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低溫等離子光化學(xué)設(shè)備

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低溫等離子光化學(xué)設(shè)備工藝流程圖工藝流程說(shuō)明：（1）煙氣經(jīng)過(guò)管道收集，在進(jìn)入煙氣治理設(shè)備之前先經(jīng)過(guò)管道過(guò)濾器粗濾，防止大顆粒物進(jìn)入處理設(shè)備，給設(shè)備造成影響

詳細(xì)介紹

低溫等離子光化學(xué)設(shè)備

工藝流程圖

工藝流程說(shuō)明：

（1）煙氣經(jīng)過(guò)管道收集，在進(jìn)入煙氣治理設(shè)備之前先經(jīng)過(guò)管道過(guò)濾器粗濾，防止大顆粒物進(jìn)入處理設(shè)備，給設(shè)備造成影響。

（2）煙氣粗濾后進(jìn)入預(yù)處理模塊，預(yù)處理模塊采用油煙分離板構(gòu)造，將煙氣中夾雜的焦油、粉塵去除。

（3）經(jīng)過(guò)預(yù)處理模塊除油煙后，煙氣進(jìn)入設(shè)備的核心處理區(qū)域----等離子凈化區(qū)，等離子凈化采用注入式等離子發(fā)生裝置。外界新鮮空氣經(jīng)低溫等離子發(fā)生裝置，得到等離子體送入等離子凈化區(qū)。在等離子凈化區(qū)，大部分煙氣分子被等離子體轟擊、氧化后變成無(wú)毒、無(wú)色、無(wú)味的氣體。

（4）夾雜著部分低溫等離子體的煙氣到達(dá)光化學(xué)模塊。高強(qiáng)輻照?qǐng)鰧?duì)煙氣成份有破壞作用并產(chǎn)生活潑的次生氧化劑；煙氣成份在氧化劑和光的協(xié)同作用下持續(xù)發(fā)生氧化分解，最終生成二氧化碳和水。

（5）超微凈化模塊設(shè)有順流循環(huán)噴淋系統(tǒng)、錯(cuò)流循環(huán)噴淋系統(tǒng)、重力沉降、碰撞除塵、氣流均布裝置，可以去除微小粉塵，滿足排放標(biāo)準(zhǔn)。

（6）整個(gè)煙氣治理設(shè)備中均設(shè)計(jì)有自清系統(tǒng)，利用循環(huán)水對(duì)系統(tǒng)進(jìn)行自動(dòng)清潔。在光化學(xué)區(qū)和超微凈化模塊所產(chǎn)生的廢水經(jīng)過(guò)濾系統(tǒng)的過(guò)濾后循環(huán)利用。

（7）氣體在排放前，再經(jīng)過(guò)機(jī)械除霧區(qū)。在除霧區(qū)內(nèi)，氣體中夾帶的水霧在折流板功能段內(nèi)凝聚、滴落。

（8）除霧后，優(yōu)于國(guó)家排放標(biāo)準(zhǔn)的氣體通過(guò)引風(fēng)機(jī)排入大氣。

技術(shù)特點(diǎn)：

可根據(jù)不同工藝段廢氣的特點(diǎn)，設(shè)計(jì)采用不同的強(qiáng)針對(duì)性的工藝技術(shù)；組合式工藝極大的提高了廢氣治理效率。

低溫等離子反應(yīng)的實(shí)質(zhì)是利用電磁場(chǎng)中的高能電子轟擊污染物分子，使之化學(xué)鍵斷裂，形成活性粒子后再與其他基團(tuán)重新組合形成更穩(wěn)定的無(wú)害物質(zhì)的過(guò)程。

光化學(xué)反應(yīng)的實(shí)質(zhì)是利用高強(qiáng)光場(chǎng)輻照，污染物質(zhì)吸收光子的能量發(fā)生躍遷，使其處于極不穩(wěn)定的激發(fā)態(tài)，然后再與催化產(chǎn)生的活性基團(tuán)反應(yīng)，生成無(wú)害物質(zhì)的過(guò)程。

光化學(xué)能大大促進(jìn)低溫等離子的反應(yīng)效果與速率，同時(shí)，低溫等離子中電磁場(chǎng)中的活性離子和自由基也能促進(jìn)光化學(xué)反應(yīng)的快速、有效的進(jìn)行，二者相互促進(jìn)，相輔相成。

兩個(gè)場(chǎng)強(qiáng)的相互作用，使反應(yīng)效率提高了10至100倍，同時(shí)大大降低了項(xiàng)目產(chǎn)品的功耗。

處理系統(tǒng)設(shè)備具有以下特點(diǎn)：工藝系統(tǒng)的處理效率很高，并且很穩(wěn)定；初期投資費(fèi)用不高，運(yùn)行費(fèi)用低，維護(hù)保養(yǎng)簡(jiǎn)單，工藝系統(tǒng)容易操作，占地面積小，且經(jīng)此工藝處理后無(wú)二次污染。