otsukael靜態(tài)光散射光度計 積分光度計SLS-6500HL的介紹
除了可以進行高精度薄膜分析的分光橢圓偏光法外，它還通過實現(xiàn)自動可變測量角度機構來兼容所有類型的薄膜。除了傳統(tǒng)的旋轉分析器方法外，還通過為延遲板提供自動安裝/拆卸機構提高了測量精度。
特征：
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可在紫外-可見（300 至 800 nm）波長范圍內測量橢圓參數(shù)
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能夠分析納米級多層薄膜的膜厚
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通過 400 通道或更多通道的多通道光譜快速測量橢圓光譜
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支持通過可變反射角測量對薄膜進行詳細分析
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通過創(chuàng)建光學常數(shù)數(shù)據(jù)庫和添加配方注冊功能提高可操作性
測量項目
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橢圓參數(shù)（tanψ，cosΔ）測量
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光學常數(shù)（n：折射率，k：消光系數(shù)）分析
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膜厚分析
測量對象
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半導體ウェーハ
ゲート酸化薄膜，窒化膜
SiO2，SixOy，SiN，SiON，SiNx，Al2O3，SiNxOy，poly-Si，ZnSe， BPSG，TiN
レジストの光學定數(shù)(波長分散) -
化合物半導體
AlxGa(1-x)As 多層膜，アモルファスシリコン -
FPD
配向膜 -
各種新素材
DLC(Diamond Like Carbon)，超伝導用薄膜，磁気ヘッド薄膜 -
光學薄膜
TiO2，SiO2，反射防止膜 -
リソグラフィー分野
g線(436nm)，h線(405nm)，i線(365nm)などの各波長におけるn，k評価
