腔體材質(zhì)： 不銹鋼表面處理
供電電源： AC220V
工作電流： 整機(jī)工作電流不大于1.2A(不含真空泵)
射頻電源功率： 0-500W可調(diào)
射頻頻率： 40KHZ（偏移量小于0.2KHz）/ 13.56MHz
頻率偏移量： 小于0.2KHz
特性阻抗： 50歐姆，自動(dòng)匹配
真空度： 1pa-30Pa
氣體路數(shù)： 雙路氣體輸入
氣體流量： 10—300ml/min(可調(diào))
過程控制： PLC人機(jī)界面自動(dòng)與手動(dòng)方式
清洗時(shí)間： 1-99999秒鐘可調(diào)
功率大小 10%-99%可調(diào)
內(nèi)腔尺寸 220 ×280×180mm 10L
外形尺寸： 650 ×550×440mm
真空泵： 2XZ-4（抽速4L/S）
真空室溫度： 小于30°C
冷卻方式： 強(qiáng)制風(fēng)冷

根據(jù)用途的不同，可選用多種構(gòu)造的等離子清洗設(shè)備，并可通過選用不用種類的氣體，調(diào)整裝置的基本結(jié)構(gòu)大致是相同的，一般裝置可由真空室、真空泵、高頻電源、點(diǎn)擊、氣體導(dǎo)入系統(tǒng)、工作傳送系統(tǒng)和控制系統(tǒng)等部分組成。通常使用的真空泵是旋轉(zhuǎn)油泵，高頻電源通常用13.56MHz的無線電波，設(shè)備的運(yùn)行過程如下：
（1） 被清洗的工件送入真空室并加以固定，啟動(dòng)運(yùn)行裝置，開始排氣，使真空室的真空程度達(dá)到10Pa左右的標(biāo)準(zhǔn)真空度。一般排氣時(shí)間大約需要2min。
（2） 向真空室引入等離子清洗用的氣體，并使其壓力保持在10pa以內(nèi)。根據(jù)清洗材質(zhì)的不用，可分別選用氧氣、氫氣、或氮?dú)獾葰怏w。
（3） 在真空室內(nèi)的電極與接地裝置之間施加高頻電壓，使氣體被擊穿，并通過輝光放電而發(fā)生離子化和產(chǎn)生等離子體。讓在真空室產(chǎn)生的等離子體籠罩在被處理工件，開始清洗作業(yè)。一般清洗處理持續(xù)幾十秒到幾分鐘。
（4） 清洗完畢后切斷高頻電壓，并將氣體及汽化的污垢排出，同時(shí)向真空室內(nèi)鼓入氣體，并使氣壓升至一個(gè)大氣壓.

如今，等離子清洗技術(shù)已經(jīng)成為微電子，LED，手機(jī)，汽車，醫(yī)療等許多行業(yè)面臨的挑戰(zhàn)問題的可行解決方案。當(dāng)然，這與等離子清洗技術(shù)本身的優(yōu)勢(shì)密不可分。
（1）等離子清洗整個(gè)過程是環(huán)保干洗，清洗介質(zhì)為氣體；清洗對(duì)象經(jīng)等離子清洗之后是干燥的，不需要再經(jīng)干燥處理即可送往下一道工序。大大提高整個(gè)工藝流水線的處理效率。（2）避免使用有害溶劑和昂貴的清洗劑，這樣清洗后不會(huì)產(chǎn)生有害污染物，因此這種清洗方法屬于環(huán)保的綠色清洗方法。這在高度關(guān)注環(huán)保的情況下越發(fā)顯出它的重要性。（3）等離子體的方向性不強(qiáng)，這使得它可以深入到物體的微細(xì)孔眼和凹陷的內(nèi)部完成清洗任務(wù)，因此不需要過多考慮被清洗物體的形狀。而且對(duì)這些難清洗部位的清洗效果與氟利昂清洗的效果相似甚至更好。（4）在完成清洗去污的同時(shí)，還可以改善材料本身的表面性能。如提高表面的潤(rùn)濕性能、改善膜的黏著力等，這在許多應(yīng)用中都是非常重要的。
深圳三和波達(dá)機(jī)電科技有限公司，可為客戶提供不同規(guī)格和型號(hào)的等離子清洗機(jī)，從而滿足廣大客戶的不用需求。我們生產(chǎn)的等離子清洗機(jī)不僅質(zhì)量安全又保障，作用效果明顯，且經(jīng)久耐用，同行業(yè)內(nèi)價(jià)格相對(duì)較低。目前已與多家企業(yè)和大學(xué)合作。望各位需要設(shè)備的客戶業(yè)務(wù)，求得共同發(fā)展。