對(duì)于工程師來說，識(shí)別介質(zhì)/平面基底的納米級(jí)缺陷的任務(wù)是一個(gè)非常耗時(shí)的過程，Park NX-HDM原子力顯微鏡系統(tǒng)可以自動(dòng)缺陷識(shí)別，通過與各種光學(xué)儀器的聯(lián)用可以提高缺陷檢測效率，越來越多的行業(yè)需要超平的介質(zhì)和基板來滿足不斷縮小的設(shè)備需求，Park NX-HDM原子力顯微鏡系統(tǒng)具有業(yè)界0.5埃噪音，并將與其真正的非接觸式模式相結(jié)合實(shí)現(xiàn)亞埃級(jí)表面粗糙度的測試。
基本技術(shù)參數(shù)
200 mm電動(dòng)XY平臺(tái) | 電動(dòng)Z平臺(tái) | 噪音 |
行程可達(dá)150mm x 150mm, 2 μm重現(xiàn)性 0.095nm分辨率 | 25 mm Z行程距離 0.1μm 分辨率 小于1μm 重現(xiàn)性 | 小于 0.5 μm/s |
尺寸&重量 | 控制箱 | 設(shè)備需求環(huán)境 |
880（w）x 880（d）x 880（h） 620kg | 600（w）x 900（d）x 1330（h） 170kg | 室溫10 ℃~40 ℃ 操作18 ℃~24 ℃ 濕度 30%~60% |
主要功能
1) 快速自動(dòng)缺陷檢測功能
2) 亞埃級(jí)表面粗糙度的測量
3) 有最小的熱漂移，自動(dòng)分析測量的數(shù)據(jù)
4) 在線監(jiān)測測試過程，
應(yīng)用
自動(dòng)檢測缺陷
相關(guān)文獻(xiàn)
Foucher; R Therese; Y. Lee; S.-I. Park; S-J. Proc. SPIE 8681,Metrology, Inspection, and Process Control for MicrolithographyXXVII, 868106 (April 18, 2013); doi:10.1117/12.2011463
