光化學及光催化氧化法是目前研究較多的一項高級氧化技術。所謂光催化反應，就是在光的作用下進行的化學反應。光化學反應需要分子吸收特定波長的電磁輻射，受激產生分子激發(fā)態(tài)，然后會發(fā)生化學反
應生成新的物質，或者變成引發(fā)熱反應的中間化學產物。光化學反應的活化能來源于光子的能量，在太陽能的利用中光電轉化以及光化學轉化一直是十分活躍的研究領域。
光催化氧化技術利用光激發(fā)氧化將O2、H2O2等氧化劑與光輻射相結合。所用光主要為紫外光，包括uv-H2O2、uv-O2等工藝，可以用于處理污水中CHCl3、CCl4、多氯聯(lián)苯等難降解物質。另外，在有紫
外光的Fenton體系中，紫外光與鐵離子之間存在著協(xié)同效應，使H2O2分解產生羥基自由基的速率大大加快，促進有機物的氧化去除。
光降解通常是指有機物在光的作用下，逐步氧化成低分子中間產物最終生成CO2、H2O及其他的離子如NO3-、PO43-、Cl-等。有機物的光降解可分為直接光降解、間接光降解。前者是指有機物分子吸收光能后
進一步發(fā)生的化學反應。后者是周圍環(huán)境存在的某些物質吸收光能成激發(fā)態(tài)，再誘導一系列有機污染的反應。間接光降解對環(huán)境中難生物降解的有機污染物更為重要。
利用光化學反應降解污染物的途徑，包括無催化劑和有催化劑參與的光化學氧化過程。前者多采用氧和過氧化氫作為氧化劑，在紫外光的照射下使污染物氧化分解；后者又稱光催化氧化，一般可分為均相和非均
相催化兩種類型。均相光催化降解中較常見的是以Fe2+或Fe3+及H2O2為介質，通過photo-Fenton反應產生·HO使污染物得到降解，非均相光催化降解中較常見的是在污染體系中投加一定量的光敏半導體材料，
同時結合一定量的光輻射，使光敏半導體在光的照射下激發(fā)產生電子-空穴對，吸附在半導體上的溶解氧、水分子等與電子-空穴作用，產生·HO等氧化性的自由基，再通過與污染物之間的羥基加和、取代、電
子轉移等式污染物全部或接近全部礦化。
1972 年，F(xiàn)ujishima和 Honda在n—型半導體TiO2電極上發(fā)現(xiàn)了光催化裂解水反應，在Nature 上發(fā)表了“Electrochemical photolysis of water at a semiconductor electrode”，揭開了多相光催化新時代
的序幕。
1976 年John. H .Carey等研究了多氯聯(lián)苯的光催化氧化，，被認為是光催化技術在消除環(huán)境污染物方面的性研究工作。1977 年，YokotaT 等發(fā)現(xiàn)在光照條件下,TiO2對丙烯環(huán)氧化具有光催化活性，從而拓寬了
光催化的應用范圍，為有機物氧化反應提供了一條新的思路。自1983 年起，A.L. Pruden和D.Follio就烷烴、烯烴和芳香烴的氯化物等一系列污染物的光催化氧化作了連續(xù)研究，發(fā)現(xiàn)反應物都能迅速降解。1989 年，
Tanaka.K 等人研究發(fā)現(xiàn)有機物的半導體光催化過程由羥基自由基（·OH）引起，在體系中加入H2O2可增加·OH的濃度。進入了90 年代，隨著納米技術的興起和光催化技術在環(huán)境保護、衛(wèi)生保健、有機合成等方面應
用研究的發(fā)展迅速，納米量級的光催化劑的研究，已經成為國際上的研究領域之一。
萊特.萊德 光化學及光催化氧化法是目前研究較多的一項高級氧化技術。所謂光催化反應，就是在光的作用下進行的化學反應。光化學反應需要分子吸收特定波長的電磁輻射，受激產生分子激發(fā)態(tài)，然后會發(fā)生化
