特點:
· 低壓等離子系統(tǒng),用于不同材料表面的處理
· 配置自動/手動模式,實現(xiàn)控制高機(jī)能
· 6” Wafer去膠清洗
· 適合于研究院、高校、研發(fā)中心使用
· 操作簡單易使用
技術(shù)規(guī)格:
型號 | ZEPTO W6 | ZEPTO W6 PCCE | ||
控制系統(tǒng) | 手動控制 | PCCE 控制系統(tǒng) | ||
工藝氣路 | 雙路氣體 | |||
工藝氣體 | O2,Ar,N2,CO2,H2,Air等 | |||
單體導(dǎo)入 | H2O等單體(選配) | |||
流量計 | 針閥流量計 | MFC流量計 | ||
真空 腔體 | 材質(zhì) | 高硼硅玻璃腔體,蓋子門帶觀察窗(石英,鉸鏈門選配) | ||
內(nèi)尺寸(Dia.×D)mm | 160mm×180mm | |||
容積 | 4L | |||
電極 | 360度外置環(huán)繞電極 | |||
發(fā)生器
| 40KHz 0~100 W 13.56MHz 0~50 W 13.56MHz 0~300 W | |||
真空壓力計 | 指針式壓力計(選購) | 皮拉尼數(shù)字式壓力計 | ||
計時器 | 旋鈕式(選購) | 數(shù)字式 | ||
托盤 | 高硼硅玻璃(石英選配) | |||
外形尺寸(WXDxH)mm | 269x324x176(40kHz) | 425x450x185(13.56MHz) | ||
電源 | AC220V 50Hz 10A | |||
真空泵 | 排氣速度4m3/H |