反滲透凈水設備使用說明書

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 反滲透系統(tǒng)

    反滲透系統(tǒng)是整個凈水系統(tǒng)的核心部件，只通過反滲透才能達到凈水的規(guī)準。反滲透系統(tǒng)主要采用膜過濾工藝。然后水分子可以通過反滲透膜。其他一些如鈣、鎂、鈉等離子隨廢水一起排掉。下面本系統(tǒng)的組成部件。

輔助系統(tǒng)

    其他一些輔助系統(tǒng)如，臭氧殺菌系統(tǒng)、燈檢、灌裝系統(tǒng)。還可用紫外線來殺菌，紫外線不會殘留，外就很多喜歡用紫外線

水集分

    水集分 ，稱為:庭用水集中分質過濾系統(tǒng)，是集庭廚房用水(濾過濾)、沐浴用水(陽離子軟化)、洗滌用水、飲用純凈水(反滲透過濾系統(tǒng))為一體解決的綜合型用屋凈水設備。通過水集分過濾系統(tǒng)后，能面庭飲水、廚房用水、沐浴、洗滌用水的安。

設備系統(tǒng)構成

    反滲透純凈水處理系般括預處理系統(tǒng)、反滲透裝置、后處理系統(tǒng)、清洗系統(tǒng)和電氣控制系統(tǒng)等。 　預處理系般括原水泵、加藥裝置、石英砂過濾器、活性炭過濾器、準確過濾器等。其主要是降原水的污染指數(shù)和余氯等其他雜質，達到反滲透的進水要求。 　反滲透裝置主要括多級高壓泵、反滲透膜元件、膜殼（壓力容器）、支架等組成。其主要是去除水中的雜質，使出水滿足使用要求。

    后處理系統(tǒng)是在反滲透不能滿足出水要求的情況下增加的配置。主要括陰床、陽床、混床、殺菌、濾等其中的一種或者多種設備。

    清洗系統(tǒng)主要清洗水箱、清洗水泵、準確過濾器組成。當反滲透系統(tǒng)受到污染出水指標不能滿足要求時，需要對反滲透進行清洗使之恢復功效。

    電氣控制系統(tǒng)是用來控制整個反滲透系統(tǒng)正常運行的。括儀表盤、控制盤、各種電器保護、電氣控制柜等。

清洗方法

    反滲透技術因具殊的*性而得到日益的。反滲透凈水設備的清洗問題可能使許多技術力量不強的用戶遭受損失，所以要做好反滲透設備的管理，就可以避免出現(xiàn)嚴重的問題。

反滲透設備

    定期對反滲透設備進行大流量、壓力、pH值的沖洗利于剝除附著在膜表面上的污垢，維持膜性能，或當反滲透設備進水SDI突然升過5.5以上時，應進行壓沖洗，待SDI值調至合格后再開機。

設備停運保護

    由于的波動，反滲透設備不可避免地要經常停運，短期或停用時必須采取保護措施，不適當?shù)靥幚頃е履ば阅芟陆登也豢苫謴汀?/span>

    短期保存適用于停運15d以下的系統(tǒng)，可采用每1～3d壓沖洗的方法來保護反滲透設備。實踐發(fā)現(xiàn)，水溫20℃以上時，反滲透設備中的水存放3d就會發(fā)臭變質，大量細菌繁殖。因此，建議水溫高于20℃時，每2d或1d壓沖洗一次，水溫于20℃時，可以每3d壓沖洗一次，每次沖洗完后需關閉凈水設備反滲透裝置上所進出口閥門。

    停用保護適用于停運15d以上的系統(tǒng)，這時必須用保護液(殺菌劑)充入凈水設備反滲透裝置進行保護。常用殺菌劑配方(復合膜)為甲醛10(質量分數(shù))、異噻唑啉酮20mg/L、亞硫酸氫鈉1(質量分數(shù))。

