旋渦氣泵使用在真空鍍膜的趨勢所在
當(dāng)今鍍膜行業(yè)應(yīng)用的制作 法子 首要有兩種，一種是化學(xué)氣相沉積，也就是化學(xué)鍍膜（CVD），一種是物理氣相沉積，也就是真空鍍膜（PVD）。
化學(xué)鍍膜是把含有構(gòu)成薄膜元素的氣態(tài)反應(yīng)劑或液態(tài)反應(yīng)劑的蒸氣及反應(yīng)所需其它氣體引入反應(yīng)室，在襯底表面產(chǎn)生化學(xué)反應(yīng)生成薄膜的歷程。在化學(xué)鍍膜的歷程中，容易產(chǎn)生 溶液污染，如果鍍件表層雜質(zhì)多，鍍出來的效果 不好。
化學(xué)鍍膜需要 的反應(yīng)溫度很高，一般要把持在1000℃左右，但很多基體材料 是無法經(jīng)受如此高溫，即使是硬質(zhì)合金，雖然能經(jīng)受高溫，但在化學(xué)鍍膜制作 的環(huán)境下由于高溫也會(huì)造成晶粒粗大，引起脆性相，性能變壞。如果在硬質(zhì)合金刀具上蒸鍍Tin，基體擴(kuò)散出來的碳會(huì)與溶液產(chǎn)生反應(yīng)而形成脫碳層，該層韌性差，抗彎強(qiáng)度低，造成刀具應(yīng)用壽命縮短。
匯成真空科技研發(fā)的真空鍍膜機(jī)很好的解決了化學(xué)鍍膜產(chǎn)生 的一系列問題。真空鍍膜是在真空條件下，采納低電壓、大電流的電弧放電技巧，利用 氣體放電使靶材蒸發(fā)并使被蒸發(fā)物質(zhì) 與氣體都產(chǎn)生電離，利用 電場的加速作用，使被蒸發(fā)物質(zhì) 及其反應(yīng)產(chǎn)物沉積在工件上。
所有的鍍層材料 都是在真空的環(huán)境下通過等離子體沉積在工件表面，解決了化學(xué)鍍膜中的溶液污染問題，不會(huì)產(chǎn)生 有毒或有污染的物質(zhì) ，鍍出來的膜層硬度更高，耐磨性和耐腐化性好，性能更穩(wěn)固。真空鍍膜工藝處理 的溫度可以把持在150～500℃以下，實(shí)用于多種基體材料 ，可制備多姿多彩的膜層，鍍制硬質(zhì)合金刀具可使其壽命進(jìn)步 2～10倍。
由此可見，真空鍍膜是鍍膜行業(yè)發(fā)展的必定趨勢，其利用已經(jīng)引起了世界各國制作業(yè)的高度器重，對(duì)環(huán)境無污染，符合現(xiàn)代綠色制作的發(fā)展方向，從二十世紀(jì)50年代起頭，化學(xué)鍍膜就逐步被真空鍍膜代替。
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