等離子水洗Local Scrubber設(shè)備:去除半導(dǎo)體Dry Etch、ThinFilm、Diffusion等晶圓工藝制程中使用或產(chǎn)生的PFC溫室氣體和有毒有害氣體,如:CF4、NF3、SF6、C2F6、CHF3、CH2F2等。
原理
通過直流電源,使工作氣體(氮氣)進入等離子體反應(yīng)器,在正負(fù)電流的作用下,被電離成等離子體,瞬間產(chǎn)生巨大的火焰,產(chǎn)生的高溫火焰將廢氣分解。
優(yōu)勢
- 去除效率高,不需要燃料和熱源,耗能低;
- 處理高沸點廢氣,應(yīng)用范圍廣;
- 高溫、反應(yīng)速度快,
- 設(shè)備占地面積小、便于安裝;
本裝置的直流電弧等離子體為非轉(zhuǎn)移型,兩電極區(qū)域不參與反應(yīng),只產(chǎn)生等離子體,產(chǎn)生的火焰溫度可達(dá)3000度以上。
等離子反應(yīng)器的MTBF大于1年,反應(yīng)室內(nèi)腔的材質(zhì)耐熱和耐腐,具有四個進氣口,裝置具備冷卻區(qū)、噴淋區(qū)及兩級填料除霧區(qū),對PFC溫室氣體的去除效率>90%。
性能參數(shù)
去除效率 | CF4>90%@150slm、NF3>95%@300slm |
MTBF | >6months; |
MTTR | <1.5hr |
材質(zhì) | 內(nèi)腔PTEE、水箱CPVC |
等離子弧使用壽命 | >1year |
尺寸(mm) | 800*800*1850 |
進氣口 | NW50*4 |
耗能 | 12kw for CF4>90%;9kw for NF3>95% |
水量 | <4slm |