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UV光催化氧化除臭設(shè)備廠家

UV光解除臭設(shè)備UV光氧化除臭設(shè)備光催化除臭設(shè)備型號(hào)齊全

光催化氧化工藝原理

1. 光催化氧化是在外界可見(jiàn)光的作用下發(fā)生催化作用,光催化氧化反應(yīng)是以半導(dǎo)體及空氣為催化劑，以光為能量，將有機(jī)物降解為CO2和H2O及其它無(wú)毒無(wú)害成份。本公司利用人工紫外線光波作為能源，配合經(jīng)我公司特殊處理后活性強(qiáng)、反應(yīng)效率高的納米TiO2催化劑,廢臭氣體經(jīng)過(guò)處理后可達(dá)到凈化的更理想的效果。

光催化除臭設(shè)備。光催化UV光解處理設(shè)備光催化本產(chǎn)品利用特制的高能高臭氧UV紫外線光束照射、裂解廢氣，如：氨、*an、硫化氫、甲硫氫、甲硫醇、甲硫醚、二硫化碳和苯乙烯，硫化物H2S、VOC類，苯、甲苯、二甲苯的分子鏈結(jié)構(gòu)，使有機(jī)或無(wú)機(jī)高分子廢氣化合物分子鏈，在高能紫外線光束照射下，降解轉(zhuǎn)變成低分子化合物，如CO2、H2O等。

2. 在半導(dǎo)體光催化氧化反應(yīng)中，通過(guò)紫外光照射在納米TiO2催化劑上，納米TiO2催化劑吸收光能產(chǎn)生電子躍進(jìn)和空穴躍進(jìn)，經(jīng)過(guò)進(jìn)一步的結(jié)合產(chǎn)生電子-空穴對(duì)，與廢氣表面吸附的水份（H2O）和氧氣（O2）反應(yīng)生成氧化性很活波的羥基自由基（OH-）和超氧離子自由基（O2-、0-）。能夠把各種有機(jī)廢氣如醛類、苯類、氨類、氮氧化物、硫化物以及其它VOC類有機(jī)物及無(wú)機(jī)物在光催化氧化的作用下還原成二氧化碳（CO2）、水（H2O）以及其它無(wú)毒無(wú)害物質(zhì)，經(jīng)過(guò)凈化之后的廢氣分子被活化降解，臭味也同時(shí)消失了，起到了廢氣除臭的作用，同時(shí)對(duì)管道內(nèi)滋生的細(xì)菌病毒都可以有效的去除，由于在光催化氧化反應(yīng)過(guò)程中無(wú)任何添加劑，所以不會(huì)產(chǎn)生二次污染，運(yùn)行成本方面只是用到電能，無(wú)需經(jīng)常更換配件，對(duì)于企業(yè)來(lái)的使用上是相當(dāng)?shù)墓?jié)能環(huán)保。

本產(chǎn)品采用高效光解氧化技術(shù)，該技術(shù)是目前工業(yè)惡臭廢氣處理技術(shù)中*的技術(shù)之一，“UV高效光解氧化模塊”的設(shè)備和開(kāi)發(fā)充分考慮了工業(yè)惡臭廢氣性質(zhì)的不確定性和復(fù)雜性，從工程的設(shè)計(jì)、配套、安裝、調(diào)試、維護(hù)等方面提供了很大的可行性、可靠性、靈活性。

產(chǎn)品可廣泛應(yīng)用于：

1、污水處理廠、垃圾中轉(zhuǎn)站、垃圾焚燒廠、垃圾填埋廠、屠宰廠、動(dòng)物養(yǎng)殖廠等含有惡臭氣體的凈化處理。

2、應(yīng)用于食品加工廠、涂料廠、染料廠、煙廠、印刷廠、化工廠、焦化廠、造紙廠等有機(jī)廢氣的凈化。

3、可以用于餐飲油煙、各種機(jī)械制造業(yè)廢氣、各種生產(chǎn)工藝過(guò)程中的含油廢氣凈化。

設(shè)備選型說(shuō)明

A、若采用UV光解技術(shù)凈化廢氣，首先需要確定個(gè)化學(xué)鍵鍵能，只有鍵能低于UV光子能量，才能被裂解
上表中包含了氨、硫化氫、甲硫醇、甲硫醚等惡臭氣體的所有化學(xué)鍵鍵長(zhǎng)、鍵能參數(shù)，而光解氧化除臭設(shè)備產(chǎn)生的185nm*紫外線光的光子能量達(dá)到647KJ/mol，185nm*紫外線光波段中的成分廣譜波長(zhǎng)可短至100nm，其光子能量更高達(dá)800KJ/mol以上，幾乎所有惡臭氣體的分子鏈都可被打開(kāi)，從而起到消除臭味的作用。
B、廢氣分子只被裂解成原子、自由基是不夠的，還需要通過(guò)臭氧將其氧化成穩(wěn)定的小分子，如CO2、H2O等，從而達(dá)到廢氣凈化的目的。顧需要有充分的氧氣被高能UV光照射生成臭氧。

