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開啟式管式爐PECVD系統(tǒng)

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產(chǎn)品型號S-1200K-CVD

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更新時間：2022-02-12 10:06:22瀏覽次數(shù)：242次

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  化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)PECVD

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河南熱處理設(shè)備有限公司

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產(chǎn)品簡介

開啟式管式爐PECVD系統(tǒng)由高溫管式爐,真空壓強控制系統(tǒng),多通道高精度數(shù)字質(zhì)量流量控制系統(tǒng),過壓保護(hù)及冷凝等部分組成,可實現(xiàn)真空達(dá)0.1mbar混合氣體化學(xué)氣相沉積和擴(kuò)散試驗。

詳細(xì)介紹

功能特點：
在真空壓力下，加在電感線圈的射頻電場，使反應(yīng)室氣體發(fā)生輝光放電，在輝光發(fā)電區(qū)域產(chǎn)生大量的電子。這些電子在電場的作用下獲得充足的能量，其本身溫度很高，它與氣體分子相碰撞，使氣體分子活化。它們吸附在襯底上，并發(fā)生化學(xué)反應(yīng)生成介質(zhì)膜，副產(chǎn)物從襯底上解吸，隨主氣流由真空泵抽走，稱為等離子體增強化學(xué)氣相沉(PECVD)
產(chǎn)品用途：
PECVD開啟式管式爐系統(tǒng)由開啟式管式爐、高真空分子泵系統(tǒng)、射頻電源系統(tǒng)及多通道高精度數(shù)字質(zhì)量流量控制系統(tǒng)組成，是實驗室生長薄膜石墨烯，金屬薄膜，陶瓷薄膜，復(fù)合薄膜等的理想選擇。
適用于高校、科研院所用于真空鍍膜、納米薄膜材料制備，生長薄膜石墨烯，金屬薄膜，陶瓷薄膜，復(fù)合薄膜等，也可作為擴(kuò)展等離子清洗刻蝕使用
產(chǎn)品參數(shù)