低溫等離子煙霧處理器

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產(chǎn)品型號xh-5000

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所在地滄州市

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更新時間：2017-10-09 17:17:08瀏覽次數(shù)：698次

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所在地區(qū)：河北滄州市

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產(chǎn)品簡介

低溫等離子煙霧處理器 uv光解廢氣凈化器等離子光氧催化除臭設備*，高效除惡臭，具有無需添加任何物質(zhì)，適應性強，運行成本低，無需預處理等優(yōu)勢的一款產(chǎn)品，用于噴漆，煉油廠、橡膠廠、化工廠、制藥廠、污水處理廠、垃圾轉(zhuǎn)運站等惡臭氣體的脫臭凈化處理！支持定做。

詳細介紹

低溫等離子煙霧處理器 uv光解廢氣凈化器等離子光氧催化除臭設備

采用低溫等離子體分解油霧、廢氣等污染介質(zhì)時，等離子體中的高能離子起決定性的作用。流星雨狀的高能離子與介質(zhì)內(nèi)分子（原理）發(fā)生非彈性碰撞，將能量轉(zhuǎn)化成基態(tài)分子（原子）的內(nèi)能，發(fā)生激發(fā)、離解、電離等一系列過程使污染介質(zhì)處于活化狀態(tài)。污染介質(zhì)在等離子體的作用下，產(chǎn)生活性自由基，活化后的污染物分子經(jīng)過等離子體定向鏈化學反應后被脫除。當離子平均能量超過污染介質(zhì)中化學鍵結(jié)合能時，分子鏈斷裂，污染介質(zhì)分解，并在等離子發(fā)生器吸附場的作用下被收集。在低溫等離子體中，可能發(fā)生各類型的化學反應，這主要取決于等離子的平均能量、離子密度、氣體溫度、污染物介質(zhì)內(nèi)分子濃度及共存的介質(zhì)成分。

低溫等離子煙霧處理器 uv光解廢氣凈化器等離子光氧催化除臭設備
氣態(tài)有機污染物的降解機理有足夠的能量來產(chǎn)生自由基，引發(fā)一系列復雜的物理、化學反應。由低溫等離子體引起的氣體有機物化學反應是在氣相中進行的電離、離解、激發(fā)、原子.分子間的相互結(jié)合及加成反應。這個能量足以使大多數(shù)氣態(tài)有機物中的化學鍵發(fā)生斷裂，從而使其降解。

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