應(yīng)用
儀表可以進行下列測量：
• E+H液晶顯示信號遠傳PMP51系列壓力變送器所有過程領(lǐng)域和過程測量技術(shù)中氣體、蒸汽或液體的絕壓和表壓測量
• 液體的液位、體積或質(zhì)量測量
• 高過程溫度
– 不帶隔膜密封系統(tǒng)：max. 130°C (266°F) ；在 60 min 內(nèi)，max. 150 °C (302 °F)
– 帶隔膜密封系統(tǒng)：max. 400°C (752°F)
• 高壓力，max. 400 bar (6000 psi)
• 通過多項國際認證，應(yīng)用廣泛
優(yōu)勢
• 重復性和長期穩(wěn)定性
• 高參考測量精度：max. ±0.15 % ；鉑金型：max. ±0.075%
• 量程比：max. 100:1
• 標準化平臺，適用于差壓變送器 (Deltabar S)、靜壓變送器 (Deltapilot S) 和壓力
變送器 (Cerabar S)
• 使用滿足現(xiàn)實應(yīng)用的用戶接口，調(diào)試簡單、快速
• 過程壓力監(jiān)測的安全等級為 SIL2，通過 TüV NORD 認證，符合 IEC 61508
標準 (2.0 版 ) 和 IEC 61511 標準
• 隔膜密封系統(tǒng)采用新型 TempC 膜片：
最小溫度效應(yīng)、膜片厚度和短復原時間
• 提供 ASME-BPE 認證型儀表
陶瓷傳感器是非充油型傳感器 ( 干式傳感器 )。過程壓力直接作用在堅固耐用的陶瓷過程隔離膜片
上，導致膜片發(fā)生形變。測量陶瓷基板上的電極和過程隔離膜片上與壓力成比例關(guān)系的電容變化
量。陶瓷過程隔離膜片的厚度確定測量范圍。
優(yōu)點：
• 抗過載能力為 40 倍標稱壓力
• 采用 99.9% 超純陶瓷
– 化學穩(wěn)定性，可與 Alloy C 合金媲美
– 低松弛度
– 高機械穩(wěn)定性
• 可在真空中使用
• 超高表面光潔度 Ra ￡ 0.3 mm (11.8 min)
PMP51
在工作壓力作用下過程隔離膜片發(fā)生形變。填充液將壓力傳輸至電阻橋路上 ( 半導體技術(shù) )。測量
與壓力相關(guān)的橋路輸出電壓，并進行后續(xù)處理。
優(yōu)點：
• 可在過程壓力不超過 400 bar (6000 psi) 的條件下測量
• 高長期穩(wěn)定性
• 抗過載能力為 4 倍標稱壓力
• 相比于隔膜密封系統(tǒng)，熱效應(yīng)影響顯著降低
PMP55
工作壓力作用在隔膜密封系統(tǒng)的過程隔離膜片上，隔膜密封系統(tǒng)中的填充液將壓力傳輸至傳感器
的過程隔離膜片上。過程隔離膜片發(fā)生形變，填充液將壓力傳輸至電阻橋路上。測量與壓力相關(guān)
的橋路輸出電壓，并進行后續(xù)處理。
優(yōu)點：
• 取決于儀表型號，可在過程壓力不超過 400 bar (6000 psi) 和高過程溫度條件下測量
• 高長期穩(wěn)定性
• 抗過載能力為 4 倍標稱壓力
優(yōu)勢
• E+H液晶顯示信號遠傳PMP51系列壓力變送器在儀表軟件中選擇不同的液位測量模式
• 通過用戶自定義特征曲線可在任意形狀的罐體中進行體積和質(zhì)量測量
• 多種液位測量單位可選
• 應(yīng)用廣泛，即使在下列情形中：
– 泡沫液面
– 帶攪拌器或屏蔽裝置的罐體
– 液化氣體
