氮?dú)夂嫦?,掩膜板烘?/strong>使用工藝
在掩膜版的生產(chǎn)制造過(guò)程中,掩膜版基板在光阻涂布后會(huì)有一個(gè)烘烤的環(huán)節(jié),又稱(chēng)為前烘。目的是用加熱蒸發(fā)的方式祛除掩膜版上光阻中多余的溶劑,增強(qiáng)光阻與掩膜版基板之間的粘附力,并使光阻起到固化的作用;同時(shí),涂覆光阻后的掩膜版在曝光顯影后也需要做顯影后烘,目的是祛除掩膜版上多余的水分、殘留溶劑和消除駐波效應(yīng)。
掩膜版制作工藝,包括如下步驟:S1、涂膠:提供一光學(xué)高分子PC復(fù)合板材,在所述光學(xué)高分子PC復(fù)合板材表面旋涂抗反射中性密著層,在所述抗反射中性密著層上旋涂中性UV光刻膠;S2、光刻:通過(guò)光刻直寫(xiě)掩膜機(jī)對(duì)中性UV光刻膠進(jìn)行激光曝光;S3、顯影:將光刻后的光學(xué)高分子PC復(fù)合板材置于一顯影槽進(jìn)行浸泡顯影,所述顯影槽內(nèi)設(shè)有顯影液;S4、堅(jiān)膜。
氮?dú)夂嫦?,掩膜板烘?/strong>性能
全周激光滿(mǎn)焊,SUS304#不銹鋼電熱產(chǎn)生器,防機(jī)臺(tái)本身產(chǎn)生微塵;
采用特殊風(fēng)道,水平送風(fēng),溫度均勻性佳;
可定值運(yùn)行,多段程序運(yùn)行;
設(shè)備采用雙腔室一體設(shè)計(jì),獨(dú)立控制,節(jié)省空間;
溫度范圍: RT+10~200、300/400℃;
溫度均勻度:≤±1.5℃;
潔凈度:class100/1000,適用潔凈間;
設(shè)備尺寸:定制
計(jì)時(shí)功能:0~ 99H99M可調(diào),到溫計(jì)時(shí),計(jì)時(shí)完成蜂鳴并停止加熱;
降溫方式:可選配
保溫材料:超細(xì)陶瓷纖維;
隔 板:1-10層,;
溫度測(cè)量傳感器:高精度鉑電阻;