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等離子設(shè)備噴涂工藝

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產(chǎn)品型號(hào)GH-60D

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更新時(shí)間：2019-07-15 13:56:11瀏覽次數(shù)：919次

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昆山國(guó)華電子科技有限公司

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聯(lián)系人：張斌（經(jīng)理）

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產(chǎn)品簡(jiǎn)介

等離子設(shè)備噴涂工藝是二十世紀(jì)五十年代開發(fā)出來的一種表面處理工藝。等離子噴涂設(shè)備及工藝是采用等離子弧發(fā)生器（噴槍）將通入噴嘴內(nèi)的氣體（常用Ar、N和H等氣體）加熱和電離，形成高溫高速等離子射流，熔化和霧化金屬或非金屬物料，并使其以高速噴射到經(jīng)預(yù)處理的工件表面上形成涂層的方法。公司由多名*從事等離子體技術(shù)應(yīng)用研究，設(shè)備制造和銷售的業(yè)內(nèi)*人事創(chuàng)建。

詳細(xì)介紹

昆山國(guó)華電子等離子噴涂工藝特點(diǎn)：

熱源溫度范圍寬，可噴涂材料幾乎包括所有固態(tài)工程材料，如金屬、合金、陶瓷、金屬陶瓷、塑料以及由它們組成的復(fù)合物等，因而能賦予基體以各種功能（如耐磨、耐蝕、耐高溫、抗氧化、絕緣、隔熱、生物相容、紅外吸收等），成本低，經(jīng)濟(jì)效益顯著。

1) 熱源溫度高（17000K），適用于難熔材料的噴涂

2) 等離子射流速度大，可高達(dá)幾十至幾百米／秒，因此涂層與基體具有較高的結(jié)合強(qiáng)度，而且涂層較為致密

3) 噴涂過程中對(duì)基體的熱影響較小，可以對(duì)已成型的工件進(jìn)行表面噴涂

4) 噴涂工藝規(guī)程穩(wěn)定，操作比較簡(jiǎn)便，噴涂效率較高

等離子設(shè)備噴涂工藝

我司的這種工藝生產(chǎn)出的涂層有很多優(yōu)勢(shì)。涂層致密性好，粘結(jié)性強(qiáng)，不會(huì)被污染，金屬涂層中沒有氧化物。在用無反應(yīng)大氣裝填的噴涂室內(nèi)噴涂的陶瓷等非金屬涂層純度很高。并且，諸如鎢等高熔點(diǎn)金屬涂層應(yīng)用也很成功。由于噴槍與工件之間的距離不像大氣噴涂條件下那么關(guān)鍵，所以部件控制變得簡(jiǎn)單。噴涂工藝時(shí)間可以大大縮短，這是因?yàn)榈入x子羽流剖面均勻，“焦斑直徑”可以很大。此外，沒有大氣冷卻涂層粒子意味著涂層凝固過程比較緩慢。大氣等離子涂層幾乎沒有夾層“薄片”，涂層的晶體結(jié)構(gòu)接近鑄件材料的晶體結(jié)構(gòu)。

受控的大氣噴涂工藝的一個(gè)*屬性是能夠用逆向轉(zhuǎn)換?。≧TA）在噴涂室內(nèi)冶金地清洗工件，然后立即進(jìn)行涂層工藝。這樣一來，大大提高了涂層的粘結(jié)力。

目前，等離子噴涂技術(shù)用于制備熱障涂層的陶瓷面層和金屬過渡層。按噴涂環(huán)境不同而分類的等離子噴涂有以下幾種工藝：大氣等離子噴涂(APS)，保護(hù)氣氛(氬氣)等離子噴涂(ASPS)，低壓(LPPS)或真空等離子噴涂(VPS)。

大氣等離子噴涂法是應(yīng)用較為廣泛的常規(guī)噴涂方法，具有操作方便，生產(chǎn)效率高的特點(diǎn)，但涂層質(zhì)量高而且涂層致密度和結(jié)合強(qiáng)度高。

真空等離子噴涂法由于從根本上克服了等離子射流同環(huán)境氣氛的相互作用，因此可獲得與原始噴涂材料成分*的純凈涂層，而且等離子射流速度快(240~610m／s)，由此形成的涂層致密，結(jié)合強(qiáng)度與APS涂層相比較高。通常，MCrAlY粘結(jié)層采用LPPS或VPS工藝制備，而YSZ陶瓷層的制備則采用APS方法。