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　　電子芯片清洗用超純水設(shè)備

　　超純水設(shè)備的工作原理是對水施加一定的壓力，使水分子和離子態(tài)的礦物質(zhì)元素通過反滲透膜，而溶解在水中的絕大部分無機鹽(包括重金屬)、有機物以及細(xì)菌、病毒等無法透過反滲透膜，從而使?jié)B透過的純凈水和無法滲透過的濃縮水嚴(yán)格的分開。

　　超純水設(shè)備的優(yōu)勢：

　　經(jīng)過超純水設(shè)備的水是除了水分子外幾乎無其他雜質(zhì)的，它相對于的其他的純水設(shè)備有著更好的出水效果。超純水設(shè)備屬于高科技綠色環(huán)保技術(shù)。環(huán)保特性好，操作使用簡便，愈來愈多地被人們所認(rèn)可，也愈來愈多地在電子、電力、化工等行業(yè)得到推廣。超純水設(shè)備在純凈水期間采用了預(yù)處理、超濾、微濾、反滲透、常規(guī)混床、EDI、核能極精拋光混床等工藝流程。

　　超純水設(shè)備具有連續(xù)運行性，不需要再生產(chǎn);結(jié)構(gòu)緊湊、管理分布合理、簡單;無酸堿處理，節(jié)能環(huán)保;采用潔凈循環(huán)管道，確保系統(tǒng)內(nèi)無死水。

　　使用超純水設(shè)備有哪些注意事項?

　　進水管道需要用過濾過的水進行沖洗然后才可接入到工業(yè)超純水設(shè)備EDI模塊，否則會由于未進行清洗而使管路碎片雜物進入模塊造成無法挽救的損失。對模塊緩慢增壓，時間控制在一到兩分鐘，以此避免水錘造成的損害。

　　切記：不要讓模塊的壓力超過規(guī)定范圍。確認(rèn)各類水的流量充足，如淡水流量，濃水排放流量計濃水循環(huán)流量等，并保持聯(lián)動裝置正常的運作。

　　電子芯片清洗用超純水設(shè)備

　　對模塊的進水水質(zhì)進行檢驗，如余氯或其他氧化劑。進水水質(zhì)需符合進水指標(biāo)。若進水硬度大于0.5ppm，又或是其他進水指標(biāo)達不到要求而運行的話，會損壞模塊。這時就要采取定期用酸清洗或是濃水管道軟化的辦法若EDI超純水設(shè)備有加鹽泵系統(tǒng)，那么對鹽的成分和質(zhì)量須仔細(xì)檢查和嚴(yán)格要求，用鹽指標(biāo)可參考用戶手冊。若長期用不達標(biāo)的鹽會對膜造成損傷。