型號:OTF-1200X-50-4CLV-PE
產(chǎn)品概述:為使化學反應(yīng)能在較低的溫度下進行,常利用等離子體的活性來促進反應(yīng),這種方法稱為等離子體增強化學氣相沉積法(PECVD)。加熱爐設(shè)備的內(nèi)爐膛表面涂有美國進口的高溫氧化鋁涂層,可提高設(shè)備的加熱效率,同時也可延長設(shè)備的使用壽命。
設(shè)備名稱 | 4路質(zhì)子混氣管式PECVD系統(tǒng)—OTF-1200X-50-4CLV-PE |
相關(guān)視頻 | 操作視頻 |
外形尺寸 | 長*寬*高 2080mm*700mm*1520mm |
爐管規(guī)格 | 外徑: 100mm 內(nèi)徑: 96mm×長: 1800 mm |
加熱爐主要參數(shù) | ·溫度: 1200℃ ·額定工作溫度: 1100℃ ·推薦升溫速率:≤10℃/min ·加熱區(qū)長度: L總:440mm(雙溫區(qū)包括隔環(huán)) 溫區(qū)一:200mm 溫區(qū)二:200mm ·加熱爐額定功率:3KW ·滑動方式:電動控制 ·滑動行程:600mm ·電壓:單相AC 208 - 240V, 50HZ |
溫控系統(tǒng) | 歐陸EPC3000儀表 ·模糊PID控制和自整定調(diào)節(jié)功能 ·智能化24段可編程控制 ·帶過電流過電壓保護 漏電保護 電氣元件及電纜,冷壓端子均符合UL認證標準 ·控溫精度: ±0.1℃ ·控溫:K型熱電偶兩根 ·通訊協(xié)議:modbus RTU |
軟件控制 | · 可視化運行狀態(tài)監(jiān)控 · 溫控系統(tǒng),氣路系統(tǒng),真空系統(tǒng),射頻系統(tǒng),滑動爐體,開合爐體,壓力控制,全自動化, · 數(shù)據(jù)記錄、過程記錄集成一體 · 預(yù)制工作流程,一鍵自動運行 · 具有恒壓功能,可以設(shè)定氣體流量和恒定壓力 壓力控制:采用TRP-12(抽速3L/s)的雙旋真空泵,在總進氣量為100-150sccm,管內(nèi)壓力為 100-130pa,如總進氣量高于150sccm時,請更換抽速更高的泵,測試為總進氣量為1L/min(滿足四路質(zhì)量流量計全開狀態(tài)時),使用VRD-60泵(抽速18L/s),真空為120-130pa(滿足起輝條件),可在任意供氣量下設(shè)定任意氣壓值(該氣壓值需大于搭配泵體的真空值),氣壓值可自動穩(wěn)定 |
新式快捷法蘭 | 可方便快速取放物料 |
射頻電源 | ·500W射頻電源 ·0--500W可調(diào)(穩(wěn)定性±1%) ·射頻頻率:13.56MHZ ·自動匹配 風冷 ·噪音<50dB ·輸入電壓:AC108-250V |
供氣系統(tǒng) | ·四通道質(zhì)子流量計控制系統(tǒng)可實現(xiàn)氣體流量的精確控制(精確度:±0.02%) ·流量范圍:一路0-100 sccm 二路0-200 sccm 三路0-200 sccm 四路0-500 sccm 注:接入供氣系統(tǒng)的氣源需搭配減壓閥,將氣壓降至2mpa以下 |
真空系統(tǒng) | ·搭配TRP-12的雙旋真空泵(抽速3L/s)(總進氣量小于150sccm,該泵可以達到等離子發(fā)生真空度) ·搭配TRP-60雙旋真空泵(抽速10L/s)(總進氣量1L/min,該泵可以達到等離子發(fā)生真空度) ·KF25卡箍及波紋管用于連接法蘭與真空泵 ·真空度可達10-2Torr |
備注 | 注:采用氬氣高于射頻功率200w情況下,需特殊說明,設(shè)備需要特殊改造及測試,(有法蘭過熱情況) |