在化學鍍鎳過程中，需要還原劑提供電子給鎳離子，以便鎳離子還原為鎳金屬，在大多數(shù)的化學鍍液中，多采用次磷酸鈉為還原劑，這就導致清洗廢水中含有磷，而且磷的狀態(tài)多為次亞磷，湛清環(huán)保實驗室研發(fā)人員針對含磷電鍍廢水，針對性地研發(fā)了除磷劑HMC-P3，解決電鍍廢水含磷不達標問題。除磷劑 次亞磷去除劑 全國銷售 表三標準 清華技術

    1.電鍍含次磷廢水的傳統(tǒng)工藝

    傳統(tǒng)除磷工藝多采用石灰或者其他鋁鹽所制成的除磷劑除磷，這種除磷劑能夠與正磷結合形成沉淀，從而把磷去除，對于一些含磷廢水比較適用；然而對于化學鍍鎳廢水中的磷，由于其狀態(tài)是次磷，無法與石灰生成穩(wěn)定的沉淀物，因此用傳統(tǒng)的工藝法無法使電鍍廢水除磷達標。也有不少環(huán)保公司提出使用芬頓氧化技術或者次氯酸鈉氧化技術先把次磷氧化為正磷，而后再加除磷劑進行除磷，但是由于芬頓氧化技術有限，無法*把次磷氧化為正磷，因此使用該法除磷時，無法把磷做到0.5ppm以下，只能達到幾個ppm，甚至在10以上。除磷劑 次亞磷去除劑 全國銷售 表三標準 清華技術

    2.除磷劑HMC-P3在電鍍含次磷廢水的應用

    湛清環(huán)保除磷劑HMC-P3，針對電鍍廢水除磷，能夠去除電鍍廢水中的次亞磷，與傳統(tǒng)處理辦法不同，HMC-P3是一種多相無機鹽，在催化劑催化作用下，能夠通過均相共沉淀的原理與次亞磷結合形成沉淀物，從而把次磷去除，通過湛清環(huán)保實驗人員的無數(shù)次實驗驗證，電鍍廢水次磷的濃度經(jīng)處理可以降低至0.5ppm以下，*達到國家表三排放標準。    
    3. 除磷劑HMC-P3的使用方法
    湛清環(huán)保研發(fā)的除磷劑HMC-P3適用于電鍍行業(yè)加工清洗產生的電鍍廢水、電子制造加工行業(yè)零部件生產加工的廢水、磷單質水解廢水等。
    使用湛清環(huán)保除磷劑P3，操作簡單，首先運用傳統(tǒng)工藝將廢水調節(jié)pH值至酸性，然后根據(jù)廢水量分別加入適量的次磷去除劑和雙氧水，反應達到一定時間后，再將廢水pH值調節(jié)至中性，加入絮凝劑，經(jīng)一定時間再次沉淀后，出水，磷即可達標。除磷劑P3因其操作相對簡單，處理成本低，出水清澈透明，具有除磷、除重金屬、降COD等多重功效，因而被電鍍生產廠商、電子制造加工廠商們廣泛應用。