型號：ALD-1200X-R-4
產(chǎn)品概述：ALD-1200X--R-4是一款4英寸ALD旋轉(zhuǎn)管式爐系統(tǒng)，包含用于原子層沉積的2個ALD進氣閥、1個精密液體氣相發(fā)生器以及4通道質(zhì)子流量計控制系統(tǒng)，可利用此系統(tǒng)進行粉末表面的ALD和CVD包覆。該系統(tǒng)簡潔的設(shè)計使得更多的科研院所能夠在可負擔的低成本情況下實現(xiàn)ALD工藝實驗。
| 控制面板 | l 蒸汽壓力、ALD以及氣體流量參數(shù)均可通過一6英寸接觸屏由PLC進行控制
l 兩個ALD進氣閥
l 一個精密的4通道質(zhì)子流量計系統(tǒng)
l 請點擊下圖查看控制面板（點擊圖片查看詳細資料）
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| ALD進氣閥 | 兩個ALD脈沖電磁閥（最小可在10ms完成閥門的開啟或關(guān)閉）
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| 精密液體氣相發(fā)生器 | 精密液體氣相發(fā)生器包含在本系統(tǒng)中并且連接到ALD進氣閥
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| 旋轉(zhuǎn)管式爐 |
l 連續(xù)工作的溫度為1100℃
l 兩個溫區(qū)由兩個獨立的溫控系統(tǒng)來控制，而且都為PID30段程序化控溫
l 輸入電壓：208-240V AC，單向
l 功率為4KW
l 爐管旋轉(zhuǎn)速度：0-10rpm
l 回轉(zhuǎn)爐爐管結(jié)構(gòu)如下圖所示：
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| 真空計 | 公司具有多種真空機可供選（點擊下圖鏈接）
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| 真空泵（選配） | 公司具有多種真空泵可供選配（點擊下圖鏈接）
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| 更多可選配件 | l 可選購氣液混合裝置，用于CVD系統(tǒng)（圖1.2）
l 可選購恒溫控制模塊（圖3）
l 可選購金石英測試晶體（圖4）以及熱電偶用于薄膜厚度以及溫度的測試
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| 質(zhì)保期 | 一年保質(zhì)期，終身維護（不包含爐管，加熱元件和密封圈） |
| 質(zhì)量認證 | 所有電器元件（＞24V）均滿足CE/UL/MET/CSA認證,如您另付費用，我們可保證單臺儀器通過TUV（UL61010）或CSA認證 |
| 注意事項 | l 爐管內(nèi)氣壓不可高于0.02MPa
l 由于氣瓶內(nèi)部氣壓較高，所以向爐管內(nèi)通入氣體時，氣瓶上必須安裝減壓閥，建議在本公司選購減壓閥，本公司減壓閥量程為0.01MPa-0.1MPa,使用時會更加精確安全
l 當爐體溫度高于1000℃時，爐管內(nèi)不可處于真空狀態(tài)，爐管內(nèi)的氣壓需和大氣壓相當，保持在常壓狀態(tài)
l 進入爐管的氣體流量需小于200SCCM，以避免冷的大氣流對加熱石英管的沖擊
l 點擊此處了解如何選擇本公司石英/陶瓷管以及管式爐真空法蘭 |
| 相關(guān)應用 | 可利用ALD系統(tǒng)顯著降低石榴石結(jié)構(gòu)固態(tài)電解質(zhì)與電極之間的高的固固界面阻抗，相關(guān)文獻：Negating interfacial impedance in garnet-based solid-state Li metal batteries |
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