光催化除臭設(shè)備特點(diǎn)：

1、光解廢氣處理模塊能高效去除揮發(fā)性有機(jī)物、硫化氫、氨氣等無(wú)機(jī)物類污染物，以及各種惡臭味，脫臭效率可達(dá)99%以上，脫臭效果大大優(yōu)于國(guó)家頒布的惡臭污染物排放標(biāo)準(zhǔn)(GB14554-93)

2、光解廢氣處理模塊可適應(yīng)于絕大部分高濃度，大氣量，不同惡臭氣體物質(zhì)的脫臭凈化處理，通過(guò)合理的模塊配置可廣泛應(yīng)用于：煉油廠、橡膠廠、化工廠、制藥廠、污水處理廠、垃圾中轉(zhuǎn)站、污水泵房、中央空調(diào)等惡臭氣體的脫臭滅菌凈化處理?？擅刻?4小時(shí)連續(xù)工作，運(yùn)行穩(wěn)定可靠。

3、本設(shè)備無(wú)任何機(jī)械裝置，無(wú)運(yùn)動(dòng)噪音，無(wú)需專人管理和日常維護(hù)，只需要作定期檢查維護(hù)，維護(hù)和能耗成本低，風(fēng)阻極低，相對(duì)目前流行的靜電式油煙凈化器等設(shè)備，可節(jié)約大量排風(fēng)動(dòng)力能耗，達(dá)到節(jié)能的目的。

4、光解廢氣處理模塊因采用光解原理，模塊采取了隔爆處理，消除了安全隱患、防火、防爆、防腐蝕性能高，設(shè)備性能安全穩(wěn)定，特別適用于高濃度易燃易爆廢氣的場(chǎng)合。

5、光解廢氣處理模塊無(wú)需惡臭氣體進(jìn)行特殊的預(yù)處理，如加溫、加濕等，設(shè)備工作環(huán)境溫度在-30度~95度之間，濕度在30%~98%、PH值在2~13范圍均可正常工作，無(wú)需添加其他物質(zhì)及藥劑參與處理。

6、光解廢氣處理模塊可根據(jù)風(fēng)量及氣體濃度的大小，靈活配置光解氧化模塊的個(gè)數(shù)，采用抽屜式插拔安裝形式，配件統(tǒng)一，安裝及維護(hù)方便。備件可在線維護(hù)和更換，方便靈活。

三、低溫等離子分解氧化凈化模塊：

1，低溫等離子由高能電子、正負(fù)離子、自由基和中性粒子組成。低溫等離子凈化模塊是利用高能電子擊發(fā)電子、自由基和中性粒子，以及離子等不間斷轟擊、氧化、分解、電離、激化廢氣中的異味分子，廢氣中的有機(jī)物分子鏈被斷開(kāi)，電離，氧化還原，從而生成二氧化碳和水等無(wú)害物質(zhì)。

四、低溫等離子分解氧化凈化模塊特點(diǎn)：

1、產(chǎn)品采用進(jìn)口不銹鋼制作外框，利用正負(fù)電極并且配有高壓低溫等離子電源。

2、低溫等離子分解氧化凈化模塊具有體積小，重量輕，安裝、維護(hù)簡(jiǎn)便，能耗低等優(yōu)點(diǎn)。

3、低溫等離子分解氧化凈化模塊設(shè)計(jì)為有故障短路，限流，自動(dòng)恢復(fù)等功能，不需要人工操作。

4、低溫等離子分解氧化凈化模塊可根據(jù)客戶處理廢氣濃度的需要，增加或減少凈化模塊的數(shù)理，以達(dá)到凈化廢氣的效果。

5、低溫等離子分解氧化凈化模塊和高能UV光解氧化模塊安裝在同一個(gè)箱體內(nèi)，可以更好地凈化諸多廢氣中的惡臭分子。

UV光催化氧化除臭設(shè)備廠家