學反應生成新的物質，或者變成引發(fā)熱反應的中間化學產物。光化學反應的活化能來源于光子的能量，在太陽能的利用中光電轉化以及光化學轉化一直是十分活躍的研究領域。光催化氧化技術利用光激發(fā)氧化將O2、H
2O2等氧化劑與光輻射相結合。所用光主要為紫外光，包括uv-H2O2、uv-O2等工藝，可以用于處理污水中CHCl3、CCl4、多氯聯(lián)苯等難降解物質。另外，在有紫外光的Fenton體系中，紫外光與鐵離子之間存在著協(xié)
同效應，使H2O2分解產生羥基自由基的速率大大加快，促進有機物的氧化去除。
UV光解凈化器
4.1UV光解空氣凈化器是利用特制的高能高臭氧UV紫外線光束照射惡臭氣體，裂解惡臭氣體的裝置。
一、本產品利用特制的高能高臭氧UV紫外線光束照射惡臭氣體，裂解惡臭氣體如：氨、三甲胺、硫化氫、甲硫氫、甲硫醇、甲硫醚、二甲二硫、二硫化碳和苯乙烯，硫化物H2S、VOC類，苯、甲苯、二甲苯的分子鍵，使
呈游離狀態(tài)的污染物分子與臭氧氧化結合成小分子無害或低害的化合物，如CO2、H2O等。
二、利用高能高臭氧UV紫外線光束分解空氣中的氧分子產生游離氧，即活性氧，因游離氧所攜正負電子不平衡所以需與氧分子結合，進而產生臭氧。
UV+O2→O-+O*(活性氧)O+O2→O3(臭氧),臭氧對有機物具有的氧化作用，對惡臭氣體及其它刺激性異味有的清除效果。
三、惡臭氣體利用排風設備輸入到本凈化設備后，凈化設備運用高能UV紫外線光束及臭氧對惡臭氣體進行協(xié)同分解氧化反應，使惡臭氣體物質其降解轉化成低分子化合物、水和二氧化碳，再通過排風管道排出室外。
四、利用高能UV光束裂解惡臭氣體中細菌的分子鍵，破壞細菌的核酸（DNA），再通過臭氧進行氧化反應，達到脫臭及殺滅細菌的目的。
性能特點
一、高效除惡臭：能高效去除揮發(fā)性有機物（VOC）、無機物、硫化氫、氨氣、硫醇類等主要污染物，以及各種惡臭味，脫臭高可達99%以上，脫臭效果大大超過國家1993年頒布的惡臭污染物排放標準（GB14554-93）．
二、無需添加任何物質：只需要設置相應的排風管道和排風動力，使惡臭氣體通過本設備進行脫臭分解凈化，無需添加任何物質參與化學反應。，
三、適應性強：可適應高濃度，大氣量，不同惡臭氣體物質的脫臭凈化處理，可每天24小時連續(xù)工作，運行穩(wěn)定可靠。
四、運行成本低：本設備無任何機械動作，無噪音，無需專人管理和日常維護，只需作定期檢查，本設備能耗低，（每處理1000立方米/小時，僅耗電約0.2度電能），設備風阻極低<50pa,可節(jié)約大量排風動力能耗。
五、無需預處理：惡臭氣體無需進行特殊的預處理，如加溫、加濕等,設備工作環(huán)境溫度在攝氏-30℃－95℃之間，濕度在30%－98%、PH值在2-13之間均可正常工作。
六、設備占地面積小，自重輕：適合于布置緊湊、場地狹小等特殊條件，設備占地面積<1平方米/處理10000m3/h風量。
七、優(yōu)質進口材料制造：防火、防爆、防腐蝕性能高，設備性能安全穩(wěn)定，采用不銹鋼材質，設備使用壽命在十五年以上。
八、環(huán)保高科技產品：采用國際上技術理念，通過專家及我公司工程技術人員長期反復的試驗，開發(fā)研制出的，具有自主知識產權的高科技環(huán)保凈化產品，可分解惡臭氣體中有毒有害物質，并能達到的
脫臭效果，經分解后的惡臭氣體，可達到無害化排放，絕不產生二次污染，同時達到高效消毒殺菌的作用。
適用范圍
UV高效光解凈化設備適用范圍：煉油廠、橡膠廠、化工廠、制藥廠、污水處理廠、垃圾轉運站等惡臭氣體的脫臭凈化處理。
