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X射線光電子能譜儀(XPS)

參考價面議
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  • 公司名稱無錫創(chuàng)輝測量技術有限公司
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  • 廠商性質其他
  • 更新時間2024/1/27 11:33:27
  • 訪問次數167
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無錫創(chuàng)輝測量技術有限公司是一家科技創(chuàng)新型企業(yè)。公司以創(chuàng)新研發(fā)為核心,重視客戶服務感受;為中國現代制造業(yè)提供精密測量技術、工業(yè)自動化技術領域的全方面產品和技術解決方案。公司生產銷售:二次元影像測量儀、三坐標測量機、三維掃描測量系統、定制自動化測量設備。公司代理銷售:? 法國KREON科瑞朗關節(jié)臂三坐標測量機、掃描測量臂、三維藍光掃描測量系統;? 美國Thermo Scientific 賽默飛世爾ARL系列直讀光譜儀、Niton尼通系列手持式光譜分析儀;? 德國GOM ATOS系列工業(yè)三維光學掃描測量儀;? 德國ZEISS蔡司工業(yè)X射線和CT檢測系統,SEM掃描電子顯微鏡;? 英國Renishaw雷尼紹測頭、測針、光柵尺、編碼器,機床測頭、對刀儀、激光干涉儀、球桿儀、三維測量比對儀等全系列產品。 公司擁有*的測量軟件、控制系統的核心技術,以及整機機電的整合能力。為客戶提供完善的測量解決方案并承接非標測量設備的設計制造。公司附屬CNAS認證第三方測量實驗室及測量儀器教學培訓中心,可為企業(yè)、院校、研究機構提供三維尺寸測量、三維掃描、逆向工程制圖以及測量儀器操作應用培訓等服務。 公司目標 — 中國現代制造業(yè)專業(yè)服務商!
全自動消解儀
X射線光電子能譜儀(XPS)X射線光電子能譜是分析物質表面化學性質的一項技術
X射線光電子能譜儀(XPS) 產品信息
X射線光電子能譜儀(XPS)
X射線光電子能譜是分析物質表面化學性質的一項技術。XPS可測量材料中元素組成、經驗公式、元素化學態(tài)和電子態(tài)。用一束X射線激發(fā)固體表面,同時測量被分析材料表面1-10nm內發(fā)射出電子的動能,而得到XPS譜。光電子譜記錄超過一定動能的電子。光電子譜中出現的譜峰為原子中一定特征能量電子的發(fā)射。光電子譜峰的能量和強度可用于定性和定量分析所有表面元素(氫元素除外)。

隨著對高性能材料需求的不斷增長,表面工程隨之顯得越來越重要。只有了解材料層表面處和界面處的物理和化學相互作用,才能解決許多與現代材料相關的問題。 表面化學特性將影響材料的諸多方面,如腐蝕速率、催化活性、粘合性、表面潤濕性、接觸勢壘和失效機理。

材料的表面是材料與外部環(huán)境及與其它材料相互作用的位置。所以,在許多應用領域中,用表面修飾改變或改進材料性能和特性。材料經處理(如斷裂、切割或刮削)后,XPS可用于分析其化學特性。從不粘鍋涂層到薄膜電子學和生物活性表面,XPS成為表面材料表征的標準工具。

表面表征
表面層定義為大于3個原子層厚度(~1 nm),根據不同材料,表面層厚度不同。認為不超過約10納米表面層為超薄層薄膜,不超過1μm為薄膜。但是名詞術語并沒有明確定義,隨不同材料和應用,表面層、超薄膜和薄膜之間差異有所變化。
表面表示一種相與另一種相之間的不連續(xù),所以表面的物理化學性質與體相物質不同。這種差異在很大程度上影響材料最頂部原子層。在材料內部按一定規(guī)則一個原子在各方向上被材料中的原子包圍。由于表面原子并不能在所有方向上被原子包圍,表面原子比體內活潑,有可能成鍵。

表面特性
材料的性能和改性處理隨深度或厚度而變化,對于一定性能和改性處理,隨深度變化顯得比較重要。表面分析可深入到每一個領域。在一些工藝技術領域中表面和表面分析較為重要,包括:
  • 半導體、微電子學
  • 微電路
  • 超薄膜
  • 線路板軟焊
  • 清潔處理
  • 薄膜穩(wěn)定
  • 鈍化層
  • 潤滑
  • 化工
  • 塑料、涂層
  • 催化劑
  • 纖維
  • 金屬鋼鐵工業(yè)
  • 氮化、碳化
  • 腐蝕
  • 焊接
  • 材料老化
  • 晶界分凝
  • 玻璃
  • 涂層
  • 發(fā)動機、電子設備
  • 潤滑
  • 腐蝕
  • 氧化
  • 材料老化、失效
  • 合成纖維
  • 粘合劑


光電發(fā)射過程
原子或分子吸收X射線光子,電子被激發(fā)出來。光電子動能依賴于光子能量(hν)和電子結合能(即電子離開表面所需能量)。
通過測量發(fā)射電子的動能,計算電子結合能,確定材料的近表面處元素及其化學態(tài)。結合能與許多因素有關,包括:
  * 發(fā)射電子的元素
  * 發(fā)射電子的軌道
  * 發(fā)射電子原子的化學環(huán)境

The photoemission process involved for XPS surface analysis. The discs represent electrons and the bars represent energy levels within the material being analyzed. The equation governing the process is: KE = hν - BE


光電子能譜技術
為了說明XPS譜,在寬能量范圍內掃描了一張氧化鋇的全譜。在這張譜上有多個鋇和氧的峰以及表面雜質碳峰。用現代XPS能譜儀,這張氧化鋇的譜采集約10秒鐘。由于氧化鋇為絕緣體,在分析期間,在樣品上導入一束低能電子控制樣品荷電。在譜圖中譜峰下方出現了明顯的背景,這是由于電子在逃逸樣品前發(fā)生非彈性散射所致。這種非彈性散射降低了電子的動能和譜峰的強度。定量分析譜之前必須扣除背景。
Survey spectrum from barium oxide showing various barium and oxygen peaks and a carbon peak.
氧化鋇全譜,圖中出現了鋇和氧的多個峰和碳峰。

從XPS譜中也可以確定化學價態(tài)。 此處給出兩種方法處理聚對苯二甲酸乙二醇酯(PET)的C1s XPS譜。這兩個樣品的處理方法不同,一個是旋涂,另一個是切片PET。PET中的碳原子出現了3種化學態(tài)。兩種處理方法導致了不同的聚合物構形,也影響了XPS譜使得(-O-C-)峰發(fā)生微小移動。
聚對苯二甲酸乙二醇酯( PET )旋涂和切片的 C1s 的 XPS 譜。碳有 3 個不同的化學態(tài)。內插圖中給出了 PET 結構。(英國 Daresbury RUSTI, G Beamson 提供譜)
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