遼寧省AOT光催化滅菌設(shè)備介紹：    AOT水體凈化設(shè)備，集物理、化學、微生物學、機械、電子、流體力學等學科于一體，采用光催化氧化技術(shù)，利用特定光源激發(fā)納米TiO2光觸媒涂層，大大提高催化活性和使用效果，使其產(chǎn)生更多的具有強氧化特性的羥基自由基，將水體中的細菌、病毒、微生物、有機物等進報行分解，提高水體消毒、滅菌的效果，使處理后的水質(zhì)達到國家生活飲用水、泳池水等行業(yè)用水標準。
AOT水體凈化設(shè)備由紫外線制備、納米 TiO2 涂層制備、控制器等組成。由多孔結(jié)構(gòu)的TiO2納米顆粒制備的TiO2 涂層，與紫外光充分接觸，進行催化反應(yīng)，導致水分子失去氫原子形成羥基自由基（OH radical），羥基自由基混合于待處理的水體中，利用反應(yīng)過程中羥基自由基的強氧化性，對水體中的細菌、病毒、微生物、有機物以等進行降解，將高分子和大分子有機物反應(yīng)形成小分子化合物直至生成二氧化碳和水，滅菌率達99%。
與同類設(shè)備相比，具有、方便、快捷、成本低程度高、 、副產(chǎn)物、安全可靠、適應(yīng)性強、維護方便快捷等特點，本課題的開發(fā)成功，對推動我國水資源綜合利用的技術(shù)進步，具有十分重要的意義。

遼寧省AOT光催化滅菌設(shè)備介紹：   1972年Fujishima和Honda發(fā)現(xiàn)光電池中光照射TiO2可以發(fā)生水的氧化還原反應(yīng)放出H2，1976年Carey等將半導體用于有機污染物降解，光催化的方法引起了廣泛的重視 。
早期對光催化技術(shù)的研究多集中在有機污染物的降解上，直到1985年，Matsunaga等利用UVA波段的光源在TiO2催化下進行了殺滅微生物實驗 。至此，一系列的AOT光催化滅菌的研究工作從此展開。

軟件及控制單元
主體集成具有控制程序的4.5英寸TFF彩色液晶顯示；
同時支持在線自動控制和手動立控制兩種工作模式；
自動控制模式下，可實時顯示閥門位置，具有安全防護預(yù)警功能；
內(nèi)置儀器方法，使用時僅僅需要設(shè)置采樣周期與采樣次數(shù)，操作簡單；
具有二級加密調(diào)試程序，用于設(shè)備調(diào)試、內(nèi)部方法設(shè)定及用戶靈活使用。

紫外線殺菌消毒是利用適當波長的紫外線能夠破壞微生物機體細胞中的DNA（脫氧核糖核酸）或RNA（核糖核酸）的分子結(jié)構(gòu)，造成生長性細胞死亡和（或）再生性細胞死亡，達到殺菌消毒的效果。紫外線消毒技術(shù)是基于現(xiàn)代防疫學、醫(yī)學和光動力學的基礎(chǔ)上，利用特殊設(shè)計的率、高強度和命的UVC波段紫外光照射流水，將水中各種細菌、病毒、寄生蟲、水藻以及其他病原體直接殺死。

紫外線系統(tǒng)的經(jīng)濟學決定于以下因素：設(shè)備造價和壽命；電效率；運行中殺菌效果的降低程度；電費等。對于紫外線消毒系統(tǒng)的經(jīng)濟分析尚未做出定論，有很多結(jié)論不同的分析報道，有觀點認為紫外線殺菌裝置電耗大，設(shè)備維護費和造價較高。對于大系統(tǒng)，設(shè)備投資比臭氧系統(tǒng)高，運行費用與臭氧相仿；但對于純凈水制造的小型系統(tǒng)投資較臭氧裝置為低。也有觀點認為對于數(shù)千噸/日以上的處理規(guī)模，紫外線消毒系統(tǒng)的投資和運行成本很具優(yōu)勢，要比加氯和臭氧消毒的花費都低得多。例如有分析資料報道，在建造人口數(shù)為10~25000范圍的小型飲用水處理廠時，紫外線、二氧化氯和臭氧消毒費用的近似比例為1:4：（8~9），對于人口數(shù)大于500000的社會團體，費用比約為1:2.5:2.5。

大多數(shù)紫外線裝置利用傳統(tǒng)的低壓紫外燈技術(shù)，也有一些大型水廠采用低壓高強度紫外燈系統(tǒng)和中壓高強度紫外燈系統(tǒng)，由于產(chǎn)生高強度的紫外線可能使燈管數(shù)量減少90%以上，從而縮小了占地面積，節(jié)約了安裝和維修費用，并且使紫外線消毒法對水質(zhì)較差的出水也適用。

使用方法
2.3.5.1 對物品表面的消毒
(1)照射方式：好使用便攜式紫外線消毒器近距離移動照射，也可采取紫外燈懸吊式照射。對小件物品可放紫外線消毒箱內(nèi)照射。
(2)照射劑量和時間：不同種類的微生物對紫外線的敏感性不同，用紫外線消毒時使用照射劑量達到殺滅目標微生物所需的照射劑量。
殺滅一般細菌繁殖體時，應(yīng)使照射劑量達到 10000 uW.s/CM2；殺滅細菌芽胞時應(yīng)達到100000 uW.s/CM2；病毒對紫外線的抵抗力介于細菌繁殖體和芽胞之間；真菌抱子的抵抗力比細菌芽胞更強，有時需要照射到以對600000 uW.s/CM2；在消毒的目標微生物不詳時，照射劑量不應(yīng)低于100000 uW.s/CM2。