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電子產(chǎn)業(yè)飛速發(fā)展,其生產(chǎn)需要的配套產(chǎn)品需求也大大提高。電子產(chǎn)品對(duì)精度要求高,因而對(duì)電子元件的清洗要求也是很高的。這些應(yīng)用既需要有高純度的水質(zhì),又需要具有經(jīng)濟(jì)性。
在半導(dǎo)體制程中,制作集成電路的尺寸越來越小,晶圓上的組件也隨之縮小,使得各種有機(jī)物、粒子的接觸污染及各機(jī)臺(tái)導(dǎo)致的金屬雜質(zhì)等污染物大于或相當(dāng)于組件尺寸的現(xiàn)象更嚴(yán)重,若在半導(dǎo)體制程中有污染物殘留在晶圓表面上,將造成組件短路或缺陷,導(dǎo)致集成電路無法使用。因此,半導(dǎo)體制程中不允許晶圓表面上殘留有污染物。污染物的去除是半導(dǎo)體制程中的重要技術(shù),利用超純水中氫氧自由基清洗晶圓表面的方法,以增加粒子移除的效率,并減少制程成本。
萊特萊德能夠?yàn)橛脩籼峁└鼉?yōu)品質(zhì)的超純水,采用靶向離子交換系統(tǒng)針對(duì)超純水中難處理的硼及其他離子定向去除,保證出水硼離子能夠穩(wěn)定≤5ppt。系統(tǒng)優(yōu)勢(shì)如下:
1、超純水設(shè)備可連續(xù),穩(wěn)定地生產(chǎn)高純度的超純水,無需因樹脂再生而停機(jī)。
2、系統(tǒng)集成度高,雙操作系統(tǒng),更高系統(tǒng)穩(wěn)定性。
3、日常保養(yǎng)維護(hù)簡(jiǎn)單方便,設(shè)備耐用,壽命長(zhǎng)。
從研發(fā)設(shè)計(jì)、設(shè)備制造,到工程施工、運(yùn)營(yíng)維護(hù),萊特萊德秉承"科學(xué)創(chuàng)新,技術(shù)*,以人為本,客戶至上"的經(jīng)營(yíng)服務(wù)理念。萊特萊德超純水系統(tǒng)廣泛應(yīng)用于電子芯片、集成電路及封裝、二極管、三極管、傳感器、電子級(jí)硫酸、電子級(jí)雙氧水、電子級(jí)氨水、高精度線路板、光伏、TFT玻璃基板、晶圓、石英管、超白玻璃、科研、高精尖儀表、珠寶加工等領(lǐng)域。
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