化學清洗

    在正常運行條件下，反滲透膜也可能被機物垢、膠體、微生物、金屬氧化物等污染，這些物質沉積在膜表面上會引起凈水設備反滲透裝置出力下降或脫鹽率下降、壓差升高，甚至對膜造成不可恢復的損傷，因此，為了恢復良好的透水和除鹽性能，需要對膜進行化學清洗。

    一般3～12個月清洗一次，如果每個月不得不清洗一次，這說明應該改善的預處理系統(tǒng)，調整的運行參數(shù)。如果1～3個月需要清洗一次，則需要提高設備的運行水平，是否需要改進預處理系統(tǒng)較難判斷。

處理系統(tǒng)

    反滲透系統(tǒng)是整個純凈水系統(tǒng)的核心部件，只通過反滲透才能達到純凈水的規(guī)準。反滲透系統(tǒng)主要采用膜過濾工藝。然后水分子可以通過反滲透膜。其他一些如鈣、鎂、鈉等離子隨廢水一起排掉。下面本系統(tǒng)的組成部件。

1.準確過濾器

    主要過濾水中的大顆粒分子。

2.種高壓泵

    為反滲透設備提供強勁的動力。

3.反滲透膜

   反滲透膜采用的是膜過濾技術。讓水分子通過其他一些離子不能通過達到凈化水的。

    作為純凈水的依托是非常重要的。所以要純凈水一定是要原水水質比較好的地方。如山泉、深井等。在這里牽扯到一個非常重要的指數(shù)就是“電導率”。一般而言電導率，越。水越純凈。采用的水處理工藝都是采用的反滲透系統(tǒng)。經過處理后的水一般能達到90%——99%的脫鹽率。下面我一下這個系統(tǒng)的組成部件。

1.原水泵

    原水泵是為原水預處理系統(tǒng)提供原水壓力的。如果原水壓力就完可以不用這個設備。一般要求原水壓力>=0.3MP

2.原水箱

    原水箱的更簡單，是儲存原水用的。這是怕原水一供不上作一個中轉。

3.石英砂過濾器

    這個設備主要是過濾水中的微生物、塵土使原水達到清澈的。

4.活性炭過濾器

該設備主要是過濾水中的余氯。

5.加藥系統(tǒng)（陽離子交系統(tǒng)）

    小型系統(tǒng)多使用陽離子交系統(tǒng)；大型系統(tǒng)則多使用加藥系統(tǒng)直接向里添加阻垢劑。

反滲透凈水設備使用說明書

主要工藝流程

    原水罐

儲存原水，用于沉淀水中的大泥沙顆粒及其它可沉淀物質。同時緩沖原水管中水壓不穩(wěn)定對水處理系統(tǒng)造成的沖擊。（如水壓過或過高引起的壓力傳感的反應）。

    原水泵

恒定系統(tǒng)供水壓力，穩(wěn)定供水量。

    多介質過濾器

采用多次過濾層的過濾器，主要是去除原水中含的泥沙、鐵銹、膠體物質、懸浮物等顆粒在20um以上的物質，可選用手動閥門控制或者自動控制器進行反沖洗、正沖洗等一系列操作。設備的產水質量，延長設備的使用壽命。

    活性炭過濾器

系統(tǒng)采用果殼活性炭過濾器，活性炭不但可吸附電解質離子，還可進行離子交吸附。經活性炭吸附還可使高錳酸鉀耗氧量（COD）由15mg/L(O2)降至2～7mg/L(O2)，此外，由于吸附使表面被吸附復制的濃度增加，因而還起到催化、去除水中的色素、異味、大量生化機物、降水的余氯值及污染物和除去水中的三鹵化物（THM）以及其它的污染物。同時，設備具自我維護系統(tǒng)，運行很。

   離子軟化系統(tǒng)

R/O裝置為了溶解固體形物的濃縮排放和淡水的利用，為防止?jié)馑藙e是RO裝置一根膜組件濃水側出現(xiàn)CaCO3,MgCO3,MgSO4,CaSO4,BaSO4, SrSO4, SiSO4的濃度積大于其平衡溶解度常數(shù)而結晶析出,損壞膜原件的應性 ,在進入反滲透膜組件之前,應使用離子軟化裝置或投放適量的阻垢劑阻止碳酸鹽, SiO2,硫酸鹽的晶體析出.

