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全自動(dòng)化學(xué)吸附儀

參考價(jià)面議
具體成交價(jià)以合同協(xié)議為準(zhǔn)
  • 公司名稱貝士德儀器科技(北京)有限公司
  • 品       牌
  • 型       號(hào)BSD-MC
  • 所  在  地
  • 廠商性質(zhì)其他
  • 更新時(shí)間2023/7/31 16:32:33
  • 訪問(wèn)次數(shù)181
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貝士德儀器科技(北京)有限公司是專業(yè)物理吸附類分析儀制造商,集研發(fā)、生產(chǎn)、銷售、技術(shù)支持,售后服務(wù)為一體;貝士德儀器擁有專業(yè)技術(shù)團(tuán)隊(duì),累計(jì)獲得50項(xiàng)技術(shù);以多項(xiàng)獲得09年新標(biāo)準(zhǔn)的北京;2011年通過(guò)ISO9001國(guó)家質(zhì)量體系認(rèn)證;2012年4月,獲得北京市科委創(chuàng)新基金支持;2012年10月,獲得國(guó)家*創(chuàng)新基金支持;貝士德儀器獨(dú)立的工廠建筑面積5000平米以上,公司注冊(cè)資本500萬(wàn)人民幣,規(guī)模國(guó)內(nèi)。 貝士德儀器公司自行研發(fā)的BSD系列(原3H-2000)系列物理吸附類分析儀,為國(guó)內(nèi),由2000年進(jìn)入市場(chǎng)的3H-2000型發(fā)展而來(lái),經(jīng)過(guò)多年的不斷研發(fā)創(chuàng)新,其中多項(xiàng)性能指標(biāo)超越進(jìn)口儀器,是國(guó)內(nèi)高精度物理吸附類分析儀的*。 BSD系列物理吸附類分析儀被廣泛用于化工、催化劑、炭化學(xué)、磁性材料、陶瓷,電池行業(yè)的研發(fā)、生產(chǎn)、分析、監(jiān)測(cè)環(huán)節(jié)。儀器*的技術(shù)和穩(wěn)定的性能及優(yōu)質(zhì)的售后服務(wù),受到客戶的信賴和好評(píng)。我公司擁有國(guó)內(nèi)龐大的客戶群,包括眾多*所、高校和企業(yè)(部分客戶見--典型客戶),并遠(yuǎn)銷日本、哈薩克斯坦、斯里蘭卡等國(guó)家。 2011年上海辦事處及實(shí)驗(yàn)室成立;2012年9月,廣州辦事處及實(shí)驗(yàn)室成立;2016年武漢辦事處成立;辦事處實(shí)驗(yàn)室配有各個(gè)型號(hào)的樣機(jī),可實(shí)地為可以測(cè)試樣品;各個(gè)辦事處具有2-3名技術(shù)人員和銷售工程師,可及時(shí)便捷的為客戶提供技術(shù)服務(wù)于支持;
BSD-CS全自動(dòng)化學(xué)吸附儀AutomaticChemisorptionAnalyzer一、標(biāo)準(zhǔn)功能1
全自動(dòng)化學(xué)吸附儀 產(chǎn)品信息
BSD-CS 全自動(dòng)化學(xué)吸附儀
Automatic Chemisorption Analyzer
一、標(biāo)準(zhǔn)功能

1.程序升溫脫附(TPD)
2.程序升溫還原(TPR)
3.程序升溫氧化(TPO)
4.程序升溫表面反應(yīng)(TPSR)
5.程序升溫硫化(TPS)
6.脈沖滴定
7.BET 比表面積
 
二、技術(shù)參數(shù)
 
 
三、儀器氣路結(jié)構(gòu)
 
 
 
 
四、報(bào)告內(nèi)容

1.吸附劑表面活性中心類型
根據(jù)脫附峰的數(shù)量來(lái)判定活性中心的種類,一個(gè)峰即對(duì)應(yīng)一種活性中心。
 
2.不同類型活性中心的數(shù)目
根據(jù)峰面積來(lái)計(jì)算每一種活性中心的數(shù)量。
 
3.活性中心與吸附質(zhì)氣體結(jié)合強(qiáng)度
根據(jù)脫附峰Tm 的大小判定活性中心與吸附質(zhì)氣體結(jié)合鍵能的強(qiáng)弱,Tm 越大鍵能越大。
 
4.吸附及脫附活化能
根據(jù) Wigner-Polanyi 模型求得脫附活化能;同時(shí)根據(jù)其擴(kuò)展公式可求得吸附及脫附動(dòng)力學(xué)和熱力學(xué)的全部參數(shù)。
 
5.金屬分散度
金屬分散度是指催化劑表面金屬原子與催化劑總金屬原子數(shù)的比值,計(jì)算公式如下:
 
上式中 DM 為金屬分散度,Va 為標(biāo)況下吸附的吸附質(zhì)氣體的體積單位為 L, N0 為阿伏
伽德羅常數(shù),W(g)為催化劑總質(zhì)量,P 為催化劑中所有金屬的質(zhì)量分?jǐn)?shù),M 為金屬的相對(duì)分子量,Sloop 為定量環(huán)產(chǎn)生的峰面積,Vloop 為定量環(huán)標(biāo)況下的體積,Si 為每次脈沖滴定產(chǎn)生的峰面積。
 
6.活性金屬表面積
活性金屬原子面積總和與催化劑中所有金屬原子質(zhì)量比
 
 
 
上式中 SM (m2/g)為活性金屬表面積,n 為吸附劑與吸附質(zhì)氣體分子的系數(shù),Va(L)為吸附質(zhì)
氣體體積, N0 為阿伏伽德羅常數(shù), S0 (nm2)為金屬橫截面積,W(g)為催化劑總質(zhì)量,P 為催化劑中所有金屬的質(zhì)量分?jǐn)?shù)。
 
 
7.平均粒徑大小
 
d(Å)催化劑中活性金屬平均粒徑,Sm(m2/g)催化劑活性比表面積,ρ(g/cm3)催化劑金屬密度。

 

 

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