cè)量工業(yè)顯微鏡[方法]用SPM快速、準(zhǔn)確地處理感興趣的區(qū)域。

無(wú)縫放大觀測(cè)將物體保持在視場(chǎng)內(nèi)

四個(gè)目標(biāo)，從低到高的放大安裝在機(jī)動(dòng)旋轉(zhuǎn)噴嘴與SPM單元。50倍和100倍的現(xiàn)場(chǎng)觀察模式使用光學(xué)顯微鏡或LSM將SPM掃描區(qū)域放置在場(chǎng)的中心。通過(guò)在區(qū)域上設(shè)置目標(biāo)標(biāo)記并切換到探針掃描模式，可以精確地接近感興趣區(qū)域。這意味著一次SPM掃描就可以得到目標(biāo)圖像，提高了工作效率，減少了懸臂梁的磨損。

Seamless-Magnification Observation Keeping the Object within a Field of View

方便切換到SPM觀測(cè)的指南

workflow of SPM

SPM觀測(cè)的準(zhǔn)備工作，如懸臂安裝和掃描面積設(shè)置，可以通過(guò)引導(dǎo)顯示進(jìn)行，這意味著即使是經(jīng)驗(yàn)較少的操作人員也可以安全地進(jìn)行初步工作。

[納米法測(cè)量】簡(jiǎn)單操作的快速測(cè)量

新研制的降噪SPM磁頭

Newly Developed SPM Head with Reduced Noise

新研制的緊湊型SPM掃描儀頭

OLS 4500采用鼻片式SPM掃描儀頭。由于目標(biāo)和懸臂端在同軸、旁焦定位中，即使切換到SPM模式，觀察點(diǎn)也不會(huì)從視野中消失。新研制的緊湊型SPM頭提高了剛度，降低了圖像噪聲，提高了響應(yīng)能力。

按要求放大區(qū)域的導(dǎo)航器

導(dǎo)航器功能允許通過(guò)進(jìn)一步提高放大率來(lái)更近地查看用探針掃描模式獲取的圖像中所需的區(qū)域。通過(guò)簡(jiǎn)單設(shè)置光標(biāo)放大區(qū)域和啟動(dòng)探針掃描即可獲得目標(biāo)圖像。掃描區(qū)域可以自由設(shè)置，使觀察和測(cè)量能夠更快、更有效地進(jìn)行。

Navigator to Magnify the Region as Requested
導(dǎo)航儀放大10μm x 10μm圖像上的3.5μm x 3.5μm區(qū)域

滿足不同要求的分析

Analyses to Meet Different Requirements
曲率測(cè)量(硬盤凹坑)

在SPM測(cè)量模式下采集的圖像可以進(jìn)行分析，以適應(yīng)不同應(yīng)用的需要，結(jié)果可以作為CSV格式輸出。OLS 4500提供以下分析功能。

輪廓(曲率因子測(cè)量，包含角度測(cè)量)
粗糙度
地形(面積、表面、體積、高度、直方圖、方位比)
臺(tái)階(線、面積)
粒子分析(可選)
六種SPM測(cè)量模式，易于跟蹤制導(dǎo)顯示。

接觸方式

該模式通過(guò)懸臂梁靜態(tài)掃描設(shè)定區(qū)域，同時(shí)保持懸臂和試樣之間的排斥力，以直觀地顯示樣品的高度信息。它也可用于力曲線的測(cè)量。

Contact mode 1

Contact mode 2
金屬薄膜

動(dòng)態(tài)模式

該振型使懸臂梁在諧振頻率附近振動(dòng)，并控制Z方向距離使振動(dòng)振幅常數(shù)，從而直觀地顯示樣品的高度信息。適用于具有柔軟表面的樣品，如聚合物或粘性材料。

Dynamic mode 1

Dynamic mode 2
鋁表面

相位模式

該模式在動(dòng)態(tài)模式掃描過(guò)程中檢測(cè)懸臂梁振動(dòng)的相位延遲。它可以直觀地顯示樣品表面物理性質(zhì)的差異。

Phase mode 1

Polymer Film
聚合物膜

電流模式

該模式對(duì)樣品施加偏置電壓，以檢測(cè)和可視化懸臂梁和樣品之間的電流流動(dòng)。它也可用于I/V測(cè)量。

Current mode 1

Current mode 2
硅襯底上SiO 2圖案的樣品。高度圖像(左)中的黃色區(qū)域是SiO 2，在當(dāng)前圖像(右)中顯示藍(lán)色(沒有電流的區(qū)域)。這些圖像表明，基板具有無(wú)電流的區(qū)域。

表面勢(shì)模(KFM)

該模式通過(guò)導(dǎo)電懸臂梁施加交流電壓，檢測(cè)懸臂梁與樣品之間的靜電作用力，并將樣品表面的電勢(shì)可視化。它也被稱為開爾文力顯微鏡(KFM)模式。

Surface Potential mode1

Surface Potential mode2
磁帶樣本。表面電位圖像表明，幾百mV的電位差分布在樣品表面。這種分布被認(rèn)為是在磁帶表面的潤(rùn)滑層中存在不規(guī)則現(xiàn)象。

磁力模式(MFM)

該模式以相位模式掃描磁化懸臂梁的設(shè)定區(qū)域，檢測(cè)懸臂梁振動(dòng)中的相位延遲，然后將樣品表面的磁信息可視化。它也被稱為磁力顯微鏡(MFM)模式。

Magnetic Force mode1

Magnetic Force mode2
硬盤樣本。圖像顯示了磁性能的分布。

LSM允許靈活地處理各種樣本。

成像斜率達(dá)85°

由于具有高數(shù)值孔徑的專用物鏡和通過(guò)405 nm激光獲得優(yōu)異性能的專用光學(xué)系統(tǒng)，OLS 4500能夠可靠地測(cè)量以前無(wú)法測(cè)量的銳角樣品。

LEXT-Dedicated Objective Lenses
LEXT專用物鏡

Razor with an Acute Angle
銳角剃刀

高分辨率微輪廓測(cè)量

利用波長(zhǎng)為405 nm的短波激光和高孔徑物鏡，可獲得0.12μ的X-Y分辨率。因此，OLS 4500可以對(duì)樣品表面進(jìn)行亞微米測(cè)量。結(jié)合高精度線性比例尺和奧林巴斯原始強(qiáng)度檢測(cè)技術(shù)，這允許高清晰度成像，能夠精確測(cè)量從亞微米到數(shù)百微米范圍的高度。此外，OLS 4500還能保證測(cè)量值的“精度”，即測(cè)量值與其真實(shí)值的距離有多近，以及指示重復(fù)測(cè)量值之間的變化程度的“重復(fù)性”，兩者都顯示了測(cè)量工具的性能。

0.12 μm Line and Space Pattern
0.12μm線與空間模式