高純水設(shè)備主要用途： 微電子產(chǎn)品生產(chǎn)用高純水，半導(dǎo)體、顯象管制造業(yè)用超純水，集成電路板生產(chǎn)清洗用超純水，蓄電池、鋰電池、太陽(yáng)能電池、干電池等生產(chǎn)用水。 工藝流程一：反滲透+混床 工藝流程二：反滲透+EDI設(shè)備 1.電子工業(yè)超純水概述 半導(dǎo)體、集成電路芯片及封裝、液晶顯示、高精度線(xiàn)路板、光電器件、各種電子器件、微電子工業(yè)、大規(guī)模、超大規(guī)模集成電路需用大量的純水、高純水、超純水清洗半成品、成品。集成電路的集成度越高，線(xiàn)寬越窄，對(duì)水質(zhì)的要求也越高。目前我國(guó)電子工業(yè)部把電子級(jí)水質(zhì)技術(shù)分為五個(gè)行業(yè)等級(jí)，分別為18MΩ.cm、15MΩ.cm、10MΩ.cm、2MΩ.cm、0.5MΩ.cm，以區(qū)分不同水質(zhì)。 2.制備電子工業(yè)超純水的工藝流程 電子工業(yè)制備超純水的工藝大致分成以下3種： 　　 1、采用離子交換樹(shù)脂制備電子工業(yè)超純水的傳統(tǒng)水處理方式，其基本工藝流程為：原水→多介質(zhì)過(guò)濾器→活性炭過(guò)濾器→精密過(guò)濾器→中間水箱→陽(yáng)床→陰床→混床（復(fù)床）→超純水箱→超純水泵→后置保安過(guò)濾器→用水點(diǎn) 　　 2、采用反滲透水處理設(shè)備與離子交換設(shè)備進(jìn)行組合制備電子工業(yè)超純水的方式，其基本工藝流程為：原水→多介質(zhì)過(guò)濾器→活性炭過(guò)濾器→精密過(guò)濾器→中間水箱→反滲透設(shè)備→混床（復(fù)床）→超純水箱→超純水泵→后置保安過(guò)濾器→用水點(diǎn) 　　 3、采用反滲透設(shè)備與電去離子（EDI）設(shè)備進(jìn)行搭配制備電子工業(yè)超純水的的方式，這是一種制取超純水的工藝，也是一種環(huán)保，經(jīng)濟(jì)，發(fā)展?jié)摿薮蟮某兯苽涔に?，?/span>高純水設(shè)備基本工藝流程為：原水→多介質(zhì)過(guò)濾器→活性炭過(guò)濾器→精密過(guò)濾器→中間水箱→反滲透設(shè)備→電去離子（EDI）→超純水箱→超純水泵→后置保安過(guò)濾器→用水點(diǎn) 3.電子工業(yè)超純水設(shè)備特點(diǎn) 電子工業(yè)超純水設(shè)備通常由多介質(zhì)過(guò)濾器，活性碳過(guò)濾器，鈉離子軟化器、精密過(guò)濾器等構(gòu)成預(yù)處理系統(tǒng)、RO反滲透主機(jī)系統(tǒng)、離子交換混床（EDI電除鹽系統(tǒng)）系統(tǒng)等構(gòu)成主要設(shè)備系統(tǒng)。原水箱、中間水箱、RO純水水箱、超純水水箱均設(shè)有液位控制系統(tǒng)、高低壓水泵均設(shè)有高低壓壓力保護(hù)裝置、在線(xiàn)水質(zhì)檢測(cè)控制儀表、電氣采用PLC可編程控制器，真正做到了無(wú)人值守，同時(shí)在工藝選材上采用*和客戶(hù)要求相統(tǒng)一的方法，使該設(shè)備與其它同類(lèi)產(chǎn)品相比較，具有更高的性?xún)r(jià)比和設(shè)備可靠性。 4.電子工業(yè)超純水的應(yīng)用領(lǐng)域 1、半導(dǎo)體材料、器件、印刷電路板和集成電路成品、半成品用超純水； 　　 2、超純材料和超純化學(xué)試劑勾兌用超純水； 　　 3、實(shí)驗(yàn)室和中試車(chē)間用超純水； 　　 4、汽車(chē)、家電表面拋光處理； 　　 5、光電子產(chǎn)品； 　　 6、其他高科技精微產(chǎn)品；