大口徑等離子清洗機(jī)處理廠家：誠(chéng)峰智造

自動(dòng)On-Line（軸輪式）式AP等離子處理系統(tǒng)CRF-APO-500W

型號(hào)（Model）

CRF-APO-500W

電源（Power supply）

220V/AC,50/60Hz

功率（Power）

2set*1000W/25KHz(Option)

處理寬幅（Processing width）

50mm-500mm（Option）

有效處理高度（Processing height）

5-15mm

處理速度（Processing speed）

0-5m/min

傳動(dòng)方式（Drive mode）

防靜電絕緣滾輪

噴頭數(shù)量（Number）

2（Option）

工作氣體（Gas）

Compressed Air（0.4mpa）

產(chǎn)品特點(diǎn)：配置專業(yè)運(yùn)動(dòng)控制平臺(tái)，PLC+觸摸屏控制方式，采用運(yùn)動(dòng)模組，操作簡(jiǎn)便；

可選配噴頭數(shù)量，滿足客戶多元化需求；

配置專業(yè)集塵系統(tǒng)，保證產(chǎn)品品質(zhì)和設(shè)備的整潔、干凈；

應(yīng)用范圍：主要應(yīng)用于電子行業(yè)的殼印刷、涂覆、點(diǎn)膠等前處理，屏幕的表面處理；國(guó)防工業(yè)的航天電連接器表面清洗；通用行業(yè)的絲網(wǎng)印刷、轉(zhuǎn)移印刷前處理等。

等離子體中粒子的能量一般約為幾個(gè)至幾十電子伏特，大于聚合物材料的結(jié)合鍵能(幾個(gè)至十幾電子伏特)，可以破裂有機(jī)大分子的化學(xué)鍵而形成新鍵；但遠(yuǎn)低于高能放射性射線，只涉及材料表面，不影響基體的性能。

處于非熱力學(xué)平衡狀態(tài)下的低溫等離子體中，電子具有較高的能量，可以斷裂材料表面分子的化學(xué)鍵，提高粒子的化學(xué)反應(yīng)活性(大于熱等離子體)，而中性粒子的溫度接近室溫,這些優(yōu)點(diǎn)為熱敏性高分子聚合物表面改性提供了適宜的條件。

選擇適宜的放電方式可獲得不同性質(zhì)和應(yīng)用特點(diǎn)的等離子體，通常，熱等離子體是氣體在大氣壓下電暈放電產(chǎn)生，冷等離子體由低壓氣體輝光放電形成。

熱等離子體裝置是利用帶電體(如刀狀或針狀和狹縫式電極)造成不均勻電場(chǎng),稱電暈放電,使用電壓和頻率、電極間距、處理溫度和時(shí)間對(duì)電暈處理效果都有影響。電壓升高、電源頻率增大,則處理強(qiáng)度大,處理效果好。
但電源頻率過(guò)高或電極間隙太寬，會(huì)引起電極間過(guò)多的離子碰撞，造成不必要的能量損耗；而電極間距太小，會(huì)有感應(yīng)損失，也有能量損耗。處理溫度較高時(shí)，表面特性的變化較快、處理時(shí)間延長(zhǎng)，極性基團(tuán)會(huì)增多；但時(shí)間過(guò)長(zhǎng)，表面則可能產(chǎn)生分解物,形成新的弱界面層。

冷等離子體裝置是在密封容器中設(shè)置兩個(gè)電極形成電場(chǎng)，用真空泵實(shí)現(xiàn)一定的真空度,隨著氣體愈來(lái)愈稀薄，分子間距及分子或離子的自由運(yùn)動(dòng)距離也愈來(lái)愈長(zhǎng)，受電場(chǎng)作用,它們發(fā)生碰撞而形成等離子體，這時(shí)會(huì)發(fā)出輝光，故稱為輝光放電處理。輝光放電時(shí)的氣壓大小對(duì)材料處理效果有很大影響，另外與放電功率，氣體成分及流動(dòng)速度、材料類型等因素有關(guān)。

不同的放電方式、工作物質(zhì)狀態(tài)及上述影響等離子體產(chǎn)生的因素,相互組合可形成各種低溫等離子體處理設(shè)備。