    準確過濾器

采用準確過濾器對進水中殘留的懸浮物、非曲直粒物及膠體等物質去除，使RO系統(tǒng)等后 　續(xù)設備運行更安、更可靠。濾芯為5um熔噴濾芯、防止上級過濾單元，漏掉的大于5um的雜質除去。防止進入反滲透裝置損壞膜的表面，從而損壞膜的脫鹽性能。

    反滲透系統(tǒng)

反滲透裝置是用足夠的壓力使溶液中的溶劑（一般是水）通過反滲透膜（或稱半透膜）而分離出來，因為這個過程和自然滲透的方向相反，因此稱為反滲透。 反滲透法能適應各類含鹽量的原水，尤其是在高含鹽量的水處理工程中，能獲得很好的技術效益。反滲透法的脫鹽率提高，回收率高，，，，反滲透設備在除鹽的同時，也將大部分細菌、膠體及大分子量的機物去除。

?主要用途

    1、制取電子工業(yè)如顯像管玻殼、顯像管、液晶顯示器、線路板、計算機硬盤、集成電路芯片、單晶硅半導體等工藝所需的純水、高純水；

    2、制取熱力、火力發(fā)電鍋爐，礦企業(yè)中、壓鍋爐給水所需軟化水、除鹽純水；

    3、制取醫(yī)藥工業(yè)所需的大輸液、注射劑、藥劑、生化制品純水、菌水及人工腎透析用純水等；

    4、制取飲料（含酒類）行業(yè)的飲用純凈水、蒸餾水、礦泉水，酒類釀造水和勾兌用純水；

    5、海水、苦咸水制取生活用水及飲用水；

    6、制取電鍍工藝用去離子水；電池（蓄電池）工藝的純水；汽車、用電器、建材產品 　表面涂裝、清洗沌水；鍍膜玻璃用純水；紡織印染工藝所需的除硬除鹽水；

    7、石油化工業(yè)如化工反應冷卻水；化學藥劑、化肥及精細化工、化妝品過程用工藝純水；

    8、賓館、樓宇、社區(qū)機場房產物業(yè)的供水網絡系統(tǒng)及游泳池水質凈化；

    9、線路板、電鍍、電子工業(yè)廢水處理及回用；

    10、生活、、制革、印染、造紙工業(yè)廢水及垃圾滲瀝液的處理；

濃度化危害

    反滲透膜分離過程中，水分子透過以后，膜界面中含鹽量增大，形成較高的濃水層，此層與給水水流的濃度形成很大的濃度梯度，這種現(xiàn)象稱為膜的濃差化（concentration polarization）。濃度化會對運行產生害的影響。

   （1）由于界面層中的濃度很高，相應地就會使?jié)B透壓升高。滲透壓升高后，勢必會使原來運行條件的產水量下降。為達到原來的產水量，就要提高給水壓力，使產品水的能耗增大

   （2） 由于界面層中鹽的濃度升高，膜兩側的Δc增大，使產品水鹽透過量增大。

   （3） 由于界面層的濃度升高，對易結垢的物質增加了沉淀的傾向，導致膜的垢污染。為了恢復性能要頻繁地清洗垢物，并可能造成不可恢復的膜性能下降。

   （4） 形成的濃度梯度，歲采取一定措施使鹽分擴散離開膜表面，但膠體物質的擴散要比鹽分擴散速度小數(shù)百數(shù)千倍，因而濃度化是促成膜表面膠體污染的重要原因。