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韋氏納米系統(tǒng)（深圳）有限公司
韋氏納米系統(tǒng)（深圳）有限公司
| 參 考 價 | 面議 |
產(chǎn)品型號RTP-100
品 牌其他品牌
廠商性質(zhì)代理商
所 在 地深圳市
聯(lián)系方式：劉先生查看聯(lián)系方式
更新時間：2018-09-14 14:08:35瀏覽次數(shù)：475次
聯(lián)系我時，請告知來自 環(huán)保在線德國優(yōu)尼藤專業(yè)致力于制造真空熱工藝處理設(shè)備，人性化的設(shè)計，桌面型/空間緊湊。在世界各大*大學(xué)實驗室，研究所等機構(gòu)廣泛應(yīng)用
RTP-100/RTP-100-HV真空快速退火爐
應(yīng)用于4英寸的真空/高真空快速退火應(yīng)用。
應(yīng)用領(lǐng)域：
離子注入/接觸退火；
快速熱處理(RTP)，快速退火(RTA)，快速熱氧化(RTO)，快速熱氮化(RTN)；
可在真空、惰性氣氛、氧氣、氫氣、混合氣等不同氣體氛圍環(huán)境下使用；
SiAu, SiAl, SiMo合金化；
低介電材料；
晶體化，致密化；
太陽能電池片鍵合；
電阻燒結(jié)
其他熱工藝需求
等等...
產(chǎn)品特點：
- 真空快速退火爐，有RTP-100型號 低真空(10-3 hPa)
RTP-100-HV 高真空(10-6 hPa)；
- 可應(yīng)用在不同氣氛環(huán)境下使用，如惰性氣體、氧氣、氫氮混合氣等；
- 控制方式：SPS人機界面控制，7英寸觸摸屏控制；
- 可存儲50個程序，每個程序多分為50步驟控制；
- 全自動智能控制，包括溫度、時間、氣體流量、真空度、冷卻水均可自動設(shè)置；
- 優(yōu)異的溫控均勻性，的工藝重復(fù)性；
技術(shù)規(guī)格：
- 溫度高達：1200℃；
- 升溫速率：150℃/秒；
- 降溫速度：200℃/分鐘 (1000℃-->400℃)；
- 溫控均勻性：≤ 1.5%設(shè)定溫度；
- 加熱方式：紅外鹵素?zé)簦敳考暗撞考訜?，也可單獨控制加?/span>
- 燈管數(shù)量及功率：18支/20KW
- 腔體冷卻：水冷方式，獨立冷卻源
- 襯底冷卻：氮氣吹掃；
- 工藝氣路：MFC控制，多4路 (氮氣、氬氣、氧氣、氫氮混合氣等)；
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