PLASMA等離子體去膠機(jī)概要: |
該設(shè)備是適用于硅基半導(dǎo)體及化合物半導(dǎo)體前后道的等離子體去膠設(shè)備,可用于光刻膠灰化/殘膠去除和表面處理,該系列有兩種配置分別兼容4“/6”/8“或8“/12“晶圓。設(shè)計(jì)緊湊占地面積小,設(shè)備穩(wěn)定可靠、易于維護(hù)、產(chǎn)能高。
PLASMA等離子體去膠機(jī)特點(diǎn): |
兼容晶圓尺寸為:4 ” /6 ” /8”或8 ” /12 ” |
支持2 個開放式晶圓匣或SMIF |
高精度3 軸機(jī)械手 |
2種可選等離子體源: ? RPS (400KHz Toroidal遠(yuǎn)程等離子體源 ) ? 電感耦合等離子體源 (13.56MHz) |
高密度等離子體,去膠速率快 |
優(yōu)異的均勻性和重復(fù)性 |
占地面積小 |
耗材成本(COC)和使用成本(COO)低 |
人性化的人機(jī)交互操作系統(tǒng) |
工業(yè)計(jì)算機(jī)Windows |
需要詳細(xì)參數(shù)資料,請聯(lián)系我們