1.中心加載力方式,一次性固定六個(gè)樣品,完成全部研磨拋光過程,保證磨拋出各個(gè)樣品的完整平面
2.獨(dú)立控制磨拋盤和樣品盤:轉(zhuǎn)速、磨拋時(shí)間、轉(zhuǎn)動(dòng)方向、水閥關(guān)閉等全部磨拋參數(shù);
3.觸摸屏界面:磨拋參數(shù)設(shè)定方便,狀態(tài)顯示直觀,操作簡單;
4.加載力可以在運(yùn)行中調(diào)整,靈活方便。
5.通過用電磁閥來控制水的通斷。
6.輕松更換磁性防粘盤,就能完成各種試樣的粗、精磨及粗、精拋光等所有工序, 一盤等效于N個(gè)盤。
7.精度高,運(yùn)行平穩(wěn),噪音低。
8.樣品磨去層厚度控制:精準(zhǔn)控制樣品的磨去量,磨到位置 (選配);
9.外部滴液器控制:外部滴液器的滴液速度及滴液材料 (選配);
規(guī)格 | WMP-1000X | WMP-2000X | |
工位 | 單盤 | 雙盤 | |
工作盤直徑 | 標(biāo)配φ254mm帶有磁性轉(zhuǎn)換盤系統(tǒng) | ||
磨盤轉(zhuǎn)速 | 100-1000轉(zhuǎn)/分 轉(zhuǎn)向正反轉(zhuǎn)可以切換 | ||
研磨頭轉(zhuǎn)速 | 0-100r/min | ||
制樣時(shí)間范圍 | 0-9999s | ||
加載力范圍 | 30-200N | ||
加載力方式 | 中心加載 | ||
樣品夾持器 | 標(biāo)配φ30mm六個(gè)(選配φ40-φ50mm四個(gè),其余可定制) | ||
電源 | AC220V,50HZ | ||
電機(jī)功率 | 0.75Kw | ||
外形尺寸(長*寬*高) | 760 x 470 x 700 | 760 x 730 x 700 | |
重量 | 90kg | 120kg |