污水處理設(shè)備 污泥處理設(shè)備 水處理過(guò)濾器 軟化水設(shè)備/除鹽設(shè)備 純凈水設(shè)備 消毒設(shè)備|加藥設(shè)備 供水/儲(chǔ)水/集水/排水/輔助 水處理膜 過(guò)濾器濾芯 水處理濾料 水處理劑 水處理填料 其它水處理設(shè)備
蘇州市創(chuàng)聯(lián)凈化設(shè)備有限公司
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所 在 地蘇州市
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更新時(shí)間：2024-10-16 14:14:22瀏覽次數(shù)：166次
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30t/h精細(xì)化工純水設(shè)備
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| 應(yīng)用領(lǐng)域和指標(biāo)要求參考： | |
| Reference of applications areas and indexes required： | |
| 用途 Applications | 用水指標(biāo) Water Indicators | 參考標(biāo)準(zhǔn) Reference standard |
| 護(hù)膚品、洗發(fā)水、染發(fā)劑、牙膏生產(chǎn)和各種清洗液生產(chǎn)用純水 Purewater for Skin-care products, shampoo, hair dyes, toothpaste production and a variety of cleaning fluid | 電導(dǎo)率≤2μs/CM Electric conductivity ≤2μs/CM | 飲用純凈水標(biāo)準(zhǔn)（GB17324-98） Purified drinking water standards（GB17324-98）
純化水標(biāo)準(zhǔn)（GMP2005版） Medical standards for purified water（GMP2005 version） |
| 超純材料和超純化學(xué)試劑 石英、硅材料生產(chǎn)、加工、提純 電子半導(dǎo)體、集成電路板上用到的化工材料 Ultra-pure materials and ultra-pure chemical reagents Quartz, silicon material production, processing, purification Electronic semiconductors, integrated circuit boards used in chemical materials | 電阻率15 ~18.25 MΩ.CM Resistivity 15 ~18.25 MΩ.CM | 我國(guó)電子級(jí)水質(zhì)技術(shù)指標(biāo)GB11446-1-1997 Electronic-grade water quality technical indicators of Chinese standard GB11446-1-1997
美國(guó)半導(dǎo)體工業(yè)用純水指標(biāo) The U.S. semiconductor industrial pure water indicators |
| 普通化工材料的生產(chǎn)和加工過(guò)程所用的溶劑及清洗過(guò)程 Common chemical material production and dissolvent in the processing and rinsing process | 電導(dǎo)率≤10μs/CM Electric conductivity≤10μs/CM | 飲用純凈水標(biāo)準(zhǔn)（GB17324-98） Purified drinking water standard (GB17324-98) |
| 實(shí)驗(yàn)室和中試車間 Lab and pilot plant | 電阻率15 ~18.25 MΩ.CM） Resistivity 15 ~18.25 MΩ.CM | 實(shí)驗(yàn)室高純水標(biāo)準(zhǔn) GB 6682-92 Lab high-water standards( GB 6682-92) |
| 高純墨水、傳真打印機(jī)中的噴墨、納米墨水 Purity ink, fax, printer inkjet, nano-ink | 電阻率15 ~18.25 MΩ.CM） Resistivity 15 ~18.25 MΩ.CM | 我國(guó)電子級(jí)水質(zhì)技術(shù)指標(biāo)GB11446-1-1997 Electronic-grade water quality technical indicators of Chinese standard GB11446-1-1997
美國(guó)半導(dǎo)體工業(yè)用純水指標(biāo) The U.S. semiconductor industrial pure water indicators |
| 主要工藝流程和出水指標(biāo)： | |
| Main technical process and standard of output water： | |
| ※ 預(yù)處理+一級(jí)反滲透（電導(dǎo)率≤10μs/CM） | |
| Pre-treatment+ one stage reverse osmosis system (electric conductivity≤10μs/CM） | |
| ※ 預(yù)處理+二級(jí)反滲透（電導(dǎo)率≤2μs/CM） | |
| Pre-treatment+ double stage reverse osmosis system (electric conductivity≤2μs/CM） | |
| ※ 預(yù)處理+反滲透+離子交換器（電阻率≥15MΩ.CM） | |
| Pre-treatment+ stage reverse osmosis system+ion exchange (electric conductivity≥15MΩ.CM） | |
| ※ 預(yù)處理+一級(jí)反滲透+EDI（電阻率≥15MΩ.CM） | |
| Pre-treatment+ stage reverse osmosis system+EDI (electric conductivity≥15MΩ.CM） | |
| ※ 預(yù)處理+二級(jí)反滲透+EDI +拋光混床（電阻率≥18.25MΩ.CM） | |
| Pre-treatment+ double stage reverse osmosis system+EDI +polishing mixed bed (electric conductivity≥18.25MΩ.CM） | |
| 詳細(xì)工藝需根據(jù)原水設(shè)計(jì)情況進(jìn)行設(shè)計(jì) | |
| Details of the design process should be carried out according to the feed water quality | |
| 純水設(shè)備的主要特點(diǎn) ： | |
| Main technics of pure water treatment equipment： | |
| ▼采用進(jìn)口反滲透膜，脫鹽率高，使用壽命長(zhǎng)，運(yùn)行成本低廉，產(chǎn)水水質(zhì)高而穩(wěn)定； | |
| Adopted import reverse osmosis membranes, desalination rate is high, long service life, the operation cost is low, the output water quality is high and stable. | |
| ▼在線水質(zhì)監(jiān)測(cè)控制，實(shí)時(shí)監(jiān)測(cè)水質(zhì)變化，保障水質(zhì)安全； | |
| On-line water quality monitoring and control, real-time monitoring of water quality to ensure safety of water quality. | |
| ▼全自動(dòng)電控程序，還可選配觸摸屏操作，使用方便，操作簡(jiǎn)單、安全； | |
| Automatic control procedure, also equipment with touch screen operation, easy to use, the operation is simple, safe. | |
| ▼切合當(dāng)?shù)厮|(zhì)的個(gè)性化設(shè)計(jì)，設(shè)想周到的堆疊式設(shè)計(jì)，占地面積小。 | |
| Correspond with the local water personalized design, considerate stackable design, small floor area, which can meet considerate needs. | |
| ▼運(yùn)行費(fèi)用及維修成本低，全自動(dòng)運(yùn)行，實(shí)現(xiàn)無(wú)人化管理操作 | |
| Operating costs and maintenance cost low, automatic operation, can realize unmanned management operations. | |
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