IPNR-T1000 Thermoplastic nanoimprint resist 熱塑型納米壓印膠
分辨率低于10nm
低壓力壓印(< 20 bar)
低溫壓力(< 100 ℃)

IPNR-T2000 Thermal curable nanoimprint resist 熱固化型納米壓印膠
分辨率低于10nm
低壓力壓印(< 1 bar)以及低固化溫度(< 100 ℃)
熱固化時間短(< 60 s)
高氧等離子體刻蝕電阻
均一的膜厚度

IPNR-PC1000 Photo-curable nanoimprint resist (Free radical initiation) 光固化型納米壓印(自由基引發(fā))
丙烯酸酯官能化聚硅氧烷抗蝕劑
真空或者氮?dú)鈿夥障虏僮?nbsp;
低于10nm的分辨率
低壓力壓印以及超快固化時間(< 10 s)
低紫外照射量
高氧等離子體刻蝕電阻
均一的膜厚度

IPNR-PC2000 Photo-curable nanoimprint resist (cation intiation) 光固化納米壓印蝕劑(陽離子引發(fā))
乙烯基醚官能化聚硅氧烷抗蝕劑
空氣氣氛下操作
分辨率低于10nm
低壓力壓印(< 1 bar)以及超快固化時間(< 1 bar)
低紫外照射量
高氧等離子體刻蝕電阻
均一的膜厚度

IPNR-UL1000 Under-layer polymer 舉離型傳遞層材料
熱塑聚合物發(fā)送過程
強(qiáng)粘附抗蝕劑層以及材料

IPNR-UL2000 Under-layer polymer 刻蝕型傳遞層材料
熱固性聚合物刻蝕面罩過程
強(qiáng)粘附抗蝕劑層以及材料

IPNR-UPM Quick mold fabrication material 快速模板制作材料
快速而簡單的塑造材料
高分辨率以及低成本
化良好的學(xué)性以耐溫性
塑造優(yōu)良的附著力基板
可靠的脫模性

IPNR-AP Chlorosilane based adhesion promoter 氯硅烷增粘劑
促進(jìn)和基材之間的附著力
氣相或者液相處理

產(chǎn)品相關(guān)關(guān)鍵字：光刻膠納米光刻膠納米壓印光刻膠

以上信息由企業(yè)自行提供，信息內(nèi)容的真實性、準(zhǔn)確性和合法性由相關(guān)企業(yè)負(fù)責(zé)，環(huán)保在線對此不承擔(dān)任何保證責(zé)任。溫馨提示：為規(guī)避購買風(fēng)險，建議您在購買產(chǎn)品前務(wù)必確認(rèn)供應(yīng)商資質(zhì)及產(chǎn)品質(zhì)量。

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納米壓印光刻膠

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